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Effects of Multilayer Structure of Ag-SiO_(2) Films on the Photonic Band Gap 被引量:1
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作者 Song Zhitang Chen Su +1 位作者 Wang Yang Feng Songlin 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期1736-1739,共4页
The one-dimensional photonic crystals of Ag/SiO_(2) system are studied to investigate the photonic band gaps (PBG). The samples were prepared by the ultra-high vacuum electron beam evaporation. The clear band gaps wer... The one-dimensional photonic crystals of Ag/SiO_(2) system are studied to investigate the photonic band gaps (PBG). The samples were prepared by the ultra-high vacuum electron beam evaporation. The clear band gaps were observed. Satisfactory agreement between experimental and calculated results was obtained without fitting. The thickness of SiO_(2 )film has influence on the photonic band gap, as well as it awfully affects the transmittance of Ag. More layers can get clearer PBG. 展开更多
关键词 Photonic crystal Photonic band gap Ultra-high vacuum electron beam evaporation Ag/sio2 multilayer
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AlN/SiC_w(Y_2O_3SiO_2)复合材料热处理增强机理
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作者 张宏泉 裴新美 李凝芳 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第A01期246-250,共5页
利用XRD, EPMA 和HREM 等测试技术对AlN/SiCw(Y2O3SiO2) 复合材料热处理增强机理进行了研究。结果表明: 材料在1 300 ℃空气中进行热处理, 其氧化处理过程也是其热处理增强过程, 增强机理主要... 利用XRD, EPMA 和HREM 等测试技术对AlN/SiCw(Y2O3SiO2) 复合材料热处理增强机理进行了研究。结果表明: 材料在1 300 ℃空气中进行热处理, 其氧化处理过程也是其热处理增强过程, 增强机理主要是由于氧化扩散改变了粒界玻璃相的相组成, 粒界玻璃相在高温氧化气氛下和AlN颗粒发生作用, 生成AlN 多形体2HδSialon 相, 并与SiC 展开更多
关键词 复合材料 热处理 增强机理 氧化铝碳化硅
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AlN/SiO_2纳米多层膜的超硬效应与高温抗氧化性 被引量:3
3
作者 吴莹 赵文济 +2 位作者 孔明 黄碧龙 李戈扬 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期562-566,共5页
采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/... 采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO_2层厚的AlN/SiO_2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了多层膜微结构与力学性能随SiO_2层厚的变化,考察了AlN/SiO_2纳米多层膜的高温抗氧化性.结果表明,受AlN层晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO_2层在厚度<0.6nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体,并与AlN形成共格外延生长结构,多层膜相应产生硬度升高的超硬效应.SiO_2随自身层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,致使多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.高温退火研究表明,高硬度的AlN/SiO_2纳米多层膜的抗氧化温度为800℃,与AlN单层膜相当.SiO_2层的加入尽管能使多层膜获得较高硬度,但是并不能提高其抗氧化温度. 展开更多
关键词 aln/sio2纳米多层膜 外延生长 超硬效应 抗氧化性
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Microstructures and magnetic properties of [SiO_2/FePt]_5/Ag thin films 被引量:2
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作者 范九萍 许小红 +2 位作者 江凤仙 田宝强 武海顺 《Journal of Central South University of Technology》 EI 2008年第1期11-14,共4页
[SiO2/FePt]5/Ag thin films were deposited by RF magnetron sputtering on the glass substrates and post annealing at 550 ℃ for 30 min in vacuum. Vibrating sample magnetometer and X-ray diffraction analyser were applied... [SiO2/FePt]5/Ag thin films were deposited by RF magnetron sputtering on the glass substrates and post annealing at 550 ℃ for 30 min in vacuum. Vibrating sample magnetometer and X-ray diffraction analyser were applied to study the magnetic properties and microstructures of the films. The results show that without Ag underlayer [SiO2/FePt]5 films deposited onto the glass are FCC disordered; with the addition of Ag underlayer [SiO]FePt]5/Ag films are changed into L10 and (111) mixed texture. The variation of the SiO2 nonmagnetic layer thickness in [SiO2/FePt]5/Ag films indicates that SiO2-doping plays an important role in improving the order parameter and the perpendicular magnetic anisotropy, and reducing the grain size and intergrain interactions. By controlling SiO2 thickness the highly perpendicular magnetic anisotropy can be obtained in the [SiO2 (0.6 nm)/FePt (3 nm)]5/Ag (50 nm) films and highly (001)-oriented films can be obtained in the [SiO2 (2 nm)/FePt (3 nm)]5/Ag (50 nm) films. 展开更多
关键词 [sio2/FePt]5 multilayer films sio2-doping Ag underlayer (001) orientation
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基于AlN膜结构VCSEL热特性的研究(英文) 被引量:1
5
作者 马祥柱 张斯钰 +3 位作者 赵博 李辉 霍晋 曲轶 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期2113-2117,共5页
本文用ANSYS有限元热分析软件模拟了基于AlN膜钝化层和Si O2膜钝化层的高功率垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)器件内部的热场分布和热矢量分布.目的是证明Al N膜钝化层要比SiO2膜钝化层有具更好的特性,使器件能更稳定的工作,提高器件... 本文用ANSYS有限元热分析软件模拟了基于AlN膜钝化层和Si O2膜钝化层的高功率垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)器件内部的热场分布和热矢量分布.目的是证明Al N膜钝化层要比SiO2膜钝化层有具更好的特性,使器件能更稳定的工作,提高器件的特性,经模拟得到基于Al N膜钝化层的VCSEL热阻为3.12℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.77℃/W.经实验测得基于Al N膜钝化层的VCSEL热阻为3.59℃/W而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.82℃/W,模拟结果和实验结果吻合较好.说明AlN膜钝化层要比SiO2膜钝化层具有更好的热特性. 展开更多
关键词 垂直腔面发射激光器 aln sio2 ANSYS
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基于AlN膜钝化层VCSEL激光器热特性的研究 被引量:1
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作者 马祥柱 霍晋 +1 位作者 曲轶 杜石磊 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1023-1026,共4页
用ANSYS有限元热分析软件模拟了基于AlN膜钝化层和SiO2膜钝化层的高功率垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)器件内部的热场分布和热矢量分布。经模拟得到基于AlN膜钝化层的VCSEL热阻为3.123℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.377... 用ANSYS有限元热分析软件模拟了基于AlN膜钝化层和SiO2膜钝化层的高功率垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)器件内部的热场分布和热矢量分布。经模拟得到基于AlN膜钝化层的VCSEL热阻为3.123℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.377℃/W。经实验测得基于AlN膜钝化层的VCSEL热阻为3.54℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.75℃/W,模拟结果与实验结果吻合较好。 展开更多
关键词 垂直腔面发射半导体激光器 aln sio2 ANSYS
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波长1064nm脉冲激光高阈值反射膜的研制 被引量:13
7
作者 付雄鹰 孔明东 +1 位作者 胡建平 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期413-417,共5页
研究 Hf O2/ Si O2 高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀 Hf O2、反应离子辅助蒸镀 Hf O2、反应离子辅助蒸镀金属 Hf 的源材料形成 Hf O2 薄膜。采用这三种工艺制备了 H... 研究 Hf O2/ Si O2 高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀 Hf O2、反应离子辅助蒸镀 Hf O2、反应离子辅助蒸镀金属 Hf 的源材料形成 Hf O2 薄膜。采用这三种工艺制备了 Hf O2 / Si O2 高反射膜,在中心波长 1064nm 处,反射率 R≥99.5% ,其中反应蒸镀 Hf O2 / Si O2 高反射膜损伤阈值最高,可达 60 J/cm 2(1064nm ,5ns)。 展开更多
关键词 反射膜 激光诱导损伤 阈值 激光薄膜
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