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磁控溅射参数对CN_x薄膜成分、化学结合状态和硬度的影响
被引量：
4
1
作者
郑伟涛
丁涛
+2 位作者
李海波
陈岗
王煜明
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
1997年第1期8-11,共4页
应用直流非平衡磁控溅射系统在不同实验条件下制备了ＣＮｘ薄膜材料，其最大氮原子百分含量为３７％。通过傅里叶变换红外光谱、Ｘ光光电子能谱以及显微压痕法的测量和分析，对得到的ＣＮｘ薄膜材料中的原子化学结合状态、硬度等性质进...
应用直流非平衡磁控溅射系统在不同实验条件下制备了ＣＮｘ薄膜材料，其最大氮原子百分含量为３７％。通过傅里叶变换红外光谱、Ｘ光光电子能谱以及显微压痕法的测量和分析，对得到的ＣＮｘ薄膜材料中的原子化学结合状态、硬度等性质进行了表征。
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关键词
cn
x
薄膜
生长
表征
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职称材料
题名
磁控溅射参数对CN_x薄膜成分、化学结合状态和硬度的影响
被引量：
4
1
作者
郑伟涛
丁涛
李海波
陈岗
王煜明
机构
吉林大学材料科学系
出处
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
1997年第1期8-11,共4页
文摘
应用直流非平衡磁控溅射系统在不同实验条件下制备了ＣＮｘ薄膜材料，其最大氮原子百分含量为３７％。通过傅里叶变换红外光谱、Ｘ光光电子能谱以及显微压痕法的测量和分析，对得到的ＣＮｘ薄膜材料中的原子化学结合状态、硬度等性质进行了表征。
关键词
cn
x
薄膜
生长
表征
Keywords
cn x thim films
,
growth
,
characterization
分类号
TB43 [一般工业技术]
O484.4 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁控溅射参数对CN_x薄膜成分、化学结合状态和硬度的影响
郑伟涛
丁涛
李海波
陈岗
王煜明
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
1997
4
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