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Automated visual position detection and adjustment for optical waveguide chips and optical fiber arrays 被引量:1
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作者 郑煜 开小超 +1 位作者 段吉安 李白冰 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第10期3868-3875,共8页
The alignment coupling between optical waveguide chips and optical fiber arrays is the basis of the alignment coupling of planar optical waveguide devices, and the precise position detection with angle and spacing adj... The alignment coupling between optical waveguide chips and optical fiber arrays is the basis of the alignment coupling of planar optical waveguide devices, and the precise position detection with angle and spacing adjustments is one of the key steps of alignment coupling. A methodology for position detection, and angle and spacing adjustment was proposed for optical waveguide chips and optical fiber arrays based on machine vision. The experimental results show angle detection precision levels higher than 0.05°, line detection precision levels higher than 0.1 μm, and detection time less than 2 s. Therefore, the system developed herein meets the precise requirements necessary for position detection, and angle and spacing adjustments for optical waveguide chips and optical fiber arrays. 展开更多
关键词 planar optical waveguide alignment coupling automated alignment machine vision
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Effects of electron beam lithography process parameters on structure of silicon optical waveguide based on SOI
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作者 ZHENG Yu GAO Piao-piao +2 位作者 TANG Xin LIU Jian-zhe DUAN Ji-an 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第10期3335-3345,共11页
Electron beam lithography(EBL) is a key technology in the fabrication of nanoscale silicon optical waveguide. The influence of exposure dose, the main process parameter of EBL, on the structure profile of poly-methyl ... Electron beam lithography(EBL) is a key technology in the fabrication of nanoscale silicon optical waveguide. The influence of exposure dose, the main process parameter of EBL, on the structure profile of poly-methyl methacrylate(PMMA) after development was studied using a silicon on insulator(SOI) wafer with 220 nm top silicon as the substrate. The relationship between exposure dose and structure pattern width after development was analyzed according to the measurement results. The optimum exposure dose of 220 μC/cm^(2) was found to obtain a final structure consistent with the designed mask value through subsequent processes. At the same time, according to the image segmentation curve tracking technology, the contour extraction process of the dose test results was carried out, and the relationship among mask design value, exposure dose and two-dimensional roughness of boundary contour was analyzed, which can provide reference for the subsequent electron beam lithography of the same substrate material. 展开更多
关键词 silicon optical waveguide electron beam lithography exposure dose ROUGHNESS
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Optical Code Generating Device Using 1×N Asymmetric Hollow Waveguide Couplers
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作者 Abang Annuar EHSAN Sahbudin SHAARI +1 位作者 Mohd Kamil ABD. RAHMAN Kee Mohd Rafique KEE ZAINAL ABIDIN 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期849-854,共6页
An optical code generating device for security access system application is presented. The code generating device constructed using asymmetric hollow optical waveguide coupler design provides a unique series of output... An optical code generating device for security access system application is presented. The code generating device constructed using asymmetric hollow optical waveguide coupler design provides a unique series of output light intensities which are successively used as an optical code. The design of the waveguide is made using two major components which are asymmetric Y-junction splitter and a linear taper. Waveguiding is done using a hollow waveguide structure. Construction of higher level 1×N hollow waveguide coupler is done utilizing a basic 1×2 asymmetric waveguide coupler design together with a cascaded design scheme. Non-sequential ray tracing of the asymmetric hollow optical waveguide couplers is performed to predict the optical transmission properties of the waveguide. A representation of the code combination that can be generated from the device is obtained using combinatory number theory. 展开更多
关键词 光代码 光子 波导耦合器 安全接入系统
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Review on plasmon induced transparency based on metal-dielectric-metal waveguides 被引量:2
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作者 DENG Hong-gui TIAN Li-li +4 位作者 XIONG Ru-jing LIU Gang YANG Kai ZHAO Hao-hao WANG Wen-hui 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第3期698-710,共13页
Plasmon induced transparency(PIT)in the transparent window provides new insights into the design of optical filters,switches and storage,and integrated optics.The slow light effect makes PIT applicable to both sensors... Plasmon induced transparency(PIT)in the transparent window provides new insights into the design of optical filters,switches and storage,and integrated optics.The slow light effect makes PIT applicable to both sensors and slow light devices.Besides,PIT can overcome the diffraction limit of light,which makes it possible to manipulate light on a half-wavelength scale and brings good news to the miniaturization of optical devices.In this paper,we first summarize the researches of PIT phenomenon based on metal-dielectric-metal(MDM)waveguide systems and analyze the physical mechanisms of PIT including bright-dark mode interactions and phase-coupling-induced transparency.Then,we review the applications of PIT in optical sensing,optical filtering,optical switching,slow light devices and optical logic devices.At last,we outline important challenges that need to be addressed,provide corresponding solutions and predict important directions for future research in this area. 展开更多
关键词 plasmon induced transparency(PIT) metal-dielectric-metal(MDM)waveguide slow-light effect optical logic devices
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Waveguide electro-optic modulators based on self-assembled material systems 被引量:1
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作者 LIU Zhi-fu MA Jing +6 位作者 SUN De-gui XU Guo-yang HO Seng-Tiong ZHU Pei wang KANG Hu Antonio Facchetti Tobin J. Marks 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期554-560,共7页
Fabrication and characterization of electro-optic modulators based on the novel organic electro-optic materials composed of self-assembled superlattices (SAS) were presented, both wet-dipping self-assembly and vapor p... Fabrication and characterization of electro-optic modulators based on the novel organic electro-optic materials composed of self-assembled superlattices (SAS) were presented, both wet-dipping self-assembly and vapor phase deposition approaches were discussed. Prototype waveguide electro-optic modulators were fabricated using SAS films integrated with low-loss polymeric materials functioning as partial guiding and cladding layers.Promising electro-optic thin film materials including DTPT and PEPCOOH grown from the vapor phase were used for fabrication and test of electro-optic prototype modulators. Finally,the EO coefficient of tens of pm/V was obtained,which can sufficiently support high-speed and small size EO modulators. 展开更多
关键词 电子波导 光电子调节器 SAS 薄膜
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基于结点热光效应的点热源非接触式温度传感器 被引量:1
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作者 刘梅 白鑫 +2 位作者 王嘉诚 周小彤 王志明 《仪器仪表学报》 北大核心 2025年第3期288-295,共8页
传统点热源温度测量方法包括热电偶、电阻温度计和红外测温等,但它们通常存在体积较大、响应速度较慢或难以实现微小区域精确测量的局限性。为此,设计并开发了一种基于光波导交叉结点和热光效应的温度传感器,实现了对小尺寸点热源的非... 传统点热源温度测量方法包括热电偶、电阻温度计和红外测温等,但它们通常存在体积较大、响应速度较慢或难以实现微小区域精确测量的局限性。为此,设计并开发了一种基于光波导交叉结点和热光效应的温度传感器,实现了对小尺寸点热源的非接触式温度测量。采用3D打印法制备了不同形态的光敏树脂结点,激光照射在结点交叉处,结点将激光分散到其分支结构上;氧化铝陶瓷加热片作为点热源提供小范围恒定温度,利用可调压电源实现对其温度的调节。加热片散发的热量改变结点材料的折射率(即热光效应),从而改变其分支出射光强度,光强的变化通过分支末端的光电二极管实时检测。实验证实了该传感器的温度灵敏特性和线性响应特性。结果表明,该传感器在一定范围温度变化中(330℃~554℃)的测量精度优异,具有良好的稳定性和重复性。在465℃~554℃范围内,传感器具有良好的线性特性,检测灵敏度可达-9.4 mV/℃,传感器的重复性误差δR在1.41%~2.11%之间。该方案提供了一种结构简单、成本低的微纳点热源温度检测新方法,为微型化、高灵敏、非接触式温度传感器的设计提供了新的思路,在医疗保健、激光加工和3D打印等领域的温度监测方面具有很大的应用潜力。 展开更多
关键词 光波导结点 温度传感器 点热源 热光效应 光电二极管
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热压印技术制备带覆盖层的As_(2)S_(3)硫系脊型光波导
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作者 胡海 邹林儿 +3 位作者 章玉峰 彭玉发 商俊杰 沈云 《光子学报》 北大核心 2025年第2期165-172,共8页
采用热压印法制备As_(2)S_(3)硫系脊型光波导过程中,波导表面会出现析晶及脱模时黏连问题,难以获得高质量的波导。为此,在As_(2)S_(3)硫系薄膜上蒸镀一层厚约70 nm的具有较高玻璃转化温度的Ge_(20)Sb_(15)Se_(65)硫系薄膜作为覆盖层,实... 采用热压印法制备As_(2)S_(3)硫系脊型光波导过程中,波导表面会出现析晶及脱模时黏连问题,难以获得高质量的波导。为此,在As_(2)S_(3)硫系薄膜上蒸镀一层厚约70 nm的具有较高玻璃转化温度的Ge_(20)Sb_(15)Se_(65)硫系薄膜作为覆盖层,实验发现该覆盖层能抑制As_(2)S_(3)硫系脊型光波导表面退化现象,且能解决脱模时的黏连问题,获得质量良好的完整的硫系脊型光波导。利用此覆盖层,优化制备工艺参数,实验制备了脊宽约为4μm、脊高约为950 nm的As_(2)S_(3)硫系脊型光波导,具有完整的波导轮廓,其传输损耗约为0.48 dB/cm@1550 nm。 展开更多
关键词 集成光学 脊型光波导 热压印技术 硫系玻璃 覆盖层
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一种聚合物封装的光纤布拉格光栅超声波传感器
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作者 涂兴华 赵海洋 《量子电子学报》 北大核心 2025年第2期286-294,共9页
针对裸光纤光栅对超声波响应灵敏度较低的问题,本文提出一种聚合物封装的光纤光栅传感器,通过在光纤光栅周围封装一层厚度远超光纤直径的聚合物涂覆层,提高了光纤光栅在受到超声波作用时的应变灵敏度。首先,建立光纤光栅传感模型,根据... 针对裸光纤光栅对超声波响应灵敏度较低的问题,本文提出一种聚合物封装的光纤光栅传感器,通过在光纤光栅周围封装一层厚度远超光纤直径的聚合物涂覆层,提高了光纤光栅在受到超声波作用时的应变灵敏度。首先,建立光纤光栅传感模型,根据传输矩阵法仿真分析了聚合物杨氏模量和泊松比对光纤光栅应变的影响。随后,利用聚氨酯(PU)、聚丙烯酸酯(ABR)与聚氯乙烯(PVC)塑料三种不同参数的聚合物材料封装光纤光栅,通过线性边缘滤波法将光纤光栅的波长漂移转化为电压信号,测量封装后的传感器对超声波的传感特性。研究结果表明,聚合物杨氏模量的降低与泊松比的提高有助于改善光纤光栅对超声波的响应灵敏度。三种材料中,PU封装后的效果最好,峰值电压达到139.6 mV,约是裸光纤光栅的15倍,且封装后的传感器的峰值电压随着距声源距离的增大呈指数型衰减,符合超声波在水中的理论衰减趋势,可以用来还原空间中的声场状态。 展开更多
关键词 纤维与波导光学 光纤布拉格光栅 线性边缘滤波法 聚合物 超声波传感
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基于CMA-ES算法的集成光学陀螺中弯曲波导损耗优化
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作者 黄腾超 蒋知佑 +3 位作者 赵薪然 张义 赵子强 梁璀 《中国惯性技术学报》 北大核心 2025年第6期601-606,共6页
片上集成敏感环圈是集成光学陀螺仪的基本组成部分之一,其环长直接决定陀螺仪的零偏稳定性和角度随机游走。传感环的直波导传输损耗和弯曲波导辐射损耗共同决定了敏感环圈的最终品质。优化弯曲波导的结构以降低其辐射损耗是提高片上集... 片上集成敏感环圈是集成光学陀螺仪的基本组成部分之一,其环长直接决定陀螺仪的零偏稳定性和角度随机游走。传感环的直波导传输损耗和弯曲波导辐射损耗共同决定了敏感环圈的最终品质。优化弯曲波导的结构以降低其辐射损耗是提高片上集成陀螺仪性能的关键技术之一。通过引入CMA-ES算法设计片上集成传感环上的90°弯曲波导结构,对弯曲波导的几何参数进行了全局空间下的有效优化。仿真结果表明,对于截面3μm×0.15μm的90°氮化硅弯曲波导,在弯曲半径达到200μm以上时可以将弯曲波导的损耗优化降低至10^(-4)d B/90°的水平。证明了CMA-ES算法可以有效优化片上集成传感环的设计、降低其损耗,从而提升集成光学陀螺仪的性能指标,具有工程应用价值。 展开更多
关键词 CMA-ES算法 集成光学陀螺 弯曲光波导
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偏振不敏感窄带切趾光栅滤波器的研究与设计
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作者 李涛 蒲元茂 +5 位作者 郑少南 邱阳 赵兴岩 钟其泽 董渊 胡挺 《光通信研究》 北大核心 2025年第3期46-50,共5页
【目的】针对集成光子滤波器在密集波分复用系统中的应用,文章提出了一种基于绝缘衬底硅(SOI)上的偏振不敏感窄带切趾布拉格光栅滤波器。【方法】采用外脊布拉格光栅结构实现横电场基模(TE0)和横磁场基模(TM0)的相互耦合与转换,使光栅... 【目的】针对集成光子滤波器在密集波分复用系统中的应用,文章提出了一种基于绝缘衬底硅(SOI)上的偏振不敏感窄带切趾布拉格光栅滤波器。【方法】采用外脊布拉格光栅结构实现横电场基模(TE0)和横磁场基模(TM0)的相互耦合与转换,使光栅滤波器在分别输入TE0和TM0模式时,输出的滤波谱线能达到一致。同时,引入高斯分布的互补光栅错位调制结构来抑制滤波谱线中的旁瓣。此外,设计了两种不同宽度的光栅波纹,并实现了窄带滤波。【结果】仿真结果表明,滤波器实现了偏振不敏感,旁瓣抑制比大于22.12 dB,3-dB带宽为1.16 nm,具有良好的偏振一致性。【结论】文章所提工作为硅基光子回路与系统提供了一种偏振不敏感窄带滤波方案。 展开更多
关键词 偏振不敏感 布拉格光栅 切趾 光波导
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无机卤化物钙钛矿CsPbCl_(3)纳米线的可控制备与光学性质
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作者 党婵娟 沈霞 +1 位作者 张保龙 郭鹏飞 《材料导报》 北大核心 2025年第11期53-57,共5页
无机卤化物钙钛矿纳米材料由于具有优异的光电子性能,包括高量子效率、长的载流子扩散长度、可控调制的带隙等,近年来受到科学家的广泛关注。这些优异的半导体材料在钙钛矿太阳能电池、光探测器、发光二极管、纳米激光器、光波导、光传... 无机卤化物钙钛矿纳米材料由于具有优异的光电子性能,包括高量子效率、长的载流子扩散长度、可控调制的带隙等,近年来受到科学家的广泛关注。这些优异的半导体材料在钙钛矿太阳能电池、光探测器、发光二极管、纳米激光器、光波导、光传感器等光电子器件中发挥了重要的作用。本工作主要介绍了一种利用化学气相沉积可控制备无机卤化物钙钛矿CsPbCl_(3)纳米线及纳米薄膜的方法。结构表征证实了得到的纳米薄膜材料表面平整,具有高结晶度,纳米线材料长度为几十微米,直径为100~200 nm。光学测试结果表明,该CsPbCl_(3)薄膜材料发射波长为425 nm,并且与纳米线发射峰位置一致。二维光学映射(2D-PL mapping)图像和荧光光谱结果表明,纳米线具有优良的荧光发射性质,且沿着纳米线轴向发光均匀,具有良好的光波导效应。这一钙钛矿材料可为未来纳米光通信和全光传输器件设计提供基础。 展开更多
关键词 化学气相沉积法 无机卤化物钙钛矿薄膜 钙钛矿纳米线 光波导 纳米光子学
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基于晶体光波导的长寿命光存储
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作者 郑亮 刘超 +1 位作者 周宗权 李传锋 《量子电子学报》 北大核心 2025年第2期246-254,共9页
基于稀土离子掺杂晶体中的光波导,研发了一种可集成的长寿命光存储器。该存储器采用飞秒激光微加工技术制作,具有20μm截面尺度与5 dB的总插损。在该存储器中进行了长寿命光存储演示,其存储效率衰减曲线呈现多指数衰减模式,衰减模式的... 基于稀土离子掺杂晶体中的光波导,研发了一种可集成的长寿命光存储器。该存储器采用飞秒激光微加工技术制作,具有20μm截面尺度与5 dB的总插损。在该存储器中进行了长寿命光存储演示,其存储效率衰减曲线呈现多指数衰减模式,衰减模式的特征时间常数分别为4.9±0.1 h与14.2±0.8 h。该存储器在1.4 s存储时间下的存储效率为8.1%,最长存储时间达到24 h,对应存储效率约为0.6%。这种长寿命的晶体波导型光存储器具有向二维集成阵列发展的潜力,有望在集成光学信息处理领域得到应用。 展开更多
关键词 量子光学 光存储 集成光学 光波导
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基于级联多模干涉耦合器的模式选择开关
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作者 王曼卓 姚振涛 +5 位作者 孙朝阳 张越 方记民 孙小强 吴远大 张大明 《光子学报》 北大核心 2025年第3期147-159,共13页
提出并制备了一种由1×3多模干涉(Multimode Interference,MMI)耦合器和3×3 MMI耦合器级联构建的二氧化硅波导模式选择开关,通过热光调制改变输入至3×3 MMI耦合器光信号的相位,可实现一阶模(E_(10))输入转换为基模(E_(00... 提出并制备了一种由1×3多模干涉(Multimode Interference,MMI)耦合器和3×3 MMI耦合器级联构建的二氧化硅波导模式选择开关,通过热光调制改变输入至3×3 MMI耦合器光信号的相位,可实现一阶模(E_(10))输入转换为基模(E_(00)),并有选择地从目标端口输出;当输入为基模(E_(00))时,E_(00)可直接由选定端口输出。开关采用光束传播方法(Beam Propagation Method,BPM)进行设计和优化,并且通过标准CMOS技术制备。测试结果表明,一阶模(E_(10))在两个输出端口间切换时,驱动功耗分别为170 mW和395.3 mW。在1523~1556 nm波长范围内,三个输出端口的插入损耗、串扰和消光比分别≤10 dB、≤-15 dB和≥15 dB。开关的上升时间为0.9418 ms,下降时间为1.042 ms。所提出的模式选择开关在片上信号路由应用中具有良好的潜力。 展开更多
关键词 光通信 多模干涉 模分复用 模式开关 二氧化硅波导
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基于锥形多模干涉结构的紧凑型分束器
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作者 陈宗胜 李志刚 +3 位作者 常亚婧 王亚辉 邓学松 刘丽萍 《应用光学》 北大核心 2025年第2期276-281,共6页
紧凑型光分束器对于提升集成光子系统性能或发展新的应用具有重要作用。根据自成像理论,提出一种基于锥形多模干涉结构的紧凑型分束器。首先,采用时域有限差分法对分束器的光学性能进行模拟分析,将传输效率最大化后得到优化的结构参数为... 紧凑型光分束器对于提升集成光子系统性能或发展新的应用具有重要作用。根据自成像理论,提出一种基于锥形多模干涉结构的紧凑型分束器。首先,采用时域有限差分法对分束器的光学性能进行模拟分析,将传输效率最大化后得到优化的结构参数为:锥形波导长度20μm,多模干涉波导长度3.8μm,间隙宽度0.50μm。然后对采用优化后的结构参数的分束器进行仿真分析。仿真结果表明,在1480 nm~1610 nm波长范围内,分束器2个分支的传输损耗优于−3.46 dB,并且2个分支之间的输出能量差小于0.1%。最后,对设计的器件进行加工和实验测试。测试结果表明:在1581 nm波长上,设计加工的分束器2个通道的损耗达到最小,分别为−2.31 dB和−4.83 dB。该器件结构简单,在集成度、设备制造和低成本方面具有较大优势,在集成光子系统中有较好的应用前景。 展开更多
关键词 紧凑型分束器 锥形结构 多模干涉 光波导
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光纤-硫系玻璃埋入式光波导耦合效率研究
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作者 车文龙 张悦 +4 位作者 赵建行 曹英浩 周姚 宋瑛林 周见红 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第1期239-246,共8页
“后摩尔”时代,光子芯片因其具备高速度、大带宽、低能耗等特点获得了广泛研究,光波导作为光子芯片的基本元件,把光从光纤耦合到光波导中是一项值得研究的关键技术。硫系玻璃的较高折射率、超快非线性响应、以及超宽的红外透过区域等特... “后摩尔”时代,光子芯片因其具备高速度、大带宽、低能耗等特点获得了广泛研究,光波导作为光子芯片的基本元件,把光从光纤耦合到光波导中是一项值得研究的关键技术。硫系玻璃的较高折射率、超快非线性响应、以及超宽的红外透过区域等特性,使其具有许多传统红外材料所不具备的优势,其性能和用途无法被其他红外光学材料所取代,相比于硅基光子芯片,硫系玻璃光子芯片能够实现中远红外范围的应用。文中通过真空热蒸发法在玻璃基底沉积硫系玻璃Ge_(28)Sb_(12)Se_(60)薄膜,利用移动曝光的方式验证硫系玻璃Ge_(28)Sb_(12)Se_(60)具有光致漂白效应,在1310 nm处曝光前后折射率改变量约0.013。通过掩膜移动曝光法在硫系玻璃Ge_(28)Sb_(12)Se_(60)薄膜中制备埋入式光波导,并实现了光纤-埋入式光波导的端面耦合,研究了输入端光纤与埋入式硫系玻璃光波导之间的耦合效率问题,实验测得耦合效率为0.575%;此外,还通过光束传播方法对实验过程进行模拟,研究结果表明,实验与仿真耦合效率随光纤位移变化趋势一致。该研究对硫系玻璃薄膜在红外光学信息处理、光通信等领域具有一定的借鉴意义。 展开更多
关键词 硫系玻璃 端面耦合 光束传播方法 埋入式光波导
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基于空心玻璃微珠的多层衍射光波导镜片高精度装配间隔控制
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作者 白家荣 姚鹏 +6 位作者 刘凯 刘祥 王茜 李丰国 褚东凯 侯士杰 屈硕硕 《光学精密工程》 北大核心 2025年第9期1420-1433,共14页
针对增强现实光学模组中多层衍射光波导镜片叠合装配的间隔精度控制需求,提出了一种基于空心玻璃微珠的精密间隔控制方法。通过理论计算与光学模拟仿真,得出衍射光波导镜片满足成像需求所允许的间隔误差。然后,设计分选工艺,自主搭建筛... 针对增强现实光学模组中多层衍射光波导镜片叠合装配的间隔精度控制需求,提出了一种基于空心玻璃微珠的精密间隔控制方法。通过理论计算与光学模拟仿真,得出衍射光波导镜片满足成像需求所允许的间隔误差。然后,设计分选工艺,自主搭建筛分设备,获取特定粒径分布的空心玻璃微珠,并作为超精密间隔标准物质,用于精密控制衍射光波导镜片的叠合装配间隔。最后,利用自主研发的高精度衍射光波导镜片叠合系统,完成了多层衍射光波导镜片的叠合装配实验。实验结果表明:分选后的空心玻璃微珠形状良好且粒径分布更加集中,平均粒径为38.36μm,标准偏差为1.60μm;通过50组衍射光波导镜片叠合样本的间隔误差验证,62%的样本能够满足高质量成像要求,98%的样本能够满足基本成像要求。该精密间隔控制方法能够满足多层衍射光波导镜片叠合装配的间隔精度以及误差范围,具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 衍射光波导镜片 空心玻璃微珠 叠合装配 粒径精度 间隔误差
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SSH模型中拓扑态的探索及其在微环谐振器和半导体激光器中的应用
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作者 田果果 余琴 +2 位作者 张苏娟 郭平 郑继明 《光子学报》 北大核心 2025年第2期228-239,共12页
通过紧束缚模型和传输矩阵法,探讨了在无限大的苏-施里费-希格模型中实现拓扑非平庸态的各种参数取值范围。研究发现,不同格点之间的耦合强度、增益损耗以及虚数规范场的存在,均是导致系统出现拓扑非平庸特性的关键因素。在此基础上,进... 通过紧束缚模型和传输矩阵法,探讨了在无限大的苏-施里费-希格模型中实现拓扑非平庸态的各种参数取值范围。研究发现,不同格点之间的耦合强度、增益损耗以及虚数规范场的存在,均是导致系统出现拓扑非平庸特性的关键因素。在此基础上,进一步研究了基于苏-施里费-希格模型的有限大微环谐振阵列,观察到了受到拓扑保护的稳定边界态和拓扑超模态。最终,通过求解多腔体耦合的半导体激光器速率方程,研究了在拓扑超模态条件下的激光输出特性,观察到了由超模态构成的稳定激光输出。此外,本文还探讨了通过调节耦合强度和泵浦电流实现从全局分布的拓扑超模态到局域化的拓扑边界态的转变,为激光器输出模式的调控提供了新的策略。 展开更多
关键词 拓扑激光器 耦合谐振腔光波导 SSH模型 激光速率方程 拓扑超模 拓扑边界态
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基于混合型光波导场增强的高灵敏折射率传感器
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作者 李正大 李辉 +4 位作者 邓成钊 林雪莹 鹿姚 肖莹 万洪丹 《光子学报》 北大核心 2025年第4期101-113,共13页
提出并研究了混合型光波导高灵敏折射率(RI)传感器。通过光纤包层抛磨、化学腐蚀以及熔融拉锥三种方法压缩中间段光子晶体光纤(PCF)包层厚度,增强倏逝场强度,进一步提高单模-光子晶体-单模光纤(SMF-PCF-SMF)混合型光波导结构RI传感性能... 提出并研究了混合型光波导高灵敏折射率(RI)传感器。通过光纤包层抛磨、化学腐蚀以及熔融拉锥三种方法压缩中间段光子晶体光纤(PCF)包层厚度,增强倏逝场强度,进一步提高单模-光子晶体-单模光纤(SMF-PCF-SMF)混合型光波导结构RI传感性能。理论分析了其传感原理,结合微流控夹具封装传感器,实验测试和对比了三种压缩中间段PCF包层厚度方法实现的高灵敏度液态样本RI传感特性。实验结果证明,三种微纳加工方式均提高了RI传感的线性度,且通过熔融拉锥法压缩SMF-PCF-SMF中间段PCF包层厚度,获得的液态样本RI灵敏度最高,达1405.36 nm/RIU,提高了~24倍。该RI传感器具有体积小、便于集成、灵敏度高等优势,在RI传感、工业生产等领域具有重要应用价值。 展开更多
关键词 混合型光波导 倏逝场增强 高灵敏 折射率传感 微纳加工
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基于聚合物波导的粗波分复用器设计制备技术研究
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作者 于前程 刘旭 +2 位作者 马麟 吴金华 何祖源 《光子学报》 北大核心 2025年第5期60-68,共9页
提出了一种基于两级级联马赫曾德尔干涉仪结构的聚合物波导粗波分复用器。通过在弧形波导与直波导的连接处引入偏移并开展系统优化设计,降低了器件损耗约1.5 dB,实现了低至0.4 dB的通道间相对插入损耗。采用紫外光刻与湿法显影工艺,实... 提出了一种基于两级级联马赫曾德尔干涉仪结构的聚合物波导粗波分复用器。通过在弧形波导与直波导的连接处引入偏移并开展系统优化设计,降低了器件损耗约1.5 dB,实现了低至0.4 dB的通道间相对插入损耗。采用紫外光刻与湿法显影工艺,实现了聚合物粗波分复用器制备。实验结果表明,制备得到的粗波分器件具有良好的中心波长精度,所有信道的中心波长偏差均小于0.5 nm,最小额外插入损耗为2.7 dB,3 dB带宽20 nm左右。此外,该器件具有良好的温度稳定性。由室温加热至150℃时的中心波长偏移小于1.8 nm。提出的聚合物波导粗波分复用器在高速板级光互连中具有良好的应用前景。 展开更多
关键词 聚合物波导 马赫曾德尔干涉仪 紫外光刻 粗波分复用 光互连
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氮化镓光波导的损耗特性分析与工艺优化
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作者 尹慧萍 李文迪 +4 位作者 冯萧萧 秦飞飞 施政 王永进 李欣 《中国光学(中英文)》 北大核心 2025年第3期477-486,共10页
本文利用基于光束传播方法的有限元仿真模型研究了氮化镓(GaN)平面光波导的传输损耗特性,并针对传统GaN波导损耗较大的问题提出了工艺优化方案。通过构建完整的传输损耗模型,系统分析了波导几何参数对传输特性的影响,重点研究了顶部刻... 本文利用基于光束传播方法的有限元仿真模型研究了氮化镓(GaN)平面光波导的传输损耗特性,并针对传统GaN波导损耗较大的问题提出了工艺优化方案。通过构建完整的传输损耗模型,系统分析了波导几何参数对传输特性的影响,重点研究了顶部刻蚀和背后减薄两种优化工艺的改善效果。研究结果表明,这两种工艺均可显著降低波导传输损耗。其中顶部刻蚀工艺和背后减薄工艺可将损耗从2.29 dB/mm分别降至0.19 dB/mm和0.24 dB/mm。此外,本文还量化分析了制造工艺引入的侧壁夹角和表面粗糙度等缺陷对传输损耗的影响,并通过参数优化确定了实现可见光单模传输的关键结构尺寸。本文研究成果为设计和制备低损耗GaN平面光波导提供了理论依据和工艺指导。 展开更多
关键词 氮化镓光波导 可见光通信 传输损耗 工艺优化 单模传输
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