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短沟道CMOS/SIMOX器件及电路的辐照特性研究
1
作者
张兴
王阳元
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第11期30-32,47,共4页
利用薄膜全耗尽CMOS/SOI工艺成功地研制了沟道长度为1.0μm的薄膜抗辐照SIMOXMOSFET、CMOS/SIMOX反相器和环振电路,N和PMOSFET在辐照剂量分别为3x105rad(Si)和7x105rad...
利用薄膜全耗尽CMOS/SOI工艺成功地研制了沟道长度为1.0μm的薄膜抗辐照SIMOXMOSFET、CMOS/SIMOX反相器和环振电路,N和PMOSFET在辐照剂量分别为3x105rad(Si)和7x105rad(Si)时的阈值电压漂移均小于1V,19级CMOS/SIMOX环振经过5x105rad(Si)剂量的电离辐照后仍能正常工作,其门延迟时间由辐照前的237ps变为328ps。
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关键词
cmos/simox
薄膜
mosfet
SOI器件
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职称材料
超高速CMOS/SOI51级环振电路的研制
被引量:
2
2
作者
奚雪梅
张兴
+2 位作者
倪卫华
阎桂珍
王阳元
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期44-46,共3页
利用CMOS/SOI工艺在 4英寸SIMOX材料上成功制备出沟道长度为 1μm、器件性能良好的CMOS/SOI部分耗尽器件和电路 ,从单管的开关电流比看 ,电路可以实现较高速度性能的同时又可以有效抑制泄漏电流 .所研制的 5 1级CMOS/SOI环振电路表现出...
利用CMOS/SOI工艺在 4英寸SIMOX材料上成功制备出沟道长度为 1μm、器件性能良好的CMOS/SOI部分耗尽器件和电路 ,从单管的开关电流比看 ,电路可以实现较高速度性能的同时又可以有效抑制泄漏电流 .所研制的 5 1级CMOS/SOI环振电路表现出优越的高速度性能 ,5V电源电压下单门延迟时间达到 92ps,同时可工作的电源电压范围较宽 ,说明CMOS/SOI技术在器件尺寸降低后将表现出比体硅更具吸引力的应用前景 .
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关键词
cmos/
SOI
环振电路
集成电路
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职称材料
深亚微米薄膜CMOS/SOI电路的集成器件线路模拟
3
作者
张兴
石涌泉
黄敞
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第2期96-99,共4页
开发了适用于薄膜亚微米、深亚微米CMOS/SOI电路的集成器件线路模拟软件,该模拟软件采用集成数值模型,将薄膜SOI器件的数值模拟与电路模拟有机地结合在一起,实现了薄膜亚微米、深亚微米CMOS/SOI电路的精确数值模...
开发了适用于薄膜亚微米、深亚微米CMOS/SOI电路的集成器件线路模拟软件,该模拟软件采用集成数值模型,将薄膜SOI器件的数值模拟与电路模拟有机地结合在一起,实现了薄膜亚微米、深亚微米CMOS/SOI电路的精确数值模拟,利用这一软件较为详细地分析了硅层厚度为50~400nm、沟道长度为0.15~1.0μm的CMOS/SOI环形振荡器电路,使我们对深亚微米薄膜CMOS/SOI环振的特性及工作机理有了较为清晰的认识,模拟结果与实验结果进行了对照,两者吻合得较好。
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关键词
cmos/
SOI
集成数值模型
环振
薄膜电路
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职称材料
题名
短沟道CMOS/SIMOX器件及电路的辐照特性研究
1
作者
张兴
王阳元
机构
北京大学微电子学研究所
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第11期30-32,47,共4页
文摘
利用薄膜全耗尽CMOS/SOI工艺成功地研制了沟道长度为1.0μm的薄膜抗辐照SIMOXMOSFET、CMOS/SIMOX反相器和环振电路,N和PMOSFET在辐照剂量分别为3x105rad(Si)和7x105rad(Si)时的阈值电压漂移均小于1V,19级CMOS/SIMOX环振经过5x105rad(Si)剂量的电离辐照后仍能正常工作,其门延迟时间由辐照前的237ps变为328ps。
关键词
cmos/simox
薄膜
mosfet
SOI器件
Keywords
cmos/simox
,
thin film
,
mosfet
,
ring oscillator
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
超高速CMOS/SOI51级环振电路的研制
被引量:
2
2
作者
奚雪梅
张兴
倪卫华
阎桂珍
王阳元
机构
北京大学微电子研究所
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期44-46,共3页
文摘
利用CMOS/SOI工艺在 4英寸SIMOX材料上成功制备出沟道长度为 1μm、器件性能良好的CMOS/SOI部分耗尽器件和电路 ,从单管的开关电流比看 ,电路可以实现较高速度性能的同时又可以有效抑制泄漏电流 .所研制的 5 1级CMOS/SOI环振电路表现出优越的高速度性能 ,5V电源电压下单门延迟时间达到 92ps,同时可工作的电源电压范围较宽 ,说明CMOS/SOI技术在器件尺寸降低后将表现出比体硅更具吸引力的应用前景 .
关键词
cmos/
SOI
环振电路
集成电路
Keywords
cmos/
SOI
mosfet
ring oscillator
分类号
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
深亚微米薄膜CMOS/SOI电路的集成器件线路模拟
3
作者
张兴
石涌泉
黄敞
机构
北京大学微电子学研究所
出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第2期96-99,共4页
文摘
开发了适用于薄膜亚微米、深亚微米CMOS/SOI电路的集成器件线路模拟软件,该模拟软件采用集成数值模型,将薄膜SOI器件的数值模拟与电路模拟有机地结合在一起,实现了薄膜亚微米、深亚微米CMOS/SOI电路的精确数值模拟,利用这一软件较为详细地分析了硅层厚度为50~400nm、沟道长度为0.15~1.0μm的CMOS/SOI环形振荡器电路,使我们对深亚微米薄膜CMOS/SOI环振的特性及工作机理有了较为清晰的认识,模拟结果与实验结果进行了对照,两者吻合得较好。
关键词
cmos/
SOI
集成数值模型
环振
薄膜电路
Keywords
thin film
,
cmos/
SOI,Integrated numerical model,
ring oscillator
s
分类号
TN451.02 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
短沟道CMOS/SIMOX器件及电路的辐照特性研究
张兴
王阳元
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
0
在线阅读
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职称材料
2
超高速CMOS/SOI51级环振电路的研制
奚雪梅
张兴
倪卫华
阎桂珍
王阳元
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
深亚微米薄膜CMOS/SOI电路的集成器件线路模拟
张兴
石涌泉
黄敞
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
0
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职称材料
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