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大面积金属场致发射阴极阵列制造的新方法
1
作者
李天英
朱长纯
+2 位作者
薛耀国
张声良
单建安
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第11期48-51,共4页
本文提出了以玻璃为基质，以厚感光有机膜为铸模，利用光刻法制作大面积金属场致发射阴极阵列的新方法。对该方法的工艺结果进行了计算机模拟并在现有条件下进行了初步的工艺探索，最后讨论了改进措施。
关键词
阴极阵列
场致发射
光刻
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职称材料
题名
大面积金属场致发射阴极阵列制造的新方法
1
作者
李天英
朱长纯
薛耀国
张声良
单建安
机构
西安交通大学电信学院
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第11期48-51,共4页
基金
国家自然科学基金
文摘
本文提出了以玻璃为基质，以厚感光有机膜为铸模，利用光刻法制作大面积金属场致发射阴极阵列的新方法。对该方法的工艺结果进行了计算机模拟并在现有条件下进行了初步的工艺探索，最后讨论了改进措施。
关键词
阴极阵列
场致发射
光刻
Keywords
cathode array
,
field emission
,
photolithography
分类号
TN14 [电子电信—物理电子学]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大面积金属场致发射阴极阵列制造的新方法
李天英
朱长纯
薛耀国
张声良
单建安
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
0
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