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FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜的应力阻抗效应研究
被引量：
1
1
作者
刘均东
张万里
彭斌
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第12期20-22,共3页
采用直流磁控溅射法在柔性Kapton基片上制备了三明治结构的FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜,研究了多层膜的交流阻抗随外加应力变化的规律。测试结果表明,三明治结构多层膜的阻抗随外加应力的增大而增大,应力阻抗效应随中间导电层厚度以及铁...
采用直流磁控溅射法在柔性Kapton基片上制备了三明治结构的FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜,研究了多层膜的交流阻抗随外加应力变化的规律。测试结果表明,三明治结构多层膜的阻抗随外加应力的增大而增大,应力阻抗效应随中间导电层厚度以及铁磁层厚度的增加而增强,同时应力阻抗效应也与测试频率密切相关。
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关键词
fecosib/cu/fecosib多层膜
应力阻抗效应
柔性基片
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职称材料
题名
FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜的应力阻抗效应研究
被引量：
1
1
作者
刘均东
张万里
彭斌
机构
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第12期20-22,共3页
基金
国家自然科学基金(50501004)
国防预研基金(9140A23060307DZ0223)
文摘
采用直流磁控溅射法在柔性Kapton基片上制备了三明治结构的FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜,研究了多层膜的交流阻抗随外加应力变化的规律。测试结果表明,三明治结构多层膜的阻抗随外加应力的增大而增大,应力阻抗效应随中间导电层厚度以及铁磁层厚度的增加而增强,同时应力阻抗效应也与测试频率密切相关。
关键词
fecosib/cu/fecosib多层膜
应力阻抗效应
柔性基片
Keywords
fecosib/
cu
/fecosib
multilayer films, stress impedance effect, flexible substrate
分类号
TM93 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
FeCoSiB/Cu/FeCoSiB多层膜的应力阻抗效应研究
刘均东
张万里
彭斌
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
1
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