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基于MOCVD技术的长波AlGaAs/GaAs量子阱红外焦平面探测器 被引量:10
1
作者 李献杰 刘英斌 +6 位作者 冯震 过帆 赵永林 赵润 周瑞 娄辰 张世祖 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第4期435-438,共4页
采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流... 采用n型掺杂背面入射AlGaAs/GaAs量子阱结构,用MOCVD外延生长和GaAs集成电路工艺,设计制作了大面积AlGaAs/GaAs QWIP单元测试器件和128×128、128×160、256×256 AlGaAs/GaAsQWIP焦平面探测器阵列。用液氮温度下的暗电流和傅里叶红外响应光谱对单元测试器件进行了评估,针对不同材料结构,实现了9μm和10.9μm的截止波长;黑体探测率最高达到2.6×109 cm.Hz1/2.W-1。将128×128 AlGaAs/GaAs QWIP阵列芯片与CMOS读出电路芯片倒装焊互连,成功演示了室温环境下目标的红外热成像;并进一步讨论了提高QWIP组件成像质量的途径。 展开更多
关键词 MOCVD algaas/gaas 量子阱红外探测器 红外热成像
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层倒易点二维图分析 被引量:4
2
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期312-316,共5页
本文介绍了摇摆曲线和倒易点二维图在评价晶格完整性时的特点 ,分析了透射式Ga As光电阴极样品 Al Ga As/Ga As外延层的倒易点二维图 ,获得了晶面弯曲以及Al Ga As外延层中 Al组份变化等方面的信息 ,为优化外延工艺提供了可靠的保证 .
关键词 algaas/gaas X射线衍射 光电阴极 倒易点二维图 砷化镓 透射式gaas光电阴极 外延层 镓铝砷化合物
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层X射线衍射摇摆曲线半峰宽研究 被引量:3
3
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期93-97,共5页
本文研究了晶体 X射线摇摆曲线半峰宽同其晶格完整性之间的关系 ,外延层之间
关键词 algaas/gaas X射线衍射 应力 光电阴极 砷化镓 铝镓砷化合物 摇摆曲线半峰宽 外延层 半导体
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AlGaAs/GaAs多量子阱红外探测器暗电流特性 被引量:3
4
作者 赵永林 李献杰 +3 位作者 蔡道民 周洲 郭亚娜 韩丽丽 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z5期68-71,共4页
介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小... 介绍了 AlGaAs/GaAs 多量子阱红外探测器(QWIP)暗电流与噪声的关系和降低暗电流的途径;基手湿法化学腐蚀工艺制作了300μm×300μm台面单元器件,并用变温液氦杜瓦测试系统在不同温度下对红外探测器暗电流进行了测试并分析。在温度小于40 K 时,随着温度的改变暗电流没有明显的变化;当温度大于40 K 时,暗电流随着温度的升高迅速变大,正、负偏压下 QWIP 暗电流具有不对称特性。 展开更多
关键词 algaas/gaas 量子阱红外探测器 暗电流
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层在热应力作用下晶格弯曲的倒易点二维图研究 被引量:1
5
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期200-204,共5页
本文介绍了倒易点及其倒易点二维图的概念、倒易点形状及其倒易点二维图同晶格形变的关系 ,推导了热应力作用下双层膜发生弯曲的理论公式 ,阐明了晶格弯曲的原因和晶格倒易点二维图展宽的方向 ,分析了 Ga As光电阴极 Al Ga As/ Ga As外... 本文介绍了倒易点及其倒易点二维图的概念、倒易点形状及其倒易点二维图同晶格形变的关系 ,推导了热应力作用下双层膜发生弯曲的理论公式 ,阐明了晶格弯曲的原因和晶格倒易点二维图展宽的方向 ,分析了 Ga As光电阴极 Al Ga As/ Ga As外延层的实测倒易点二维图 ,最后提出了降低 Al Ga As/ Ga 展开更多
关键词 倒易点 二维图 热应力 半导体 透射式gaas光电阴极 砷化镓 algaas/gaas外延层 镓铝砷化合物 晶格弯曲 X射线衍射
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层MOCVD过程中应变结构形成的研究
6
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期205-208,共4页
本文介绍了 Al Ga As/ Ga As外延层生长的应变状况的生长温度控制模型 ,并根据Al Ga As/ Ga As外延层 X射线衍射摇摆曲线的分析从实验上验证了 Al Ga As/ Ga
关键词 应变结构 晶格常量 透射式gaas光电阴极 X射线衍射 algaas/gaas外延层 MOCVD 镓铝砷化合物 砷化镓 生长温度控制模型
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高功率AlGaAs/GaAs单量子阱远结激光器及其老化特性
7
作者 张素梅 石家纬 +1 位作者 赵世舜 胡贵军 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期267-271,共5页
为了提高器件的可靠性和使用寿命 ,设计并研制了一种将p n结和有源层分开的高功率AlGaAs GaAs单量子阱远异质结 (SQW RJH)激光器 ,发射波长为 80 8nm ,腔长 90 0 μm ,条宽 1 0 0 μm ,其外延结构与通常的 80 8nmAlGaAs GaAs单量子阱半... 为了提高器件的可靠性和使用寿命 ,设计并研制了一种将p n结和有源层分开的高功率AlGaAs GaAs单量子阱远异质结 (SQW RJH)激光器 ,发射波长为 80 8nm ,腔长 90 0 μm ,条宽 1 0 0 μm ,其外延结构与通常的 80 8nmAlGaAs GaAs单量子阱半导体激光器的结构不同 ,在p n结和有源区间多了一层p型AlGaAs层 ,其厚度约为 0 1 μm。为减小衬底表面位错对外延层质量的影响 ,在n+ GaAs衬底和n Al0 5Ga0 5As下包层间加一层n+ GaAs缓冲层。对器件进行了电导数测试及恒流电老化实验。与常规AlGaAs GaAs大功率半导体激光器相比 ,远结大功率半导体激光器具有阈值电流Ith偏大、导通电压Vth偏高的直流特性。 30 0 0h的恒流电老化结果表明 ,器件在老化初期表现出阈值电流随老化时间缓慢下降 。 展开更多
关键词 高功率半导体激光器 远结 单量子阱 algaas/gaas
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AlGaAs/GaAs多量子阱光激发载流子弛豫过程的研究
8
作者 彭文基 林位株 +1 位作者 丘志仁 余振新 《量子电子学报》 CAS CSCD 1992年第1期17-18,共2页
当激发光子能量大于多量子阱中势垒层的能带隙时,自由载流子同时可以在势垒层以及势阱层产生,对这些载流子的弛豫过程的研究不论对其基本的物理过程的认识,还是对新的光电子器件的研制和应用都有着重要的意义。 本文首先采用飞秒(10<... 当激发光子能量大于多量子阱中势垒层的能带隙时,自由载流子同时可以在势垒层以及势阱层产生,对这些载流子的弛豫过程的研究不论对其基本的物理过程的认识,还是对新的光电子器件的研制和应用都有着重要的意义。 本文首先采用飞秒(10<sup>-15</sup>秒)饱和吸收光谱技术研究了Al<sub>0.3</sub>Ga<sub>0.7</sub>As(100?)/GaAs(60?)11层量子阱样品受激载流子的初始弛豫过程。飞秒激光脉冲是由对碰脉冲锁模环形染料激光器(CPM)产生的,脉冲的时间宽度为 58fs。 展开更多
关键词 多量子阱 algaas/gaas 弛豫过程 光激发 自由载流子 势垒层 染料激光器 荧光衰减时间 饱和吸收光谱 势阱
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微空气桥隔离的自对准AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管
9
作者 严北平 张鹤鸣 戴显英 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期132-133,136,共3页
利用微空气桥隔离和自对准技术成功地研制出了自对准结构的AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管 .器件展现出良好的直流和高频特性 .对于发射极面积为 2 μm× 15 μm的器件 ,直流电流增益大于 10 ,失调电压 (Offsetvoltage)2 0 0mV ;电流... 利用微空气桥隔离和自对准技术成功地研制出了自对准结构的AlGaAs/GaAs异质结双极晶体管 .器件展现出良好的直流和高频特性 .对于发射极面积为 2 μm× 15 μm的器件 ,直流电流增益大于 10 ,失调电压 (Offsetvoltage)2 0 0mV ;电流增益截止频率fT 大于 30GHz,最高振荡频率fmax约为 5 0GHz. 展开更多
关键词 algaas/gaas 异质结 双极晶体管 微空气桥隔离
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AlGaAs/GaAs HBT基区电流的研究
10
作者 廖小平 魏同立 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1998年第6期34-39,共6页
在AlGaAs/GaAsHBTEM模型直流参数的研究基础上,对HBT的基区电流进行了研究,特别是针对BE结空间电荷区的复合电流和基区表面复合电流,因为在HBT的小偏置情况下,HBT的BE结空间电荷区的复合电流和基区表... 在AlGaAs/GaAsHBTEM模型直流参数的研究基础上,对HBT的基区电流进行了研究,特别是针对BE结空间电荷区的复合电流和基区表面复合电流,因为在HBT的小偏置情况下,HBT的BE结空间电荷区的复合电流和基区表面复合电流在整个基区电流中占有主导地位.当BE结间外加电压为0.5~1.2V时,AlGaAs/GaAsHBT的基区电流的计算机模拟值和测试值比较接近,这一研究结果有助于进一步了解HBT的直流特性和1/f噪声特性. 展开更多
关键词 基区电流 algaas/gaas HBT 空间电荷区 基区表面 复合电流 砷化镓晶体管 砷铝镓化合物晶体管
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层内应力的种类及其表征与测量 被引量:6
11
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期88-92,共5页
本文介绍了透射式 Ga As光电阴极 Al Ga As窗层和 Ga As光电发射外延层内应力的种类及其表征方法和测量方法 。
关键词 gaas/algaas 光电阴极 X射线衍射 应力 外延 测量方法 表征方法 砷化镓 铝砷镓化合物 半导体
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高功率808nmAlGaAs/GaAs基半导体激光器巴条的热耦合特征(英文) 被引量:3
12
作者 乔彦彬 陈燕宁 +1 位作者 赵东艳 张海峰 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期10-13,35,共5页
利用红外热成像技术和有限元方法在实验和理论上研究了高功率808 nm半导体激光器巴条热耦合特征,给出了稳态和瞬态热分析,呈现了详细的激光器巴条热耦合轮廓.发现器件稳态温升随工作电流呈对数增加,热耦合也随之增加且主要发生在芯片级... 利用红外热成像技术和有限元方法在实验和理论上研究了高功率808 nm半导体激光器巴条热耦合特征,给出了稳态和瞬态热分析,呈现了详细的激光器巴条热耦合轮廓.发现器件稳态温升随工作电流呈对数增加,热耦合也随之增加且主要发生在芯片级.另外,作者利用热阻并联模型解释了芯片级热时间常数随工作电流减小的现象. 展开更多
关键词 半导体技术 热耦合特征 红外热成像技术 有限元 高功率808 nm algaas/gaas基半导体激光器巴条
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透射式GaAs光电阴极AlGaAs/GaAs外延层X射线衍射摇摆曲线研究
13
作者 李晓峰 张景文 +1 位作者 高鸿楷 侯洵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期458-462,共5页
利用透射式 Ga As光电阴极 Al Ga As/ Ga As外延层的结构特点及其 X射线衍射摇摆曲线分析方法 ,解释了 Al Ga As/ Ga
关键词 gaas algaas X射线衍射 光电阴极 外延层 结构特点 砷化镓 镓铝砷化合物 摇摆曲线
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高频溅射SiO_2膜掩蔽GaAs和AlGaAs/GaAs中Zn扩散的研究
14
作者 王雷 张培亮 +1 位作者 刘静 王志忠 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第4期122-124,共3页
本文报导了在GaAs、AlGaAs表面上用高频溅射法制备SiO_2膜的淀积规律,特别对用SiO_2膜掩蔽GaAs、AlGaAs/GaAs中的Zn扩散进行了实验研究,结果证明用高频溅射制备SiO_2膜可以有效地掩蔽GaAs,AlGaAs/GaAs中的Zn扩散。
关键词 SIO2膜 溅射 gaas gaas/gaas ZN
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45°内反射镜高功率InGaAs/AlGaAs/GaAs面发射半导体激光器结构设计和制备
15
作者 李梅 曲轶 +4 位作者 王晓华 徐莉 李辉 刘维峰 刘国军 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期395-398,共4页
研究了具有45°内反射镜的0 98μm辐射波长的应变InGaAs/AlGaAs/GaAs单量子阱面发射半导体激光器结构,并采用MBE方法进行了材料制备。同时利用X射线双晶衍射,低温(10K)光致发光(PL)和电化学C V方法检测和分析了外延薄膜的光电和结... 研究了具有45°内反射镜的0 98μm辐射波长的应变InGaAs/AlGaAs/GaAs单量子阱面发射半导体激光器结构,并采用MBE方法进行了材料制备。同时利用X射线双晶衍射,低温(10K)光致发光(PL)和电化学C V方法检测和分析了外延薄膜的光电和结构特性。在光致发光谱线中我们得到了发射波长0 919μm的谱峰,谱峰范围跨跃0 911~0 932μm,双晶回摆曲线、电化学C V分布曲线显示所设计的结构基本得到实现。 展开更多
关键词 面发射半导体激光器 分子束外延 双晶回摆曲线 内反射镜 结构设计 制备 Ingaas/A1gaas/gaas 单量子阱
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AlGaAs/GaAs超晶格价带的自旋劈裂
16
作者 田园 张宝林 +1 位作者 彭宇恒 陈维友 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1997年第3期49-52,共4页
对由Al_yGa_(1-y_As,Al_xGa_(1-x)As和GaAs三种材料构成的超晶格价带的自旋劈裂进行了研究.通过改变材料组分和层厚,发现当超晶格单胞对其中心点是不对称结构时,对应的自族向上和自族向下的子带产生劈裂,而且劈裂主要发生在重空... 对由Al_yGa_(1-y_As,Al_xGa_(1-x)As和GaAs三种材料构成的超晶格价带的自旋劈裂进行了研究.通过改变材料组分和层厚,发现当超晶格单胞对其中心点是不对称结构时,对应的自族向上和自族向下的子带产生劈裂,而且劈裂主要发生在重空穴带和轻空穴带相互作用较强的地方. 展开更多
关键词 能带结构 超晶格 自旋劈裂 砷化镓 铝镓砷化合物
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320×256 GaAs/AlGaAs长波红外量子阱焦平面探测器 被引量:11
17
作者 金巨鹏 刘丹 +4 位作者 王建新 吴云 曹菊英 曹妩媚 林春 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第4期833-837,共5页
量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处... 量子阱红外探测器(Quantum well infrared photodetector,QWIP)已经经历了20多年的深入研究,各种QWIP器件,包括量子阱红外探测器焦平面阵列(FPA)的研制也已经相当成熟。但是在国内,受制于整体工业水平,QWIP焦平面阵列器件的研制仍然处于起步阶段。研制了基于GaAs/AlxGa1-xAs材料、峰值响应波长为9.9μm的长波320×256 n型QWIP焦平面阵列器件,其像元中心距25μm,光敏元面积为22μm×22μm。GaAs衬底减薄后的QWIP焦平面阵列,与Si基CMOS读出电路(ROIC)通过铟柱倒焊互连,并且在65 K工作温度下进行了室温环境目标成像。该焦平面器件的规模和成像质量相比之前国内报道的结果都有较大提高。焦平面平均峰值探测率达1.5×1010cm.Hz1/2/W。 展开更多
关键词 量子阱红外探测器 gaas/algaas 焦平面 红外热成像
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带有腔面非注入区的大功率808nm GaAs/AlGaAs激光二极管列阵 被引量:4
18
作者 方高瞻 肖建伟 +4 位作者 马骁宇 谭满清 刘宗顺 刘素平 冯小明 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第12期9-11,共3页
报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的... 报导了带有腔面非注入区的 80 8nmGaAs/AlGaAs激光二极管列阵的制作过程和测试结果。在器件前后腔面处引入 2 5μm非注入区 ,填充密度为 17%的 1cm激光二极管列阵最高连续输出功率达 87W ,热沉温度是 2 5℃ ,抗COD能力比没有非注入区的激光二极管列阵高 4 0 %。器件在连续 15W下恒功老化 ,工作寿命超过 50 0 0h。 展开更多
关键词 非注入区 COD gaas/algaas 激光二级管列阵 腔面 固件激光器
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低温生长AlGaAs/GaAs多量子阱中的超快过程研究
19
作者 李春勇 傅盘铭 +7 位作者 汪力 张治国 魏彦锋 赵士平 杨乾声 韩英军 郭丽伟 黄绮 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期119-120,共2页
半导体材料无论在应用领域,还是在基础研究中都有重要的意义,对其中超快过程的研究近年来已成为研究的热点之一.低温生长的AlGaAs/GaAs多量子阱材料具有超短的非平衡载流子复合寿命,广泛应用于超快光学元件中.我们利用飞秒激光泵... 半导体材料无论在应用领域,还是在基础研究中都有重要的意义,对其中超快过程的研究近年来已成为研究的热点之一.低温生长的AlGaAs/GaAs多量子阱材料具有超短的非平衡载流子复合寿命,广泛应用于超快光学元件中.我们利用飞秒激光泵浦一探测技术对其中的超快过程进行了研究。 展开更多
关键词 低温生长 algaas/gaas多量子阱 超快过程 飞秒激光泵浦
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GaAs-AlGaAs外延结构中微区应力的电子背散射衍射分析 被引量:2
20
作者 田彦宝 吉元 +4 位作者 王俊忠 张隐奇 关宝璐 郭霞 沈光地 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期515-518,522,共5页
采用电子背散射衍射(EBSD)技术,以30~40nm的空间分辨率,显示GaAs—AlGaAs外延结构中的应力分布。将菊池花样质量JQ和Hough峰,以及晶格错配和局部转动等测量参数作为应力敏感参数,分析GaAs—AlGaAs周期外延层中的应变状态。通过... 采用电子背散射衍射(EBSD)技术,以30~40nm的空间分辨率,显示GaAs—AlGaAs外延结构中的应力分布。将菊池花样质量JQ和Hough峰,以及晶格错配和局部转动等测量参数作为应力敏感参数,分析GaAs—AlGaAs周期外延层中的应变状态。通过对菊池花样进行快速傅立叶变换和强度计算识别微区应变区域。 展开更多
关键词 电子背散射衍射(EBSD) 微区应力 gaasalgaas
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