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高速AlGaAs/GaAs HBT D-触发器和静态分频器 被引量:1
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作者 曾庆明 徐晓春 +5 位作者 李献杰 敖金平 王全树 郭建魁 刘伟吉 揭俊锋 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期183-185,共3页
叙述了高速 Al Ga As/ Ga As HBT D-触发器和静态分频器的设计、制造和性能。用电流型逻辑和自对准工艺 ,D-触发器上升和下降时间都小于 80 ps,静态分频器在 0~
关键词 A1gaas/gaas hbt D-触发器 静态分频器 异质结双极晶体管 铝镓硅三元化合物
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AlGaAs/GaAs HBT的低频噪声 被引量:1
2
作者 廖小平 顾世惠 +1 位作者 林金庭 魏同立 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期275-279,共5页
测试了AlGaAs/GaAsHBT的低频噪声,并将测试结果分解为1/f噪声、G-R噪声和白噪声,阐述了它们的产生机理,在此基础上建立了AlGaAs/GaAsHBT输入噪声电压的等效电路模型,该模型有助于AlGaAs/GaAsHBT电路的CAD。
关键词 hbt 低频噪声 化合物晶体管
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AlGaAs/GaAs HBT基区电流的研究
3
作者 廖小平 魏同立 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1998年第6期34-39,共6页
在AlGaAs/GaAsHBTEM模型直流参数的研究基础上,对HBT的基区电流进行了研究,特别是针对BE结空间电荷区的复合电流和基区表面复合电流,因为在HBT的小偏置情况下,HBT的BE结空间电荷区的复合电流和基区表... 在AlGaAs/GaAsHBTEM模型直流参数的研究基础上,对HBT的基区电流进行了研究,特别是针对BE结空间电荷区的复合电流和基区表面复合电流,因为在HBT的小偏置情况下,HBT的BE结空间电荷区的复合电流和基区表面复合电流在整个基区电流中占有主导地位.当BE结间外加电压为0.5~1.2V时,AlGaAs/GaAsHBT的基区电流的计算机模拟值和测试值比较接近,这一研究结果有助于进一步了解HBT的直流特性和1/f噪声特性. 展开更多
关键词 基区电流 algaas/gaas hbt 空间电荷区 基区表面 复合电流 砷化镓晶体管 砷铝镓化合物晶体管
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18GHz高增益高效率功率运用的AlGaAs/GaAs HBT
4
作者 N.L.Wang 刘秀兰 《半导体情报》 1991年第2期18-22,共5页
在18GHz,AlGaAs/GaAs HBT已得到了显著的功率性能。共发射极HBT达到了48.5%的附加效率、6.2dB相关增益和0.17W的输出功率。共基极工作的HBT在18GHz下显示出更高的性能:功率水平0.358W(3.58W/mm),增益11.4dB,附加效率43%;降低功率水平... 在18GHz,AlGaAs/GaAs HBT已得到了显著的功率性能。共发射极HBT达到了48.5%的附加效率、6.2dB相关增益和0.17W的输出功率。共基极工作的HBT在18GHz下显示出更高的性能:功率水平0.358W(3.58W/mm),增益11.4dB,附加效率43%;降低功率水平到0.174W(1.74W/mm),则可得到15.3dB相关功率增益以及40%效率。该性能可与MISFET、HEMT和PBT的报道结果相媲美。 展开更多
关键词 algaas/gaas hbt 晶体管 异质结
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AlGaAs/GaAs HBT的设计研究
5
作者 Guang-Bo Gao 张汉三 《半导体情报》 1991年第4期40-49,共10页
利用BIPOLE计算机程序,评价了具有不同版图、不同掺杂分布和不同层厚的AlGaAs/GaAs HBT的频率性能,研究了HBT的最佳化设计,并比较了HBT和多晶硅发射极晶体管的大电流性能。研究表明,对发射极条宽S_E<3μm的HBT来说,在电流密度小于1&#... 利用BIPOLE计算机程序,评价了具有不同版图、不同掺杂分布和不同层厚的AlGaAs/GaAs HBT的频率性能,研究了HBT的最佳化设计,并比较了HBT和多晶硅发射极晶体管的大电流性能。研究表明,对发射极条宽S_E<3μm的HBT来说,在电流密度小于1×10~5A/cm^2时,并未发现电流集聚效应,由最高f_T确定的HBT电流处理容量要比多晶硅发射极晶体管的大两倍多。对基区掺杂为1×10^(19)cm^(-3)的典型工艺n-p-n型AlGaAs/GaAs HBT,已获得了一个最佳化的最高振荡频率f_(mos(?))的方程式:f_(mosc)=337(W_(Bop)/S_E)^(1/2)GHz,式中,W_(Bop)是最佳基区宽度,S_E是发射极条宽,二者都以微米为单位。 展开更多
关键词 双极晶体管 algaas/gaas 设计
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用AlGaAs/GaAs HBT技术的9GHz带宽、8~20dB可控增益单片放大器
6
作者 N.Ishihara 王柏年 《半导体情报》 1991年第3期57-58,56,共3页
应用AlGaAs/GaAs HBT技术,以单片形式开发了一种宽带、可控增益放大器。这种放大器采用一种新的并联反馈技术,它能提高带宽,并能控制增益使直流电压输出保持为常数。这种IC的带宽已达DC-9GHz,可控增益范围达到8~20dB,在电源电压为9V时... 应用AlGaAs/GaAs HBT技术,以单片形式开发了一种宽带、可控增益放大器。这种放大器采用一种新的并联反馈技术,它能提高带宽,并能控制增益使直流电压输出保持为常数。这种IC的带宽已达DC-9GHz,可控增益范围达到8~20dB,在电源电压为9V时,总的功率耗散为640mW。 展开更多
关键词 单片放大器 放大器 algaas/gaas
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应用Volterra级数分析AlGaAs/GaAsHBT的三阶互调失真 被引量:1
7
作者 廖小平 林金庭 魏同立 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1998年第4期425-430,共6页
分析了AlGaAs/GaAsHBT的非线性失真产生的机理,应用Volterra级数理论计算了AlGaAs/GaAsHBT的三阶互调失真,理论值与实测值吻合较好,获得了AlGaAs/GaAsHBT的非线性失真量比较弱的结果,其值并不像人们认为的那样强,并解释了HBT高线性... 分析了AlGaAs/GaAsHBT的非线性失真产生的机理,应用Volterra级数理论计算了AlGaAs/GaAsHBT的三阶互调失真,理论值与实测值吻合较好,获得了AlGaAs/GaAsHBT的非线性失真量比较弱的结果,其值并不像人们认为的那样强,并解释了HBT高线性度的原因,这证明了AlGaAs/GaAsHBT在抗干扰方面的潜在能力。 展开更多
关键词 VOLTERRA级数 铝镓砷 砷化镓 异质结 双极晶体管
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具有AlGaAs缓变结构的InGaP/GaAs HBT性能改进分析 被引量:1
8
作者 周守利 熊德平 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期388-391,共4页
对改进型结构具有零导带势垒尖峰的缓变InGaP/AlGaAs/GaAs HBT器件的直流和高频特性进行了理论探讨,并同传统突变结构的InGaP/GaAs HBT的相应性能作了比较。结果表明:在低于30 nm的一定范围内的缓变层厚度下,与突变的InGaP/GaAs HBT相比... 对改进型结构具有零导带势垒尖峰的缓变InGaP/AlGaAs/GaAs HBT器件的直流和高频特性进行了理论探讨,并同传统突变结构的InGaP/GaAs HBT的相应性能作了比较。结果表明:在低于30 nm的一定范围内的缓变层厚度下,与突变的InGaP/GaAs HBT相比,改进型结构的InGaP/AlGaAs/GaAs HBT具有更低的offset和开启电压、更强的电流驱动能力、更好的伏-安输出特性和高频特性。 展开更多
关键词 铟镓磷/砷化镓 异质结双极晶体管 伏-安输出特性 截止频率
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AlGaAs/GaAs HBT表面效应的二维数值分析
9
作者 曾峥 吴文刚 罗晋生 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1995年第4期319-325,共7页
采用表面效应集总模型综合考虑表面费米能级钉扎和表面复合效应,对AlGaAs/GaAsHBT表面效应的影响进行了二维数值模拟。结果表明,表面态的存在对集电极电流几乎不产生影响,但显著增加基极电流,使得电流增益明显下降。... 采用表面效应集总模型综合考虑表面费米能级钉扎和表面复合效应,对AlGaAs/GaAsHBT表面效应的影响进行了二维数值模拟。结果表明,表面态的存在对集电极电流几乎不产生影响,但显著增加基极电流,使得电流增益明显下降。同时还发现在台面结构AIGaAs/GaAsHBT中外基区表面复合的集边效应,即外基区表面复合主要发生在发射极台面与外基区的交界处附近,与外基区长度基本无关。模拟还表明基区缓变结构可以减少表面复合,提高电流增益。 展开更多
关键词 表面效应 数值模拟 双极晶体管 异质结
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Optical Properties of GaAs/AlGaAs Nanowires Grown on Pre-etched Si Substrates
10
作者 ZHANG Zhihong MENG Bingheng +2 位作者 WANG Shuangpeng KANG Yubin WEI Zhipeng 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1639-1646,共8页
GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nan... GaAs-based nanomaterials are essential for near-infrared nano-photoelectronic devices due to their exceptional optoelectronic properties.However,as the dimensions of GaAs materials decrease,the development of GaAs nanowires(NWs)is hindered by type-Ⅱquantum well structures arising from the mixture of zinc blende(ZB)and wurtzite(WZ)phases and surface defects due to the large surface-to-volume ratio.Achieving GaAs-based NWs with high emission efficiency has become a key research focus.In this study,pre-etched silicon substrates were combined with GaAs/AlGaAs core-shell heterostructure to achieve GaAs-based NWs with good perpendicularity,excellent crystal structures,and high emission efficiency by leveraging the shadowing effect and surface passivation.The primary evidence for this includes the prominent free-exciton emission in the variable-temperature spectra and the low thermal activation energy indicated by the variable-power spectra.The findings of this study suggest that the growth method described herein can be employed to enhance the crystal structure and optical properties of otherⅢ-Ⅴlow-dimensional materials,potentially paving the way for future NW devices. 展开更多
关键词 gaas nanowires gaas/algaas core-shell structure crystal phase optical property
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自对准AlGaAs/GaAs准弹道异质结双极晶体管(B-HBT)
11
作者 陈效建 吴英 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1990年第2期233-234,共2页
HBT由于采用了宽禁带发射区,充分利用了EB异质结能带的特点,使器件同时具有高的基区掺杂浓度和注入效率,并且,击穿电压高,势垒电容小,因而,适用于超高速数字电路.准弹道HBT在上述基础上又利用了电子在基区内的准弹道渡越性质,使器件的... HBT由于采用了宽禁带发射区,充分利用了EB异质结能带的特点,使器件同时具有高的基区掺杂浓度和注入效率,并且,击穿电压高,势垒电容小,因而,适用于超高速数字电路.准弹道HBT在上述基础上又利用了电子在基区内的准弹道渡越性质,使器件的频率特性进一步改善,因而,特别适合于微波及毫米波应用.自对准工艺的实现,可充分降低外基区电阻与集电结电容,充分发挥了HBT的微波与高速性能. 展开更多
关键词 algaas/gaas 准弹道 双极晶体管
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自对准AlGaAs/GaAs微波异质结双极晶体管(HBT)
12
作者 吴英 陈效建 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1991年第3期225-229,共5页
本文提出了一种制作HBT采用的垂直台面结构自对准工艺.利用该工艺及对A1GaAs/GaAs具有高选择比的化学湿法腐蚀剂,已研制成微波HBT.发射区台面与基极电极间隙为0.1μm,最大直流电流增益为40,截止频率f_T为10GHz.
关键词 双极晶体管 异质结 algaas/gaas
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AlGaAs/GaAsHBT的设计与研制
13
作者 胡海蓉 牛萍娟 +1 位作者 胡海洋 郭维廉 《河北工业大学学报》 CAS 2005年第6期87-90,共4页
分析了AlGaAs/GaAsHBT的原理和材料结构,详细介绍了AlGaAs/GaAsHBT的器件结构及工艺流程,并对两方面进行了优化,研制出了特性较好的AlGaAs/GaAsHBT,其电流放大系数达到180,是目前国内报道的最高水平;开启电压小于0.3V.
关键词 algaas/gaas 异质结双极晶体管 工艺
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基于电源调制的L波段高性能GaAsHBT功率放大器
14
作者 闭涛 陈景龙 《半导体技术》 北大核心 2024年第1期71-76,共6页
介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶... 介绍了一种基于GaInP/GaAs异质结双极晶体管(HBT)工艺、电源调制的高峰均比、高功率附加效率L波段功率放大器芯片,可满足多载波聚合、大容量通信系统的要求。从器件层面控制基极表面复合、寄生电阻和电容,实现低膝点电压、跨导均匀的晶体管;在电路层面采用自适应偏置电路和谐波调谐等提升线性和功率附加效率。该放大器采用前级驱动加末级输出、驱动比为1∶6的两级晶体管架构和高低通搭配的匹配电路。测试结果表明,在5 V偏置电压下,该功率放大器的饱和输出功率大于35 dBm;在大功率回退时(8 dBm),增益变化小于2 dB,功率附加效率指标达到50%;对于调制带宽为25 kHz的16进制正交振幅调制(16QAM)通信系统,邻道功率比小于-38 dBc@27 dBm。 展开更多
关键词 功率放大器 电源调制 gaas异质结双极晶体管(hbt) 峰均比 邻道功率比(ACPR)
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AlGaAs/GaAs HBT集成电路的CAD
15
作者 刘玲 肖军锋 +3 位作者 吴洪江 东熠 刘贵增 廖斌 《半导体情报》 1996年第2期16-21,共6页
介绍了一套用于AlGaAs/GaAsHBT集成电路的CAD软件,它可完成HBT的器件模拟、模型参数提取及电路模拟。应用该软件对HBT运算放大器进行了模拟,为电路的研制提供了依据。
关键词 algaas 砷化镓 hbt CAD 集成电路 设计
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320×256 GaAs/AlGaAs长波红外量子阱焦平面探测器 被引量:11
16
作者 金巨鹏 刘丹 +4 位作者 王建新 吴云 曹菊英 曹妩媚 林春 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第4期833-837,共5页
量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处... 量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处于起步阶段。研制了基于GaAs/AlxGa1-xAs材料、峰值响应波长为9.9μm的长波320×256 n型QWIP焦平面阵列器件,其像元中心距25μm,光敏元面积为22μm×22μm。GaAs衬底减薄后的QWIP焦平面阵列,与Si基CMOS读出电路(ROIC)通过铟柱倒焊互连,并且在65 K工作温度下进行了室温环境目标成像。该焦平面器件的规模和成像质量相比之前国内报道的结果都有较大提高。焦平面平均峰值探测率达1.5×1010cm.Hz1/2/W。 展开更多
关键词 量子阱红外探测器 gaas/algaas 焦平面 红外热成像
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基于MOCVD技术的长波AlGaAs/GaAs量子阱红外焦平面探测器 被引量:10
17
作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第4期435-438,共4页
采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流... 采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流和傅里叶红外响应光谱对单元测试器件进行了评估,针对不同材料结构,实现了9μm和10.9μm的截止波长;黑体探测率最高达到2.6×109 cm.Hz1/2.W-1。将128×128 AlGaAs/GaAs QWIP阵列芯片与CMOS读出电路芯片倒装焊互连,成功演示了室温环境下目标的红外热成像;并进一步讨论了提高QWIP组件成像质量的途径。 展开更多
关键词 MOCVD algaas/gaas 量子阱红外探测器 红外热成像
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带有腔面非注入区的大功率808nm GaAs/AlGaAs激光二极管列阵 被引量:4
18
作者 方高瞻 肖建伟 +4 位作者 马骁宇 谭满清 刘宗顺 刘素平 冯小明 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第12期9-11,共3页
报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的... 报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的激光二极管列阵高 4 0 %。器件在连续 15W下恒功老化 ,工作寿命超过 50 0 0h。 展开更多
关键词 非注入区 COD gaas/algaas 激光二级管列阵 腔面 固件激光器
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AlGaAs/GaAs多量子阱红外探测器暗电流特性 被引量:3
19
作者 赵永林 李献杰 +3 位作者 蔡道民 周洲 郭亚娜 韩丽丽 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z5期68-71,共4页
介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小... 介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小于40 K 时,随着温度的改变暗电流没有明显的变化;当温度大于40 K 时,暗电流随着温度的升高迅速变大,正、负偏压下 QWIP 暗电流具有不对称特性。 展开更多
关键词 algaas/gaas 量子阱红外探测器 暗电流
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MOCVD生长GaAs/AlGaAs量子阱研究 被引量:1
20
作者 任红文 黄柏标 +3 位作者 刘士文 刘立强 徐现刚 蒋民华 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1992年第1期4-7,共4页
利用常压MOCVD技术在较低生长速率下生长出多种GaAs/AlGaAs多量子阱结构材料,利用低温PL谱和TEM对材料结构进行了表征。所得势阱和势垒结构厚度均匀平整,最窄阱宽为1.8nm。本研究表明,低速率(γ≤0.5nm/s)连续生长工艺能够避免杂质在界... 利用常压MOCVD技术在较低生长速率下生长出多种GaAs/AlGaAs多量子阱结构材料,利用低温PL谱和TEM对材料结构进行了表征。所得势阱和势垒结构厚度均匀平整,最窄阱宽为1.8nm。本研究表明,低速率(γ≤0.5nm/s)连续生长工艺能够避免杂质在界面富集,优于间断生长工艺,且在掺si n^+-GaAs衬底上所得量子阱发光强度高于掺Cr SI-GaAs衬底上的结果。 展开更多
关键词 生长 量子阱 MOCVD gaas/algaas
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