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掠射技术与X射线荧光分析 被引量:4
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作者 刘亚雯 肖辉 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期609-613,共5页
掠射技术引入X射线荧光分析成为一种新的材料及薄膜分析技术。运用此技术可以给出材料表面及薄膜的密度、厚度、界面粗糙度、成分的深度和剖面分布等各种信息。
关键词 掠射 x射线荧光分析 xRF IAD
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薄膜特性的掠发射X射线荧光分析 被引量:1
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作者 巩岩 陈波 +2 位作者 尼启良 赵红颖 曹健林 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期1199-1202,共4页
掠射X射线荧光分析技术是实验室分析薄膜特性的一种重要工具。文章简述了利用掠出射X射线荧光技术分析薄膜厚度的原理和方法,介绍了一种可在实验室里实现薄膜特性测试的掠发射X射线荧光分析装置,该装置采用波长色散方式结合超薄窗流气... 掠射X射线荧光分析技术是实验室分析薄膜特性的一种重要工具。文章简述了利用掠出射X射线荧光技术分析薄膜厚度的原理和方法,介绍了一种可在实验室里实现薄膜特性测试的掠发射X射线荧光分析装置,该装置采用波长色散方式结合超薄窗流气正比计数管,可实现对轻元素的探测。最后从理论上计算了Si片上不同厚度的几种单层薄膜的X射线荧光强度和掠出射角的依赖关系。证明了掠发射X射线荧光分析是一种精确的分析薄膜厚度等特性的方法。 展开更多
关键词 薄膜分析 掠发射x射线荧光分析 技术原理 x射线荧光强度 掠出射角 薄膜厚度
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掠出射微区X射线荧光分析系统的建立及其在薄膜分析中的应用
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作者 杨君 刘志国 +5 位作者 徐清 韩东艳 林晓燕 杜晓光 Kouichi Tsuji 丁训良 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期26-32,共7页
建立了应用导管X光透镜的掠出射微区X射线荧光分析系统,并将该系统应用于纳米薄膜的分析。为了提高入射X射线的强度并提高系统的空间分辨率,选用焦斑为41.7μm的会聚透镜对原级X射线进行会聚,并在探测器前加上50μm的狭缝以提高掠出射... 建立了应用导管X光透镜的掠出射微区X射线荧光分析系统,并将该系统应用于纳米薄膜的分析。为了提高入射X射线的强度并提高系统的空间分辨率,选用焦斑为41.7μm的会聚透镜对原级X射线进行会聚,并在探测器前加上50μm的狭缝以提高掠出射角扫描的角度分辨率。为了提高工作效率,编写了该系统的自动控制软件,实现了样品的自动扫描。利用该系统对采用金属蒸汽真空电弧(MEVVA)源离子束和薄膜沉积技术制备的纳米薄膜进行了掠入射X射线荧光和二维扫描分析。实验结果表明:该系统能有效地分析纳米厚度的薄膜,通过对薄膜进行掠出射角扫描分析和表面的二维扫描分析,得到了薄膜的厚度,密度及均匀性等信息。微区分析的空间分辨率可达到41.7μm,实际空间分辨率为扫描步长50μm。系统可用于分析薄膜样品,且荧光强度高,所需时间短,获得的信息全面丰富,数据可靠。 展开更多
关键词 毛细管x射线光学器件 掠出射x射线荧光 全反射 薄膜分析
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掠出射X射线荧光分析技术与掠入射X射线荧光分析技术 被引量:2
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作者 陈雪亮 巩岩 陈波 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2004年第2期174-178,共5页
依据工作原理,比较了掠出射X射线荧光分析技术(GEXRF)和掠入射X射线荧光分析技术(GI XRF)的优缺点,比较角度包括实验装置、探测限、可探测元素范围、基体效应以及实验精度。比较结果表明,GEXRF的优点体现为:对实验装置要求低,对轻元素(4... 依据工作原理,比较了掠出射X射线荧光分析技术(GEXRF)和掠入射X射线荧光分析技术(GI XRF)的优缺点,比较角度包括实验装置、探测限、可探测元素范围、基体效应以及实验精度。比较结果表明,GEXRF的优点体现为:对实验装置要求低,对轻元素(4<Z<20)特别灵敏,能对大样品进行检测,实验精度高;缺点体现为:临界厚度小,探测限高。"对轻元素特别灵敏"的特点决定了GEXRF的应用领域将主要集中在化学元素微量和痕量分析以及半导体工业中Si薄膜表面轻元素检测等方面。 展开更多
关键词 x射线荧光分析 掠入射 掠出射 GExRF GI-xRF TxRF
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Separation and Determination of Sulfur with Different Valance in Polysulfide Mixture
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作者 ZHOU Ji-hong CHEN Qi-yuan +1 位作者 ZHANG Ping-min YIN Zhou-lan 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2000年第3期149-151,共3页
A new process of separating sulfur with different valance from polysulfide mixtures was developed. Sulfide, sulfite and sulfur were separated by adding acetic acid in one step. The polysulfide mixture, sulfite solutio... A new process of separating sulfur with different valance from polysulfide mixtures was developed. Sulfide, sulfite and sulfur were separated by adding acetic acid in one step. The polysulfide mixture, sulfite solution and sulfur were oxidized to sulfate by hydrogen peroxide. The products were measured by X ray Fluorescence Spectrometer(XRF) using filter method preparative specimen. The measurement needs only one set of standard sample.The effects of temperature and pH values on the separation were discussed. The results show that the recoveries range from 98.0% to 101.3% of sulfidic sulfur S( II), 97.0% to 103.0% for sulfite S(IV) and 98.4% to 100.4% for polysulfidic sulfur S(0). 展开更多
关键词 POLYSULFIDE SEPARATION DETERMINATION x ray fluorescence spectrum valance
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