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题名半导体设备真空与检漏
被引量：2
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作者
申承志
郝晓亮
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机构
中国电子科技集团公司第十三研究所
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第7期644-646,657,共4页
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文摘
基于实际应用,介绍了半导体设备真空结构和真空室常用部件,讲述了He质谱检漏仪的使用方法。总结了真空检漏的经验,阐述了微漏难检的现状。分析了磁控溅射台和ICP真空故障,采用静压检漏法和He质谱检漏仪检漏法,给出了零部件微漏导致这些设备抽不上高真空的结论。指出今后的发展方向是真空部件小型化,以及根据设备特点来提高真空部件的可靠性。结果表明,先排除干扰因素,再细心检漏,可大大提高检漏效率,使设备尽快恢复正常。
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关键词
检漏
半导体设备
he质谱检漏仪
真空泵
真空
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Keywords
leakage detection
semiconductor equipment
He gas mass spectrum leak detector
vacuum pump
vacuum
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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