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电子束诱导沉积工艺的优化与简化: 1; 作者高尚黄梦诗 +1 位作者肖飞孙千《真空科学与技术学报》北大核心 2025年第4期340-348,共9页; 电子束诱导沉积(EBID)因沉积速率慢、沉积物纯度低等缺点,常被限制在离子束诱导沉积(IBID)工艺前的保护层制备等辅助性工艺中。文章针对工艺的效率提升与流程简化展开系统研究,重点分析了关键工艺参数对沉积速率和效果的影响,并提出了... 展开更多; 关键词电子束诱导沉积沉积速率工艺参数优化聚焦离子束-扫描电镜; 在线阅读下载PDF 职称材料

波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制被引量：13: 2; 作者付雄鹰孔明东 +1 位作者胡建平范正修《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期413-417,共5页; 研究ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀金属Ｈｆ的源材料形成ＨｆＯ２薄膜。采用这三种工艺制备了Ｈ... 展开更多; 关键词反射膜激光诱导损伤阈值激光薄膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

超高阈值Pick-off反射镜的研制被引量：3: 3; 作者付雄鹰王建永 +2 位作者丁俊刘民才范正修《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期285-288,共4页; 采用水中抛光技术抛制了 90 mm× 60 mm× 1 0 mm的 K9玻璃基片 ,表面粗糙度达 1 nm。在 APS1 50 4镀膜机上 ,摸索了电子束蒸发镀膜的最佳工艺条件 ,较稳定地在该超光滑玻璃表面上镀制了对波长 1 0 54nm、入射角 4 5°、反... 展开更多; 关键词激光损伤阈值反射波前 pick-off反射镜激光器; 在线阅读下载PDF 职称材料

退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响被引量：1: 4; 作者刘浩马平 +1 位作者蒲云体赵祖珍《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第7期7-14,共8页; 结合自身实验条件采用电子束蒸发(EBE)、离子束溅射(IBS)和原子层沉积(ALD)三种工艺制备了HfO2薄膜,对其进行退火实验,采用1064 nm Nd:YAG激光测定了即时沉积和退火后各HfO2薄膜的抗激光损伤能力。研究发现,ALD HfO2薄膜的激光损伤阈值... 展开更多; 关键词 HFO2薄膜激光损伤阈值电子束蒸发离子束溅射原子层沉积; 在线阅读下载PDF 职称材料

用纳米碳制备光子晶体被引量：1: 5; 作者栾峰章蓓 +1 位作者徐军张会珍《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第z1期53-56,共4页; 利用电子束诱导沉积纳米碳柱方法,在一台由ＫＹＫＹ１０１０Ｂ型扫描电子显微镜(ＳＥＭ)改装的电子束曝光系统中发展了一种无需光刻胶的亚微米图形化技术,微型碳柱的高度和直径可通过改变聚焦电子束参数加以控制．通过控制电子束辐照位... 展开更多; 关键词电子束辅助沉积微结构二维光子晶体纳米碳.; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名电子束诱导沉积工艺的优化与简化: 1; 作者高尚黄梦诗肖飞孙千; 机构哈尔滨工业大学(深圳)材料科学与工程学院广东省半导体光电材料与智能光子系统重点实验室美信检测技术股份有限公司华南理工大学材料科学与工程学院; 出处《真空科学与技术学报》北大核心 2025年第4期340-348,共9页; 基金广东省重点实验室项目(2023B1212010003) 哈工大研究生教育教学改革研究项目(23MS031) +1 种基金哈工大(深圳)创新实验项目(INEP1013)。; 文摘电子束诱导沉积(EBID)因沉积速率慢、沉积物纯度低等缺点,常被限制在离子束诱导沉积(IBID)工艺前的保护层制备等辅助性工艺中。文章针对工艺的效率提升与流程简化展开系统研究,重点分析了关键工艺参数对沉积速率和效果的影响,并提出了一种基于扫描电镜缩小框功能的简化工艺。研究表明,低加速电压条件下,沉积速率显著提高;束流与沉积厚度呈线性正相关;短驻留时间有助于获得更高的沉积速率。通过优化参数,研究实现EBID沉积效率达到0.03μm^(3)/nC,显著优于既往文献报道的效率范围。简化工艺无需依赖复杂的专用程序,操作便捷。特别是在对精度要求不高但重视效率的场景中,优化后的EBID工艺可在某些应用中完全替代IBID工艺。因此,通过优化聚焦离子束-扫描电镜中电子束诱导沉积的参数,提高沉积速率并简化操作流程,具有重要应用价值,为沉积保护层提供了全新的解决思路与替代方案。; 关键词电子束诱导沉积沉积速率工艺参数优化聚焦离子束-扫描电镜; Keywords electron beam induced deposition(ebid) deposition efficiency Process parameter optimization Focused ion beam-scanning electron microscopy(FIB-SEM); 分类号 TG115.215.5 [金属学及工艺—物理冶金] TG115.215.3 [金属学及工艺—物理冶金]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制被引量：13: 2; 作者付雄鹰孔明东胡建平范正修; 机构成都精密光学工程研究中心中国科学院上海光机所; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期413-417,共5页; 基金国家863 惯性约束聚变领域资助课题; 文摘研究ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试，分别采用了反应蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀ＨｆＯ２、反应离子辅助蒸镀金属Ｈｆ的源材料形成ＨｆＯ２薄膜。采用这三种工艺制备了ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜，在中心波长１０６４ｎｍ处，反射率Ｒ≥９９．５％，其中反应蒸镀ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜损伤阈值最高，可达６０Ｊ／ｃｍ２（１０６４ｎｍ，５ｎｓ）。; 关键词反射膜激光诱导损伤阈值激光薄膜; Keywords HfO 2/SiO 2 multilayer laser induced damage threshold reactive electronic beam evaporation plasma assisted deposition; 分类号 TN244 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名超高阈值Pick-off反射镜的研制被引量：3: 3; 作者付雄鹰王建永丁俊刘民才范正修; 机构成都精密光学工程研究中心中国科学院上海光机所; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期285-288,共4页; 基金国家 8 63惯性约束聚变领域资助课题; 文摘采用水中抛光技术抛制了 90 mm× 60 mm× 1 0 mm的 K9玻璃基片 ,表面粗糙度达 1 nm。在 APS1 50 4镀膜机上 ,摸索了电子束蒸发镀膜的最佳工艺条件 ,较稳定地在该超光滑玻璃表面上镀制了对波长 1 0 54nm、入射角 4 5°、反射率 R≥ 99.5%的反射膜。膜层的抗激光损伤阈值可达 2 6J/cm2( 1 0 54nm,1 ns) ,镀膜后该玻璃基片反射波前可达 λ/1 0 ( p-v) ,最终制备了超高阈值; 关键词激光损伤阈值反射波前 pick-off反射镜激光器; Keywords laser induced damage threshold reflective wavefront pick-off mirror electron beam evaporation deposition bowl-feed polish; 分类号 TN241 [电子电信—物理电子学] TN248 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响被引量：1: 4; 作者刘浩马平蒲云体赵祖珍; 机构深圳清华大学研究院中国工程物理研究院激光聚变研究中心; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第7期7-14,共8页; 基金深圳市科技计划基础研究面上项目(JCYJ20190807142405649)。; 文摘结合自身实验条件采用电子束蒸发(EBE)、离子束溅射(IBS)和原子层沉积(ALD)三种工艺制备了HfO2薄膜,对其进行退火实验,采用1064 nm Nd:YAG激光测定了即时沉积和退火后各HfO2薄膜的抗激光损伤能力。研究发现,ALD HfO2薄膜的激光损伤阈值最高,EBE HfO2薄膜次之,IBS HfO2薄膜的损伤阈值最低;300℃退火对各工艺薄膜抗激光损伤能力的影响均为负面,500℃退火则会显著降低ALD HfO2薄膜的抗激光损伤能力。; 关键词 HFO2薄膜激光损伤阈值电子束蒸发离子束溅射原子层沉积; Keywords HfO2 film laser induced damage threshold electron beam evaporation ion beam sputtering atomic layer deposition; 分类号 O439 [机械工程—光学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名用纳米碳制备光子晶体被引量：1: 5; 作者栾峰章蓓徐军张会珍; 机构北京大学物理系介观物理国家重点实验室; 出处《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第z1期53-56,共4页; 基金国家自然科学基金(批准号69896260 60077022)资助项目集成光电子国家重点实验室开放课题部分资助项目; 文摘利用电子束诱导沉积纳米碳柱方法,在一台由ＫＹＫＹ１０１０Ｂ型扫描电子显微镜(ＳＥＭ)改装的电子束曝光系统中发展了一种无需光刻胶的亚微米图形化技术,微型碳柱的高度和直径可通过改变聚焦电子束参数加以控制．通过控制电子束辐照位置和对样品台相对漂移的修正,在镀金的半导体表面８μｍ×８μｍ范围内分别得到由纳米碳柱形成的光子晶体点阵,包括正方、六方对称和八重准对称等点阵结构,为进一步开展半导体光子晶体的实验研究打下了良好的基础．; 关键词电子束辅助沉积微结构二维光子晶体纳米碳.; Keywords electron beam-induced deposition,micrastructures, two-dimensional photonic crystal, nano-carbon.; 分类号 TN2 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	电子束诱导沉积工艺的优化与简化	高尚黄梦诗肖飞孙千	《真空科学与技术学报》北大核心	2025	0	在线阅读下载PDF 职称材料
2	波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制	付雄鹰孔明东胡建平范正修	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	1999	13	在线阅读下载PDF 职称材料
3	超高阈值Pick-off反射镜的研制	付雄鹰王建永丁俊刘民才范正修	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2000	3	在线阅读下载PDF 职称材料
4	退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响	刘浩马平蒲云体赵祖珍	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2020	1	在线阅读下载PDF 职称材料
5	用纳米碳制备光子晶体	栾峰章蓓徐军张会珍	《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	2002	1	在线阅读下载PDF 职称材料