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GaAs异质结材料BOA光开关特性分析 被引量:2
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作者 黄旭涛 江晓清 +2 位作者 尹锐 杨建义 王明华 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期157-161,共5页
本文较为详细地讨论了 Ga As异质结材料 BOA型光开关的特性 ;并应用转移矩阵理论和有效折射率法计算和分析了电极结构与器件半波电压和串音度的关系 .结果表明 :通过优化设计电极的宽度可以获得 BOA型光开关最小的半波电压 ;电极位置的... 本文较为详细地讨论了 Ga As异质结材料 BOA型光开关的特性 ;并应用转移矩阵理论和有效折射率法计算和分析了电极结构与器件半波电压和串音度的关系 .结果表明 :通过优化设计电极的宽度可以获得 BOA型光开关最小的半波电压 ;电极位置的对称性对器件串音度起决定性的影响 .采用自对准工艺技术可以比较准确的控制电极的位置 .分析表明 :要得到 <- 40 d B的串音度 ,电极位置偏差必须小于 0 . 展开更多
关键词 BOA 转移矩阵理论 自对准工艺 光开关 gaas异质结 特性分析 有效折射效率法 电极 串音度
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用于量子化霍尔电阻标准的GaAs/AlGaAs异质结二维电子气结构 被引量:1
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作者 钟源 贺青 +4 位作者 钟青 鲁云峰 赵建亭 王文新 田海涛 《计量学报》 CSCD 北大核心 2010年第6期543-546,共4页
设计并利用分子束外延生长了GaAs/AlGaAs异质结结构,以制作应用于中国电阻基准的量子化霍尔电阻器件。报道了这种制作量子化霍尔电阻器件的步骤及结果,讨论了利用77K下二维电子气的载流子浓度和迁移率数据初步判断其是否适合用于量... 设计并利用分子束外延生长了GaAs/AlGaAs异质结结构,以制作应用于中国电阻基准的量子化霍尔电阻器件。报道了这种制作量子化霍尔电阻器件的步骤及结果,讨论了利用77K下二维电子气的载流子浓度和迁移率数据初步判断其是否适合用于量子化霍尔电阻标准的方法和该方法的局限性。 展开更多
关键词 计量学 量子化霍尔电阻标准 gaas/Algaas异质结 二维电子气
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GaAs/Si/AlAs异质结的DLTS实验研究 被引量:2
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作者 李永平 田强 牛智川 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期923-926,共4页
利用深能级瞬态谱(DLTS)技术研究了Si夹层和GaAs层不同生长温度对GaAs/AlAs异质结晶体 品质的影响。发现Si夹层的引入并没有引起明显深能级缺陷,而不同温度下生长的GaAs/Si/AlAs异质结随着 温度的降低,深能级缺陷明显增加,并进行了分... 利用深能级瞬态谱(DLTS)技术研究了Si夹层和GaAs层不同生长温度对GaAs/AlAs异质结晶体 品质的影响。发现Si夹层的引入并没有引起明显深能级缺陷,而不同温度下生长的GaAs/Si/AlAs异质结随着 温度的降低,深能级缺陷明显增加,并进行了分析,得到深能级是由Ga空位引起的,在600℃时生长的晶体 质量最佳。 展开更多
关键词 光电子学 深能级瞬态谱 深能级缺陷 Si夹层 gaas/AlAs异质
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GaAs/Si/AlAs异质结不同生长温度Si夹层分布的CV实验研究 被引量:2
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作者 李永平 田强 +3 位作者 牛智川 杨锡震 吴正龙 王亚非 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期474-477,共4页
用MBE生长设备制备了GaAs/Si/AlAs异质结 ,通过CV法研究了异质结的带阶和GaAs层在不同温度下生长对 0 .5分子层Si夹层的影响 。
关键词 gaas/Si/AlAs异质 生长温度 Si夹层 CV测量 实验研究 导带带阶 异质器件 热扩散 半导体 空间分布
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Inverse-Heusler合金Ti_2NiAl/GaAs隧道异质结的自旋极化和电磁特性
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作者 杨秀德 杨璐 +4 位作者 杨昆 黄海深 周庭艳 李平 吴波 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2019年第2期349-356,共8页
基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究了Hg_2CoTi型Inverse-Heusler合金Ti_2NiAl和GaAs异质界面上的原子相互作用、磁性、态密度和自旋极化.结果表明,在所研究的12种异质结构(包括顶位和桥位连接)中,界面态的存在不同程度地破坏了合... 基于密度泛函理论的第一性原理计算,研究了Hg_2CoTi型Inverse-Heusler合金Ti_2NiAl和GaAs异质界面上的原子相互作用、磁性、态密度和自旋极化.结果表明,在所研究的12种异质结构(包括顶位和桥位连接)中,界面态的存在不同程度地破坏了合金的半金属性,导致不超过75%的自旋极化率发生;仅当Heusler合金TiAl端面的Al原子或者TiNi端面的Ti原子位于As原子的顶位时,合金异质结可以保留着约72%的自旋极化率,根据Julliere模型,能最大实现68.9%的自旋电子迁移率,有望在隧穿磁阻中实际应用. 展开更多
关键词 HEUSLER合金 Ti2NiAl/gaas异质结 磁性 半金属性
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基于电源调制的L波段高性能GaAsHBT功率放大器
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作者 闭涛 陈景龙 《半导体技术》 北大核心 2024年第1期71-76,共6页
介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶... 介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶体管;在电路层面采用自适应偏置电路和谐波调谐等提升线性和功率附加效率。该放大器采用前级驱动加末级输出、驱动比为1∶6的两级晶体管架构和高低通搭配的匹配电路。测试结果表明,在5 V偏置电压下,该功率放大器的饱和输出功率大于35 dBm;在大功率回退时(8 dBm),增益变化小于2 dB,功率附加效率指标达到50%;对于调制带宽为25 kHz的16进制正交振幅调制(16QAM)通信系统,邻道功率比小于-38 dBc@27 dBm。 展开更多
关键词 功率放大器 电源调制 gaas异质结双极晶体管(HBT) 峰均比 邻道功率比(ACPR)
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GaAs(001)衬底上经双缓冲层生长的Hg_(1-x)Cd_xTe-HgTe超晶格结构 被引量:1
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作者 刘义族 于福聚 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2001年第3期39-42,共4页
用 X-射线衍射测定了分子束外延 ( MBE)法生长的 Hg1-x Cdx Te- Hg Te超晶格样品在 ( 0 0 1 )附近的扫描徊摆曲线 ,并用动力学理论模拟计算出衍射曲线 ,实验曲线与理论计算基本上相符合 .由实验衍射曲线计算出的超晶格周期长度 ,阱 Hg T... 用 X-射线衍射测定了分子束外延 ( MBE)法生长的 Hg1-x Cdx Te- Hg Te超晶格样品在 ( 0 0 1 )附近的扫描徊摆曲线 ,并用动力学理论模拟计算出衍射曲线 ,实验曲线与理论计算基本上相符合 .由实验衍射曲线计算出的超晶格周期长度 ,阱 Hg Te层厚度及垒 Hg1-x Cdx Te层厚度与模拟计算的相一致 .用透射电子显微镜 ( TEM)对同一样品的横截面进行了分析 ,对 Cd Te/Zn Te/Ga As异质结界面失配位错的组态特征进行了研究 .证明用 Cd Te/Zn Te作为双缓冲层比单一的 Cd Te有较好的效果 .截面 TEM高分辨率明场象显示 Hg1-x Cdx Te- Hg Te超晶格的生长较为成功 ,界面较为平整 .由截面 TEM高分辨率明场象观测的周期长度与 展开更多
关键词 分子束外延法 Hg1-xCdxTe-HgTe超晶格 CdTe/ZnTe/gaas异质结 双缓冲层生长 晶格 晶格生长
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InGaP/GaAs HBT器件的制备及其特性 被引量:3
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作者 周国 何先良 +3 位作者 谭永亮 杜光伟 孙希国 崔玉兴 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期279-282,320,共5页
采用在发射区台面腐蚀时保留InGaP钝化层和去除InGaP钝化层的方法制备了两种InGaP/Ga As异质结双极晶体管(HBT)器件,研究了InGaP钝化层对HBT器件基区表面电流复合以及器件直流和射频微波特性的影响。对制备的两种器件进行了对比测试后得... 采用在发射区台面腐蚀时保留InGaP钝化层和去除InGaP钝化层的方法制备了两种InGaP/Ga As异质结双极晶体管(HBT)器件,研究了InGaP钝化层对HBT器件基区表面电流复合以及器件直流和射频微波特性的影响。对制备的两种器件进行了对比测试后得到:保留InGaP钝化层的HBT器件最大直流增益(β)为130,最高振荡频率(fmax)大于53 GHz,功率附加效率达到61%,线性功率增益为23 dB;而去除InGaP钝化层的器件最大β为50,f_(max)大于43 GHz,功率附加效率为57%,线性功率增益为18 dB。测试结果表明,InGaP钝化层作为一种耗尽型的钝化层能有效抑制基区表面电流的复合,提高器件直流增益,改善器件的射频微波特性。 展开更多
关键词 InGaP/gaas异质结双极晶体管(HBT) InGaP钝化 直流增益 射频微波特性 表面复合
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基于InGaP/GaAs HBT工艺X波段低相噪压控振荡器 被引量:1
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作者 陈君涛 李世峰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第6期421-424,共4页
基于InGaP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺设计了一款X波段低相噪单片集成压控振荡器(VCO),该VCO采用Colpitts双推(push-push)电路结构,芯片上集成了负阻振荡电路、分布式谐振器、变容二极管和耦合输出电路。通过优化HBT器件尺寸... 基于InGaP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺设计了一款X波段低相噪单片集成压控振荡器(VCO),该VCO采用Colpitts双推(push-push)电路结构,芯片上集成了负阻振荡电路、分布式谐振器、变容二极管和耦合输出电路。通过优化HBT器件尺寸以降低其引入的1/f噪声,同时设计高Q值分布式谐振电路,从而有效降低了VCO的输出相位噪声。通过采用背靠背变容二极管对来增加VCO输出频率调谐带宽。测试结果表明,所设计芯片在5 V供电时的电流约180 m A,电调电压在1-13 V变化下输出频率覆盖8.8-10 GHz,典型输出功率为10 d Bm,单边带相位噪声为-115 d Bc/Hz@100 k Hz。芯片尺寸为2.5 mm×1.6 mm。 展开更多
关键词 InGaP/gaas异质结双极晶体管(HBT) 压控振荡器(VCO) 双推(push-push)电路 负阻 相位噪声
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基于GaAs HBT工艺的低相位噪声锁相环 被引量:3
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作者 王增双 朱大成 +2 位作者 孔祥胜 廖文生 高晓强 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第4期268-273,共6页
设计了一款低相位噪声的锁相环(PLL),该PLL主要由可编程分频器、鉴相器和锁定指示电路等组成,通过外接参考时钟、有源环路滤波器和压控振荡器(VCO)构成完整的PLL频率源。研究了PLL频率源中各个噪声源及其传递函数,通过降低可编程分频器... 设计了一款低相位噪声的锁相环(PLL),该PLL主要由可编程分频器、鉴相器和锁定指示电路等组成,通过外接参考时钟、有源环路滤波器和压控振荡器(VCO)构成完整的PLL频率源。研究了PLL频率源中各个噪声源及其传递函数,通过降低可编程分频器的相位噪声和提高鉴相器工作频率的方法,降低PLL频率源环路内的相位噪声。采用GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺对PLL进行了设计、仿真和流片,PLL芯片面积为1.95 mm×1.95 mm。测试结果表明,在电源电压5 V条件下,该PLL电流为250 mA,射频输入频率为0.01~2.2 GHz,鉴相器工作频率为0.01~1 GHz,分频比为2~32,典型归一化本底噪声为-232 dBc/Hz;当VCO输出频率为6 GHz,鉴相频率为500 MHz时,PLL频率源的相位噪声为-121 dBc/Hz@10 kHz。 展开更多
关键词 锁相环(PLL) 分频器 鉴相器 相位噪声 gaas异质结双极晶体管(HBT)工艺
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一种低附加相位噪声的放大器设计
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作者 王增双 张加程 +1 位作者 朱大成 耿栋 《微波学报》 北大核心 2025年第4期67-70,76,共5页
文中设计了一款低附加相位噪声的达林顿放大器。文中首先介绍了放大器的噪声系数和附加相位噪声的基本概念,然后通过公式推导的方式阐述了两者的关系,最后通过工艺选择、电路优化等方面来降低放大器的附加相位噪声。该放大器采用GaAs异... 文中设计了一款低附加相位噪声的达林顿放大器。文中首先介绍了放大器的噪声系数和附加相位噪声的基本概念,然后通过公式推导的方式阐述了两者的关系,最后通过工艺选择、电路优化等方面来降低放大器的附加相位噪声。该放大器采用GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺进行了设计仿真和流片,芯片尺寸为0.6 mm×0.6 mm×0.1 mm。测试结果表明,在电源电压为+5 V条件下,该放大器电流为60 mA,工作频率为0.01 GHz~2.00 GHz,P1 dB为19 dBm,噪声系数为2.7 dB,工作频率100 MHz时的附加相位噪声为-162 dBc/Hz@1 kHz、-170 dBc/Hz@10 kHz、-172 dBc/Hz@100 kHz。 展开更多
关键词 附加相位噪声 达林顿放大器 噪声系数 gaas异质结双极晶体管工艺
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一款低附加相位噪声X波段四倍频MMIC的设计 被引量:1
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作者 方园 吴洪江 吴永辉 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第2期106-109,153,共5页
基于GaAs异质结双极性晶体管(HBT)工艺设计了一款输出频率为8~10 GHz的X波段四倍频器单片微波集成电路(MMIC)。采用两级对管平衡倍频器级联结构,并在输出端设计了驱动放大器,实现了高变频增益和良好谐波抑制。基于GaAs HBT工艺优良... 基于GaAs异质结双极性晶体管(HBT)工艺设计了一款输出频率为8~10 GHz的X波段四倍频器单片微波集成电路(MMIC)。采用两级对管平衡倍频器级联结构,并在输出端设计了驱动放大器,实现了高变频增益和良好谐波抑制。基于GaAs HBT工艺优良的闪烁噪声(1/f)特性,优化了对管平衡电路拓扑和工作点的选取,达到低附加相位噪声的设计目标。对MMIC进行了在片微波探针测试,测试结果表明,当输入功率为-10 dBm时,在8~10 GHz输出频率内变频增益大于13 dB,二次谐波抑制大于18 dBc,其余各次抑制优于27 dBc。电路采用单电源5 V供电,工作电流为55 mA,芯片面积仅为1.3 mm×1.1 mm。介绍了附加相位噪声及其对频率源系统的影响,并分析了正交鉴相法测量相位噪声的原理,所设计的MMIC在输出频率为9 GHz、频偏100 kHz时附加相位噪声达到-143 dBc/Hz。 展开更多
关键词 gaas异质结双极性晶体管(HBT) X波段 四倍频器 附加相位噪声 单片微波集成电路(MMIC)
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低电调电压全集成10~20GHz VCO的设计与实现 被引量:6
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作者 高晓强 张加程 +1 位作者 王增双 孙高勇 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第1期30-35,46,共7页
研制了一款低电调电压、多频段压控振荡器(VCO)微波单片集成电路(MMIC),MMIC主要由6频段振荡电路、控制电路、译码电路等组成。将10~20 GHz的频率范围分为6个频段覆盖,从而将电调电压控制在5 V以内。基于GaAs异质结双极晶体管(HBT) 2μ... 研制了一款低电调电压、多频段压控振荡器(VCO)微波单片集成电路(MMIC),MMIC主要由6频段振荡电路、控制电路、译码电路等组成。将10~20 GHz的频率范围分为6个频段覆盖,从而将电调电压控制在5 V以内。基于GaAs异质结双极晶体管(HBT) 2μm工艺对所设计的VCO进行了流片验证,芯片面积为3.4 mm×3.2 mm。测试结果表明,在室温下,当电源电压为5 V、电调电压在0~5 V时,每个频段VCO可覆盖的频率为9.58~11.6 GHz、11.06~13.23 GHz、12.77~14.89 GHz、14.21~16.48 GHz、16~18.48 GHz和17.7~20.17 GHz;当电调电压为2.5 V、频偏为100 kHz时,每个频段VCO的相位噪声分别为-91.8、-90.5、-90.3、-90、-88.2和-87.1 dBc/Hz。因此,该6频段VCO覆盖了10~20 GHz的频率范围,且每段VCO的相位噪声指标良好,可满足低压电子系统的应用需求。 展开更多
关键词 多频段压控振荡器(VCO) 微波单片集成电路(MMIC) gaas异质结双极晶体管(HBT)工艺 控制电路 38译码器
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