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二元光学元件横向加工误差对衍射效率的影响
被引量:
8
1
作者
殷可为
黄智强
+1 位作者
林妩媚
邢廷文
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第9期46-49,54,共5页
横向加工误差包括对准误差和线宽误差,加工误差对衍射效率的影响是二元光学元件研究的重要问题。本文基于标量衍射理论,提出了一种与MATLAB相结合的分层计算方法,重点分析了4阶和8阶二元光学元件横向加工误差和衍射效率的关系。结果表明...
横向加工误差包括对准误差和线宽误差,加工误差对衍射效率的影响是二元光学元件研究的重要问题。本文基于标量衍射理论,提出了一种与MATLAB相结合的分层计算方法,重点分析了4阶和8阶二元光学元件横向加工误差和衍射效率的关系。结果表明,控制8阶二元光学元件对准误差,可抑制衍射效率的迅速下降,适当调整线宽能够减小对准误差造成的影响。这些结果对二元光学元件的加工有重要的参考价值。该方法简便且适用性强,可对二元光学元件的加工误差进行准确分析。
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关键词
衍射光学元件
二元光学元件
横向误差
衍射效率
标量衍射理论
MATLAB
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职称材料
光纤激光诱导背面干法刻蚀制备二元衍射光学元件
被引量:
5
2
作者
陈继民
何超
+1 位作者
周伟平
申雪飞
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第1期31-37,共7页
为了降低激光直接辐照透明介电材料的表面加工粗糙度和激光能量密度刻蚀阈值,提高微光学元件的产出率,介绍了一种用固体介质作吸收层,激光直接作用在透明光学材料上进行微纳加工的激光诱导背面干法刻蚀工艺。首先,选用95氧化铝陶瓷作固...
为了降低激光直接辐照透明介电材料的表面加工粗糙度和激光能量密度刻蚀阈值,提高微光学元件的产出率,介绍了一种用固体介质作吸收层,激光直接作用在透明光学材料上进行微纳加工的激光诱导背面干法刻蚀工艺。首先,选用95氧化铝陶瓷作固体材料辅助吸收层,应用中心波长为1 064nm的掺镱光纤激光器,在3.2mm厚的熔融石英玻璃表面刻蚀了亚微米尺度的二维周期性光栅结构。然后,对刻蚀参数进行拟合并探讨了激光能量密度对刻蚀参数的影响。最后,观察该二元光学元件的衍射花样图形并讨论其衍射特性。实验制备了槽深为4.2μm,槽底均方根粗糙度小于40nm,光栅常数为25μm的二维微透射光栅,其刻蚀阈值低于7.66J/cm2。结果表明,应用该工艺制备二维透射光栅,降低了激光刻蚀透明材料的密度阈值及加工结构的表面粗糙度。
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关键词
激光刻蚀
微纳加工
二元衍射光学元件
能量密度阈值
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职称材料
基于迭代傅里叶变换算法的光束整形元件位相编码的优化设计
被引量:
5
3
作者
徐兵
陈林森
魏国军
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期73-75,共3页
基于迭代傅里叶变换算法 ,提供了对具有 2个台阶二元光束整形元件进行位相编码的优化设计方法 ,详细研究了初始位相选取以及引入强度自由度、位相自由度在迭代傅里叶变换算法中对再现像品质的影响 。
关键词
光束整形
迭代傅里叶变换算法
二元光学元件
衍射光学元件
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职称材料
衍射光学元件制作技术及未来展望
被引量:
5
4
作者
任延同
付永启
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1997年第2期7-11,共5页
回顾了衍射光学元件(DOE)制作技术的发展过程,介绍了未来制作技术的发展以及元件演变的未来趋势。
关键词
衍射光学元件
二元
光学元件
制造工艺
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职称材料
题名
二元光学元件横向加工误差对衍射效率的影响
被引量:
8
1
作者
殷可为
黄智强
林妩媚
邢廷文
机构
中国科学院光电技术研究所
中国科学院研究生院
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第9期46-49,54,共5页
文摘
横向加工误差包括对准误差和线宽误差,加工误差对衍射效率的影响是二元光学元件研究的重要问题。本文基于标量衍射理论,提出了一种与MATLAB相结合的分层计算方法,重点分析了4阶和8阶二元光学元件横向加工误差和衍射效率的关系。结果表明,控制8阶二元光学元件对准误差,可抑制衍射效率的迅速下降,适当调整线宽能够减小对准误差造成的影响。这些结果对二元光学元件的加工有重要的参考价值。该方法简便且适用性强,可对二元光学元件的加工误差进行准确分析。
关键词
衍射光学元件
二元光学元件
横向误差
衍射效率
标量衍射理论
MATLAB
Keywords
diffraction
optical
elements
(
doe
s)
binary
optical
elements
(
boe
s)
lateral
fabrication
errors
diffraction efficiency
scalar diffraction theory
MATLAB
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
光纤激光诱导背面干法刻蚀制备二元衍射光学元件
被引量:
5
2
作者
陈继民
何超
周伟平
申雪飞
机构
北京工业大学激光工程研究院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第1期31-37,共7页
基金
北京市教委重点项目(No.KZ20091005006)
文摘
为了降低激光直接辐照透明介电材料的表面加工粗糙度和激光能量密度刻蚀阈值,提高微光学元件的产出率,介绍了一种用固体介质作吸收层,激光直接作用在透明光学材料上进行微纳加工的激光诱导背面干法刻蚀工艺。首先,选用95氧化铝陶瓷作固体材料辅助吸收层,应用中心波长为1 064nm的掺镱光纤激光器,在3.2mm厚的熔融石英玻璃表面刻蚀了亚微米尺度的二维周期性光栅结构。然后,对刻蚀参数进行拟合并探讨了激光能量密度对刻蚀参数的影响。最后,观察该二元光学元件的衍射花样图形并讨论其衍射特性。实验制备了槽深为4.2μm,槽底均方根粗糙度小于40nm,光栅常数为25μm的二维微透射光栅,其刻蚀阈值低于7.66J/cm2。结果表明,应用该工艺制备二维透射光栅,降低了激光刻蚀透明材料的密度阈值及加工结构的表面粗糙度。
关键词
激光刻蚀
微纳加工
二元衍射光学元件
能量密度阈值
Keywords
laser etching micro/nano
fabrication
binary
diffractive
optical
Element (
doe
) energy threshold fluence
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
O436.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
基于迭代傅里叶变换算法的光束整形元件位相编码的优化设计
被引量:
5
3
作者
徐兵
陈林森
魏国军
机构
苏州大学信息光学工程研究所
出处
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期73-75,共3页
文摘
基于迭代傅里叶变换算法 ,提供了对具有 2个台阶二元光束整形元件进行位相编码的优化设计方法 ,详细研究了初始位相选取以及引入强度自由度、位相自由度在迭代傅里叶变换算法中对再现像品质的影响 。
关键词
光束整形
迭代傅里叶变换算法
二元光学元件
衍射光学元件
Keywords
laser beam shaping
Iterative Fourier Transform Algorithm(IFTA)
binary
optical
elements
(
boe
)
diffractive
optical
elements
(
doe
)
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
衍射光学元件制作技术及未来展望
被引量:
5
4
作者
任延同
付永启
机构
中国科学院长春光学精密机械研究所
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1997年第2期7-11,共5页
文摘
回顾了衍射光学元件(DOE)制作技术的发展过程,介绍了未来制作技术的发展以及元件演变的未来趋势。
关键词
衍射光学元件
二元
光学元件
制造工艺
Keywords
diffractive
optical
elements
(
doe
),
binary
optical
elements
(
boe
),
fabrication technology
分类号
TH74 [机械工程—光学工程]
O436.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
二元光学元件横向加工误差对衍射效率的影响
殷可为
黄智强
林妩媚
邢廷文
《光电工程》
CAS
CSCD
北大核心
2011
8
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
光纤激光诱导背面干法刻蚀制备二元衍射光学元件
陈继民
何超
周伟平
申雪飞
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
基于迭代傅里叶变换算法的光束整形元件位相编码的优化设计
徐兵
陈林森
魏国军
《激光杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2004
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
衍射光学元件制作技术及未来展望
任延同
付永启
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1997
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
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引用分析
参考文献
引证文献
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