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准分子激光选择CVD技术的SnO_2薄膜图形生长及微透镜制作 被引量:2
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作者 王庆亚 姜喜兰 +1 位作者 马力 郑伟 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第S1期328-330,共3页
准分子激光CVD由于紫外光参与并促进了其源分解,所以对激光光束具有很强的选择性从而可以实现图形转换和直接图形生长,我们利用这一特点在自己建立的准分子激光选择CVD系统上得到了SnO2薄膜生长速率与激光能量密度间的关系... 准分子激光CVD由于紫外光参与并促进了其源分解,所以对激光光束具有很强的选择性从而可以实现图形转换和直接图形生长,我们利用这一特点在自己建立的准分子激光选择CVD系统上得到了SnO2薄膜生长速率与激光能量密度间的关系曲线,并玻璃和Si衬底上实现了SnO2薄膜的宽约80μm条伏和面积100×100μm2方形图形生长,同时也在Si衬底进行了微透镜制作的尝试,获得了半径约45μm近高斯分布的SnO2,薄膜,其中心最大厚度约970mm。 展开更多
关键词 准分子激光 微透镜 薄膜图形 cvd技术 SnO2 薄膜生长速率 图形转换 高斯分布 准分子激光器 激光能量密度
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CVD技术主张中的童装品牌价值与设计理念
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作者 于国瑞 《丝绸》 CAS 北大核心 2005年第6期14-16,共3页
运用CVD技术主张的新视角对童装品牌价值和设计进行再思考,提出童装品牌价值提升的自上而下的童装设计理念。
关键词 cvd技术 品牌价值 设计理念 童装 自上而下
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爱恩邦德——全球领先的PVD、CVD和PACVD技术
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《工具技术》 2012年第4期I0014-I0014,共1页
总部和设备制造部设在瑞士的爱恩邦德公司是耐磨损和低摩擦涂层行业的领军者。业务范围包括PVD、CVD、CVA、PACVD设备制造和涂层服务,可在薄膜涂层技术领域提供更多的技术解决方案。爱恩邦德公司在全球拥有40多家涂层中心和本地设备销... 总部和设备制造部设在瑞士的爱恩邦德公司是耐磨损和低摩擦涂层行业的领军者。业务范围包括PVD、CVD、CVA、PACVD设备制造和涂层服务,可在薄膜涂层技术领域提供更多的技术解决方案。爱恩邦德公司在全球拥有40多家涂层中心和本地设备销售和服务商.在中国有3个涂层中心和一个设备销售服务商。 展开更多
关键词 cvd技术 PAcvd PVD 涂层技术 设备制造 服务商 低摩擦 耐磨损
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金刚石薄膜的微波CVD法制备及其场致发射
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作者 姚宁 李运钧 何金田 《郑州大学学报(理学版)》 CAS 1996年第S2期46-48,共3页
本文介绍了用微波CVD技术沉积金刚石薄膜的设备和工艺条件,同时对金刚石薄膜的场致发射进行了初步研究。
关键词 微波cvd技术 场致发射 金刚石薄膜 金刚石镶嵌 非晶碳膜
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超微粒子制备技术在功能包装材料制造中的应用研究 被引量:1
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作者 向贤伟 陈新 《包装工程》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期164-166,共3页
研究了超微粒子制备技术在功能包装中的应用 ,特别是与超微粒子气相沉积技术 ,CVD合成技术 ,PVD技术以及SOL -GEL技术等结合在各种功能包装材料中的应用方法及前景。
关键词 超微粒子制备技术 功能包装材料 超微粒子气相沉积技术 cvd合成技术 PVD技术 SOL-GEL技术 SOL-GEL技术 反应特性
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镱掺杂铝磷硅三元体系激光光纤实现3.1kW输出
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作者 林傲祥 黄志华 +6 位作者 王瑜英 湛欢 倪力 彭昆 林宏奂 王建军 景峰 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期41-41,共1页
影响激光光纤产品质量的因素主要包括稀土离子掺杂浓度、掺杂均匀性、数值孔径、背景损耗和基质材料等,制备方法是利用传统MCVD技术结合稀土离子掺杂工艺来完成特种石英光纤预制棒的制作,完成外形加工后拉制成合格的光纤产品。由于工... 影响激光光纤产品质量的因素主要包括稀土离子掺杂浓度、掺杂均匀性、数值孔径、背景损耗和基质材料等,制备方法是利用传统MCVD技术结合稀土离子掺杂工艺来完成特种石英光纤预制棒的制作,完成外形加工后拉制成合格的光纤产品。由于工艺过程复杂,技术环节众多,光纤预制棒制备技术和特种光纤拉制技术均是制备高功率激光光纤产品的关键所在。 展开更多
关键词 激光光纤 镱掺杂 三元体系 cvd技术 光纤预制棒 输出 磷硅 稀土离子
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硼基材料在表面工程上应用的潜力 被引量:3
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作者 赵振波 刘澄 +4 位作者 朱启惠 于晓东 倪国年 朱时珍 钟家湘 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第9期35-38,共4页
全面阐述了硼基材料适于表面工程上应用的各种潜在性能与特点,并分析了其在表面工程上的各种应用前景。
关键词 硼基材料 表面工程 硬度 cvd技术 渗硼
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SiC材料与器件 被引量:4
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作者 彭军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1995年第5期33-40,共8页
SiC材料在用作特殊的高温大功率和高速器件方面引起关注是由于它独特的物理和电学性质。本文介绍了SiC的基本特性,SiC薄膜的CVD法和溅射法生长技术,详细地报导和讨论了SiC器件的最新进展,并指出存在的问题及发展趋势。
关键词 碳化硅材料 cvd生长技术
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宁波材料所在二维纳米防护薄膜材料方面取得研究进展
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作者 新型 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期273-273,共1页
近期,中国科学院宁波材料技术与工程研究所海洋新材料与应用技术重点实验室王立平研究员团队利用CVD技术在多晶铜衬底上成功制备了一系列的氮掺杂石墨烯薄膜.通过调节NHs的气流量获得不同氮浓度的氮掺杂石墨烯薄膜。同时,研究发现氮掺... 近期,中国科学院宁波材料技术与工程研究所海洋新材料与应用技术重点实验室王立平研究员团队利用CVD技术在多晶铜衬底上成功制备了一系列的氮掺杂石墨烯薄膜.通过调节NHs的气流量获得不同氮浓度的氮掺杂石墨烯薄膜。同时,研究发现氮掺入石墨烯晶格网络中会造成薄膜体系的导电率相比于原始石墨烯下降,在大气长效暴露试验条件下,低导电的氮掺杂石墨烯薄膜可抑制电子在腐蚀界面的传输,降低铜和氮掺杂石墨烯界面处的电化学腐蚀速率,有效延缓腐蚀区域的扩散,表现出更佳的长效腐蚀防护性能,但该方法仍不能根除薄膜在生长过程中形成的结构缺陷,以及所造成的表面不均匀的腐蚀点。 展开更多
关键词 薄膜材料 防护性能 宁波 cvd技术 纳米 二维 腐蚀界面 石墨烯
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