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GaN基和LiZnAs基稀磁半导体的研究进展 被引量:2
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作者 王爱玲 毋志民 +1 位作者 王聪 赵若禺 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第15期113-118,共6页
综述了稀磁半导体及其研究进展,阐述了提高居里温度的方法。从晶体结构、材料的研究现状和待解决的问题几个方面详述了以GaN为代表的传统的Ⅲ-Ⅴ族基和LiZnAs为代表的新型Ⅰ-Ⅱ-Ⅴ族基两类稀磁半导体的基本特点,并展望了今后的研究重点... 综述了稀磁半导体及其研究进展,阐述了提高居里温度的方法。从晶体结构、材料的研究现状和待解决的问题几个方面详述了以GaN为代表的传统的Ⅲ-Ⅴ族基和LiZnAs为代表的新型Ⅰ-Ⅱ-Ⅴ族基两类稀磁半导体的基本特点,并展望了今后的研究重点及发展方向。 展开更多
关键词 gan基稀磁半导体liznas基新型稀磁半导体居里温度 晶体结构
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