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脉冲激光沉积法制备立方焦绿石结构的Bi_(1.5)ZnNb_(1.5)O_7薄膜
被引量：
4
1
作者
张效华
辛凤
+4 位作者
胡跃辉
杨丰
陈义川
范跃农
曾庆明
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第3期232-235,共4页
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5ZnNb1.507（BZN）陶瓷靶材，采用脉冲激光沉积法在Pt／SiO2／si（100）基片制备立方BZN薄膜。研究了随衬底温度的变化，薄膜的结晶性能，微观形貌以及介电性能的差异。结果表明当衬底温度在...
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5ZnNb1.507（BZN）陶瓷靶材，采用脉冲激光沉积法在Pt／SiO2／si（100）基片制备立方BZN薄膜。研究了随衬底温度的变化，薄膜的结晶性能，微观形貌以及介电性能的差异。结果表明当衬底温度在550-650℃时，薄膜具有纯的立方BZN结构，并且在600℃时薄膜的晶粒发育比较完整，此时薄膜具有较高的介电常数和较低的损耗。
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关键词
bi1.5znnb1.5o7薄膜脉冲激光沉积微结构介电性能
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职称材料
沉积氧压对Bi_(1.5)ZnNb_(1.5)O_7薄膜的结构和介电特性的影响
被引量：
2
2
作者
张效华
辛凤
+2 位作者
胡跃辉
杨丰
陈义川
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期448-451,共4页
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5ZnNb1.5O7(BZN)陶瓷靶材,采用脉冲激光沉积法在Pt/SiO2/Si(100)基片上制备立方BZN薄膜。研究了沉积氧压的变化对薄膜的结晶性能,微观形貌以及介电性能的影响。结果表明:沉积的BZN薄膜都呈...
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5ZnNb1.5O7(BZN)陶瓷靶材,采用脉冲激光沉积法在Pt/SiO2/Si(100)基片上制备立方BZN薄膜。研究了沉积氧压的变化对薄膜的结晶性能,微观形貌以及介电性能的影响。结果表明:沉积的BZN薄膜都呈现出立方焦绿石单相结构,但是薄膜的取向随氧压变化而变化。当沉积氧压为10 Pa时,薄膜的(222)晶面拥有最强的择优取向。随着氧压的升高,BZN薄膜的介电常数明显降低。在10 Pa氧压下沉积的BZN薄膜展示出介电可调特性为5%(500 kV/cm)。
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关键词
bi
1.5
znnb
1.5
o
7
薄膜
脉冲
激光
沉积
微结构
介
电性能
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职称材料
题名
脉冲激光沉积法制备立方焦绿石结构的Bi_(1.5)ZnNb_(1.5)O_7薄膜
被引量：
4
1
作者
张效华
辛凤
胡跃辉
杨丰
陈义川
范跃农
曾庆明
机构
景德镇陶瓷学院机械与电子工程学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第3期232-235,共4页
文摘
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5ZnNb1.507（BZN）陶瓷靶材，采用脉冲激光沉积法在Pt／SiO2／si（100）基片制备立方BZN薄膜。研究了随衬底温度的变化，薄膜的结晶性能，微观形貌以及介电性能的差异。结果表明当衬底温度在550-650℃时，薄膜具有纯的立方BZN结构，并且在600℃时薄膜的晶粒发育比较完整，此时薄膜具有较高的介电常数和较低的损耗。
关键词
bi1.5znnb1.5o7薄膜脉冲激光沉积微结构介电性能
Keywords
BZN thin films, Pulsed laser dep
o
siti
o
n, Micr
o
structure, Dielectric pr
o
perty
分类号
TB303 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
沉积氧压对Bi_(1.5)ZnNb_(1.5)O_7薄膜的结构和介电特性的影响
被引量：
2
2
作者
张效华
辛凤
胡跃辉
杨丰
陈义川
机构
景德镇陶瓷学院机械与电子工程学院
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期448-451,共4页
文摘
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5ZnNb1.5O7(BZN)陶瓷靶材,采用脉冲激光沉积法在Pt/SiO2/Si(100)基片上制备立方BZN薄膜。研究了沉积氧压的变化对薄膜的结晶性能,微观形貌以及介电性能的影响。结果表明:沉积的BZN薄膜都呈现出立方焦绿石单相结构,但是薄膜的取向随氧压变化而变化。当沉积氧压为10 Pa时,薄膜的(222)晶面拥有最强的择优取向。随着氧压的升高,BZN薄膜的介电常数明显降低。在10 Pa氧压下沉积的BZN薄膜展示出介电可调特性为5%(500 kV/cm)。
关键词
bi
1.5
znnb
1.5
o
7
薄膜
脉冲
激光
沉积
微结构
介
电性能
Keywords
BZN thin films
pulsed laser dep
o
siti
o
n
micr
o
structure
dielectric pr
o
perty
分类号
TB303 [一般工业技术—材料科学与工程]
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1
脉冲激光沉积法制备立方焦绿石结构的Bi_(1.5)ZnNb_(1.5)O_7薄膜
张效华
辛凤
胡跃辉
杨丰
陈义川
范跃农
曾庆明
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
4
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职称材料
2
沉积氧压对Bi_(1.5)ZnNb_(1.5)O_7薄膜的结构和介电特性的影响
张效华
辛凤
胡跃辉
杨丰
陈义川
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
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