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采用H^+-ISFET的便携式上消化道pH值记录仪的研制
被引量:
2
1
作者
李向明
韩泾鸿
+2 位作者
张虹
李亚亭
梁卫国
《中国生物医学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期83-87,共5页
上消化道 pH值记录仪是为临床医学上对胃、食管的 pH值进行长时间监测而专门设计的仪器。本文介绍了一种便携式的上消化道 pH值记录仪的研制。它采用H+ ISFET和内参比电极组成的双通道上消化道pH值传感器 ,以高性能的嵌入式微控制器为...
上消化道 pH值记录仪是为临床医学上对胃、食管的 pH值进行长时间监测而专门设计的仪器。本文介绍了一种便携式的上消化道 pH值记录仪的研制。它采用H+ ISFET和内参比电极组成的双通道上消化道pH值传感器 ,以高性能的嵌入式微控制器为控制核心 ,在 2节普通 5号电池供电、采样间隔 4s、同时记录 2通道 pH值的条件下可稳定工作 2 4h以上 ,pH值测量误差小于 0 .1。仪表轻便 ,重量仅 15 0 g ,并具有性能稳定 ,使用简便 ,低功耗 ,低成本等优点。
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关键词
上消化道
PH值
氢离子敏感场效应管
H^+
-isfet
嵌入式微控制器
在线阅读
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职称材料
PECVD法淀积SiN_xH_y工艺在H^+-ISFET上应用的探讨
被引量:
2
2
作者
钟雨乐
刘涛
李京娜
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992年第6期49-53,共5页
本文研究和讨论了使用H99-7S型多用离子反应仪PECVD法淀积氮化硅(SiN_xH_y)膜的工艺,并探讨了SiN_XH_Y膜同时作为氢离子敏场效应晶体管(H^+-ISFET)敏感膜及二次钝化保护膜的可行性,以改善H^+-ISFET器件的密封防渗漏性能。
关键词
H^+
-isfet
PECVD
淀积
SiNxHy
氢离子敏场效应晶体管
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职称材料
热氮化SiO_2绝缘栅H^+-ISFET及其pH响应机理的探讨
被引量:
1
3
作者
齐呜
罗晋生
+1 位作者
崔吾元
黄强
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第1期39-43,共5页
本文介绍了采用NH_3退火热氮化SiO_2薄膜为绝缘栅兼做敏感膜制作H^+-ISFET,其在pH值为2~13的范围内具有较好的线性响应,灵敏度为41.6~47.8mV/pH,典型值为45.7mV/pH.并运用双表面基模型分析了H^+-ISFET的工作机理,较为合理地解释了以Si...
本文介绍了采用NH_3退火热氮化SiO_2薄膜为绝缘栅兼做敏感膜制作H^+-ISFET,其在pH值为2~13的范围内具有较好的线性响应,灵敏度为41.6~47.8mV/pH,典型值为45.7mV/pH.并运用双表面基模型分析了H^+-ISFET的工作机理,较为合理地解释了以SiO_2、Si_3N_4或氮化SiO_2为介质膜的H^+-ISFET的响应特性.
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关键词
H^+
-isfet
PH响应
SIO2
绝缘栅
全文增补中
题名
采用H^+-ISFET的便携式上消化道pH值记录仪的研制
被引量:
2
1
作者
李向明
韩泾鸿
张虹
李亚亭
梁卫国
机构
中国科学院电子学研究所
出处
《中国生物医学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第1期83-87,共5页
文摘
上消化道 pH值记录仪是为临床医学上对胃、食管的 pH值进行长时间监测而专门设计的仪器。本文介绍了一种便携式的上消化道 pH值记录仪的研制。它采用H+ ISFET和内参比电极组成的双通道上消化道pH值传感器 ,以高性能的嵌入式微控制器为控制核心 ,在 2节普通 5号电池供电、采样间隔 4s、同时记录 2通道 pH值的条件下可稳定工作 2 4h以上 ,pH值测量误差小于 0 .1。仪表轻便 ,重量仅 15 0 g ,并具有性能稳定 ,使用简便 ,低功耗 ,低成本等优点。
关键词
上消化道
PH值
氢离子敏感场效应管
H^+
-isfet
嵌入式微控制器
Keywords
Gastro-esophageal tract
pH value
H+
-isfet
Embedded micro controller
分类号
R318.6 [医药卫生—生物医学工程]
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职称材料
题名
PECVD法淀积SiN_xH_y工艺在H^+-ISFET上应用的探讨
被引量:
2
2
作者
钟雨乐
刘涛
李京娜
机构
暨南大学电子工程系
广东省电力工业学校
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992年第6期49-53,共5页
文摘
本文研究和讨论了使用H99-7S型多用离子反应仪PECVD法淀积氮化硅(SiN_xH_y)膜的工艺,并探讨了SiN_XH_Y膜同时作为氢离子敏场效应晶体管(H^+-ISFET)敏感膜及二次钝化保护膜的可行性,以改善H^+-ISFET器件的密封防渗漏性能。
关键词
H^+
-isfet
PECVD
淀积
SiNxHy
氢离子敏场效应晶体管
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
热氮化SiO_2绝缘栅H^+-ISFET及其pH响应机理的探讨
被引量:
1
3
作者
齐呜
罗晋生
崔吾元
黄强
机构
西安交通大学电子工程系
渭南师范专科学校化学系
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第1期39-43,共5页
文摘
本文介绍了采用NH_3退火热氮化SiO_2薄膜为绝缘栅兼做敏感膜制作H^+-ISFET,其在pH值为2~13的范围内具有较好的线性响应,灵敏度为41.6~47.8mV/pH,典型值为45.7mV/pH.并运用双表面基模型分析了H^+-ISFET的工作机理,较为合理地解释了以SiO_2、Si_3N_4或氮化SiO_2为介质膜的H^+-ISFET的响应特性.
关键词
H^+
-isfet
PH响应
SIO2
绝缘栅
分类号
TN386.01 [电子电信—物理电子学]
全文增补中
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
采用H^+-ISFET的便携式上消化道pH值记录仪的研制
李向明
韩泾鸿
张虹
李亚亭
梁卫国
《中国生物医学工程学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
PECVD法淀积SiN_xH_y工艺在H^+-ISFET上应用的探讨
钟雨乐
刘涛
李京娜
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
热氮化SiO_2绝缘栅H^+-ISFET及其pH响应机理的探讨
齐呜
罗晋生
崔吾元
黄强
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989
1
全文增补中
已选择
0
条
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参考文献
引证文献
统计分析
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