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高强度聚焦超声功率源的优化设计 被引量:1
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作者 邓思建 谭坚文 +2 位作者 叶方伟 杨黎 曾德平 《电源学报》 CSCD 2013年第6期46-52,共7页
高强度聚焦超声(HIFU)功率源直接影响HIFU治疗的有效性和安全性。受功率MOSFET极间电容和导通电阻等寄生参数的影响,基于E类功率放大电路的HIFU功率源实际工作特性常偏离理想条件下的理论设计值。在理论设计的基础上,结合功率MOSFET等... 高强度聚焦超声(HIFU)功率源直接影响HIFU治疗的有效性和安全性。受功率MOSFET极间电容和导通电阻等寄生参数的影响,基于E类功率放大电路的HIFU功率源实际工作特性常偏离理想条件下的理论设计值。在理论设计的基础上,结合功率MOSFET等效电路模型,采用Saber软件对HIFU功率源的E类放大电路进行仿真,得到了放大器最佳工作状态时的谐振回路参数。实验测试表明,优化后的功率源工作效率和特性有显著的提高。 展开更多
关键词 高强度聚焦超声 e类功率放大电路 SABeR仿真 优化设计
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