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热处理对Al掺杂ZnO薄膜晶体结构及光电性能的影响 被引量:7
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作者 刘金铭 赵小如 +5 位作者 赵亮 张安 王丹红 邵继峰 曹萌萌 常晓 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期1130-1135,共6页
采用溶胶凝-胶法在普通玻璃衬底上制备了具有c轴择优取向的Al掺杂ZnO透明导电薄膜。实验中将热处理过程分解为预烧、空气退火和真空退火三个部分,研究了各个步骤对于ZAO薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果表明,500℃预烧550℃空气退火... 采用溶胶凝-胶法在普通玻璃衬底上制备了具有c轴择优取向的Al掺杂ZnO透明导电薄膜。实验中将热处理过程分解为预烧、空气退火和真空退火三个部分,研究了各个步骤对于ZAO薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果表明,500℃预烧550℃空气退火的薄膜,经过550℃,1×10-2Pa真空退火后,其晶体结构和光电性能达到最佳,电阻率最低达到1.77×10-3Ω.cm,可见光范围内的平均透过率约为85%。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 al掺杂zno(zao) 热处理 晶体结构 光电性能
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膜厚对Zr,Al共掺杂ZnO透明导电薄膜结构和光电性能的影响 被引量:12
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作者 袁玉珍 王辉 +2 位作者 张化福 刘汉法 刘云燕 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期169-173,共5页
采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。用XRD和SEM分析和观察了薄膜样品的组织结构和表面形貌。研究表明:制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。另外还研究了薄膜... 采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。用XRD和SEM分析和观察了薄膜样品的组织结构和表面形貌。研究表明:制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。另外还研究了薄膜的结构、光学和电学性质随薄膜厚度的变化关系。当薄膜厚度为843nm时,电阻率具有最小值1.18×10-3Ω.cm,在可见光区(500~800nm)平均透过率超过93%。 展开更多
关键词 磁控溅射 Zr al掺杂zno 膜厚 透明导电薄膜
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Al掺杂四针状ZnO纳米结构的制备及其光致发光和场发射特性 被引量:6
3
作者 周雄图 曾祥耀 +1 位作者 张永爱 郭太良 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期1424-1429,共6页
采用热蒸发法成功制备了Al掺杂四针状ZnO纳米结构(T-AZO),利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、荧光光谱仪和场发射测试系统分别研究了不同Al摩尔分数对T-AZO纳米结构表面形貌、微结构、光致发光谱和场发射特性的影响。实验结果表明:T-AZ... 采用热蒸发法成功制备了Al掺杂四针状ZnO纳米结构(T-AZO),利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、荧光光谱仪和场发射测试系统分别研究了不同Al摩尔分数对T-AZO纳米结构表面形貌、微结构、光致发光谱和场发射特性的影响。实验结果表明:T-AZO纳米结构呈现六角纤锌矿结构,Al掺杂对四针状ZnO纳米结构的形貌产生明显影响并且使紫外发射峰产生蓝移。实验中,当Al掺杂摩尔分数为3%时,场发射性能最好,其开启场强为1.33 V/μm,场增强因子为8 420。 展开更多
关键词 四针状zno al掺杂 热蒸发 光致发光 场致发射
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Al掺杂ZnO薄膜的微结构及电学特性 被引量:4
4
作者 余萍 邱东江 +2 位作者 樊瑞新 施红军 吴惠桢 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1873-1877,共5页
用(ZnO)1-x(Al2O3)x(x=w(Al2O3)=0、0.01、0.02、0.05)陶瓷靶材为原料,通过电子束反应蒸发生长了非故意掺杂及Al掺杂的ZnO薄膜.采用X射线衍射、Raman散射及霍尔效应技术研究了薄膜的晶体微结构及电学特性.结果表明,由(ZnO)1-x(Al2O3)x(x... 用(ZnO)1-x(Al2O3)x(x=w(Al2O3)=0、0.01、0.02、0.05)陶瓷靶材为原料,通过电子束反应蒸发生长了非故意掺杂及Al掺杂的ZnO薄膜.采用X射线衍射、Raman散射及霍尔效应技术研究了薄膜的晶体微结构及电学特性.结果表明,由(ZnO)1-x(Al2O3)x(x≤0.02)的靶材生长得到的Al掺杂ZnO薄膜仍具有高度c-轴取向的纤锌矿晶体结构,但随着薄膜中Al掺入量的增加,其c-轴取向性有所退化;Raman光谱测量表明,Al掺杂ZnO薄膜的本征内应力随着Al掺入量的增加而增大,(ZnO)0.98(Al2O3)0.02薄膜中Al和Zn的原子个数比为6∶94,此时薄膜的内应力已接近饱和;Al掺杂ZnO薄膜的电阻率随着Al掺入量的增加呈现先减小后增大的特征,(ZnO)0.98(Al2O3)0.02薄膜具有最小的电阻率(7.85×10-4Ω.cm),这归因于该类薄膜同时具有高电子浓度(1.32×1021cm-3)和较高的电子迁移率(6.02 cm2/(V.s)). 展开更多
关键词 zno薄膜 al掺杂 微结构 电学特性
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具有C轴取向Al^(3+)掺杂型ZnO薄膜的溶胶-凝胶法制备及其性能研究 被引量:3
5
作者 郑春满 宋植彦 +2 位作者 魏海博 帖楠 谢凯 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期33-37,共5页
以乙二醇甲醚为溶剂,采用Sol-Gel法制备出具有C轴取向、可导电的Al3+离子掺杂ZnO透明薄膜,并利用场发射扫描电镜、X-射线衍射、能谱分析、标准四探针和反射光谱仪等对薄膜的组成、结构和光学性能进行了分析。结果表明:Al3+离子掺杂ZnO... 以乙二醇甲醚为溶剂,采用Sol-Gel法制备出具有C轴取向、可导电的Al3+离子掺杂ZnO透明薄膜,并利用场发射扫描电镜、X-射线衍射、能谱分析、标准四探针和反射光谱仪等对薄膜的组成、结构和光学性能进行了分析。结果表明:Al3+离子掺杂ZnO薄膜为六方纤锌矿型结构,由六棱柱状阵列构成,具有C轴择优取向;薄膜电阻率随Al3+离子掺杂浓度的升高而降低;在可见光区域,薄膜透光率随Al3+离子掺杂浓度的升高而降低,掺杂3%ZnO薄膜的透光率达到90%左右,禁带宽度为3.25 eV,具备制作薄膜太阳能电池透明导电电极材料的应用价值。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 zno薄膜 al3+离子掺杂 制备
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Al掺杂ZnO纳米粉体的EPR谱研究 被引量:3
6
作者 吴彩平 殷春浩 +3 位作者 徐振坤 路璐 李佩欣 李少波 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期937-944,共8页
采用溶胶凝胶方法制备了Al掺ZnO纳米粉体。并用X射线衍射仪(XRD)和电子顺磁共振(EPR)对样品进行表征。结果表明:Al以替位形式掺入ZnO,未改变原有结构,掺杂Al离子浓度为2%时,其结晶性最好。Al掺杂ZnO粉末在g=1.96和2.00处具有明显信号峰... 采用溶胶凝胶方法制备了Al掺ZnO纳米粉体。并用X射线衍射仪(XRD)和电子顺磁共振(EPR)对样品进行表征。结果表明:Al以替位形式掺入ZnO,未改变原有结构,掺杂Al离子浓度为2%时,其结晶性最好。Al掺杂ZnO粉末在g=1.96和2.00处具有明显信号峰。g=1.96位置的信号是制备过程中产生的Zn-H键的信号位置,该信号与ZnO导电特性有密切关系;g=2.00是晶体中锌空位对应的信号。g=1.96处信号峰强度与煅烧时间的长短无关;煅烧时间越长越有利于晶体结构的完善,减少空穴的产生;Al的掺入不仅替代了部分Zn的位置,也填补了部分的锌空位;温度变化起到了和Al离子同样的功效,Al离子的掺入增强了温度变化对ZnO的影响。 展开更多
关键词 溶胶凝胶法 al掺杂 zno EPR谱
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ZnO缓冲层上低温生长Al掺杂的ZnO薄膜 被引量:2
7
作者 马李刚 马书懿 +1 位作者 陈海霞 黄新丽 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1516-1519,共4页
采用射频磁控溅射法在ZnO缓冲层上制备了不同Al掺杂量的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性。结果表明,随着Al掺杂量的增加,ZnO薄膜的择优... 采用射频磁控溅射法在ZnO缓冲层上制备了不同Al掺杂量的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性。结果表明,随着Al掺杂量的增加,ZnO薄膜的择优取向性发生了改变,且当Al的掺杂量为0.81%(原子分数)时,(002)衍射峰与其它衍射峰强度的比值达到最大,表明适合的Al掺杂使ZnO薄膜的择优取向性得到了改善。在可见光范围内薄膜的平均透过率超过70%。通过对样品光致发光(PL)谱的研究,发现所有样品出现了3个发光峰,分别对应于以444nm(2.80eV)、483nm(2.57eV)为中心的蓝光发光峰和以521nm(2.38eV)为中心较弱的绿光峰。并对样品的发光机理进行了详细的探讨。 展开更多
关键词 磁控溅射法 zno缓冲层 al掺杂zno薄膜 XRD 光致发光
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H/Al共掺杂对ZnO基透明导电薄膜光电性质和晶体结构的影响 被引量:3
8
作者 宋秋明 吕明昌 +2 位作者 谭兴 张康 杨春雷 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期393-398,共6页
利用H在ZnO中作为浅施主杂质的特性,研究了H掺杂对ZnO∶Al透明导电薄膜特性的影响。通过降低ZnO∶Al中Al的含量并同时引入H掺杂,解决了透明导电薄膜中高导电性与高透过率之间的矛盾。H的掺杂可以显著降低ZnO基透明导电薄膜的电阻率,这... 利用H在ZnO中作为浅施主杂质的特性,研究了H掺杂对ZnO∶Al透明导电薄膜特性的影响。通过降低ZnO∶Al中Al的含量并同时引入H掺杂,解决了透明导电薄膜中高导电性与高透过率之间的矛盾。H的掺杂可以显著降低ZnO基透明导电薄膜的电阻率,这是由于H一方面作为施主可以提供电子从而提高了自由载流子浓度;另一方面与ZnO晶界中的O-结合降低了晶界势垒,提高了载流子迁移率。利用H掺杂,可以在Al掺杂量降低10倍的情况下,仍然能获得低电阻率(6.3×10-4Ω·cm)的透明导电薄膜,同时其近红外波段(1 200 nm)透光率从64%提高到90%。这种具有高导电性和高透光性的透明导电薄膜可以应用于各类薄膜太阳能电池中以提升器件效率。 展开更多
关键词 H/al掺杂zno 自由载流子吸收 磁控溅射 薄膜太阳能电池
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Al掺杂ZnO纳米颗粒的光催化性能 被引量:2
9
作者 于富成 许博宇 +3 位作者 李海山 南冬梅 胡海龙 何玲 《兰州理工大学学报》 CAS 北大核心 2019年第6期28-33,共6页
溶胶-凝胶法合成ZnO和Al掺杂ZnO(AZO),通过降解甲基橙(MO)评价纳米颗粒的光催化性能.与纯ZnO相比,Al掺杂使ZnO晶粒尺寸减小,比表面积增加.此外,Al掺杂诱发高浓度缺陷,从而调整ZnO晶体的能带结构.电子从导带跃迁到低能态的缺陷能级,能量... 溶胶-凝胶法合成ZnO和Al掺杂ZnO(AZO),通过降解甲基橙(MO)评价纳米颗粒的光催化性能.与纯ZnO相比,Al掺杂使ZnO晶粒尺寸减小,比表面积增加.此外,Al掺杂诱发高浓度缺陷,从而调整ZnO晶体的能带结构.电子从导带跃迁到低能态的缺陷能级,能量差与可见光的能量吻合,从而大幅提高光催化过程中对可见光的利用率.AZO样品在可见光范围内都表现出优异的光催化性能,并且a(Al)=3%掺杂的ZnO表现出最佳的光催化性能,60 min降解效率为94%. 展开更多
关键词 zno纳米颗粒 溶胶-凝胶法 al掺杂 光催化
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掺杂比和氧分压对脉冲激光沉积ZnO:Al膜性能影响的研究 被引量:1
10
作者 葛水兵 程珊华 +1 位作者 宁兆元 沈明荣 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2000年第2期86-88,共3页
利用脉冲激光法制备了ZnO :Al透明导电膜 .通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析 ,详细研究了靶材中的化学配比 (掺杂比 )对膜的透射比和电阻率的影响 .结果表明 :掺杂比、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况 .从... 利用脉冲激光法制备了ZnO :Al透明导电膜 .通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析 ,详细研究了靶材中的化学配比 (掺杂比 )对膜的透射比和电阻率的影响 .结果表明 :掺杂比、氧分压强影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况 .从电学分析看出 :掺杂比从 0 .75 %增至 1.5 %过程中 ,膜的载流子浓度、透射比 (在波长大于 5 0 0nm的范围 )和光隙能相应增大 .在氧分压强为 0Pa、掺杂比为 1.5 %左右时沉积的膜 ,其电阻率达到最小 ,其值为 7.1× 10 -4 Ω·cm ,且在可见光区其透射比超过了 90 % . 展开更多
关键词 脉冲激光沉积 掺杂 氧分压 zno:al 性能
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磁控溅镀法制备Al掺杂ZnO薄膜的特性分析 被引量:2
11
作者 孙彦清 娄本浊 黄朝军 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2019年第3期485-490,共6页
以射频磁控溅镀法在柔性聚碳酸酯基板上成长Al掺杂ZnO薄膜,利用XRD、AES、霍尔效应测试仪及单色分光计测量分析Al靶功率对薄膜光电特性的影响.XRD分析表明所有薄膜的衍射峰皆以(002)面为主,Al靶功率为25 W时(002)面衍射峰强度最大,此时... 以射频磁控溅镀法在柔性聚碳酸酯基板上成长Al掺杂ZnO薄膜,利用XRD、AES、霍尔效应测试仪及单色分光计测量分析Al靶功率对薄膜光电特性的影响.XRD分析表明所有薄膜的衍射峰皆以(002)面为主,Al靶功率为25 W时(002)面衍射峰强度最大,此时薄膜结晶性最佳;AES分析表明随着Al靶功率的增大,Al含量由0 at.%增至18.01 at.%,Zn含量则由72.51 at.%降至38.39 at.%,而O含量没有太大变化,这说明Al可以取代ZnO中Zn的位置;霍尔效应测量表明Al靶功率为25 W时电阻率最小,约为7.75×10^-4Ω·cm,而载子浓度及其迁移率则达到最大,分别约为9.35×10^20 cm^-3与8.64 cm^2/(V·s);分光计测量表明薄膜在可见光区的平均透射率可约达90%以上,说明本研究制备的Al掺杂ZnO薄膜是具有高透射率的透明导电薄膜. 展开更多
关键词 透明导电薄膜 zno薄膜 al掺杂 柔性基板 射频磁控溅镀 光电特性
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铝掺杂对ZnO:Al薄膜结晶性能与微观组织的影响 被引量:1
12
作者 陈建林 陈鼎 +1 位作者 张世英 陈振华 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期1284-1288,共5页
以二水合醋酸锌为原材料,采用溶胶-凝胶浸涂法在钠钙玻璃基片上制备了具有c轴择优取向的ZnO:Al薄膜,考察了铝掺杂浓度对薄膜结晶性与微观组织结构的影响。结果表明:铝掺杂使ZnO薄膜(002)晶面的2θ向高角度方向偏移,c轴择优取向性增强,... 以二水合醋酸锌为原材料,采用溶胶-凝胶浸涂法在钠钙玻璃基片上制备了具有c轴择优取向的ZnO:Al薄膜,考察了铝掺杂浓度对薄膜结晶性与微观组织结构的影响。结果表明:铝掺杂使ZnO薄膜(002)晶面的2θ向高角度方向偏移,c轴择优取向性增强,晶粒变小(15~20nm)。当铝掺杂浓度(摩尔分数)为1%~2%时,微观组织结构变得致密均匀;当铝掺杂浓度大于2%时,发生颗粒团聚现象;在高掺杂浓度下(5%和8%),出现大尺寸片状ZnO:Al晶粒异常长大,生长出特殊形貌的薄膜。 展开更多
关键词 zno:al薄膜 掺杂 溶胶-凝胶法 择优取向生长
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Al掺杂对ZnO纳米结构阵列的影响 被引量:1
13
作者 赵斌 唐立丹 王冰 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期256-259,264,共5页
采用脉冲电磁场辅助水热合成法制备了高比表面积、高能面暴露的ZnO纳米片阵列,通过场发射扫描电镜(FESEM)、X线衍射(XRD)及X线光电子能谱(XPS)等手段测试纳米结构阵列的性能。结果表明,经过Al掺杂后的ZnO纳米结构由棒状转变为六边形的... 采用脉冲电磁场辅助水热合成法制备了高比表面积、高能面暴露的ZnO纳米片阵列,通过场发射扫描电镜(FESEM)、X线衍射(XRD)及X线光电子能谱(XPS)等手段测试纳米结构阵列的性能。结果表明,经过Al掺杂后的ZnO纳米结构由棒状转变为六边形的片状结构,当Al的摩尔分数为1%时,纳米片彼此交错,组织均匀,垂直于衬底,与传统纳米棒相比,纳米片具有更大的比表面积及更多暴露的高能晶面,并对纳米棒向纳米片的转变机理进行了详细的分析和探讨。 展开更多
关键词 zno al掺杂 纳米片 纳米棒 水热合成
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Al掺杂ZnO薄膜原子力显微图像的多重分形研究 被引量:1
14
作者 吕建国 宋学萍 孙兆奇 《电子显微学报》 CAS CSCD 2008年第3期192-196,共5页
用原子力显微镜观察溶胶-凝胶法制备Al掺杂ZnO薄膜的表面形貌,运用多重分形理论研究Al掺杂ZnO薄膜的原子力显微图像,多重分形谱可以很好地定量表征薄膜的表面形貌。结果显示:Al掺杂量为0.5 at.%的ZnO薄膜经550℃退火处理后,rms粗糙度为1... 用原子力显微镜观察溶胶-凝胶法制备Al掺杂ZnO薄膜的表面形貌,运用多重分形理论研究Al掺杂ZnO薄膜的原子力显微图像,多重分形谱可以很好地定量表征薄膜的表面形貌。结果显示:Al掺杂量为0.5 at.%的ZnO薄膜经550℃退火处理后,rms粗糙度为1.817,Al掺杂量为1.0 at.%的ZnO薄膜经600℃退火处理后,rms粗糙度增大到4.625,相应的分形谱宽Δα从0.019增大到0.287,分形参数Δf由-0.075变为0.124。 展开更多
关键词 al掺杂zno薄膜 原子力显微图像 表面形貌 多重分形谱
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Al掺杂量对ZnO多晶性能影响的研究
15
作者 刘丹丹 宋世金 +2 位作者 邱兴煌 谈文鹏 虞澜 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第4期1278-1282,1287,共6页
采用固相反应法制备了六方纤锌矿结构Zn_(1-x)Al_xO(0≤x≤0.005)系列多晶,探究了Al掺杂对ZnO多晶的微观形貌和热电输运性质的影响。Al掺杂促使ZnO晶粒长大联结,晶界减少,x=0.005时出现在晶界分布的ZnAl_2O_4尖晶石相。各组分样品经二... 采用固相反应法制备了六方纤锌矿结构Zn_(1-x)Al_xO(0≤x≤0.005)系列多晶,探究了Al掺杂对ZnO多晶的微观形貌和热电输运性质的影响。Al掺杂促使ZnO晶粒长大联结,晶界减少,x=0.005时出现在晶界分布的ZnAl_2O_4尖晶石相。各组分样品经二次烧结后,电阻率均比对应组分的一次烧结样品增大1~2个数量级。掺杂后样品由ZnO的半导体行为转变为电阻率显著下降的金属行为,一次烧结样品在x=0.004有最小的室温电阻率~10 mΩ·cm,主要由于掺杂使样品载流子浓度和迁移率显著提高;300~950 K下掺杂样品热电势的绝对值和功率因子均随温度升高而增大,x=0.004时有最大的室温功率因子~0.11 m W/m·K^2。综合得到ZnO中Al掺杂的饱和固溶度在0.004~0.005之间。 展开更多
关键词 al掺杂zno多晶 一次烧结 二次烧结 热电输运 饱和固溶度
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Al_2O_3掺杂ZnO压敏陶瓷的晶粒生长研究 被引量:7
16
作者 章天金 周东祥 姜胜林 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期519-521,共3页
研究了Al2 O3 掺杂对ZnO压敏陶瓷晶粒生长规律的影响 ,应用晶粒生长动力学方程确定了晶粒生长的动力学指数和激活能。实验结果表明 :对于Al2 O3 掺杂ZnO压敏陶瓷 ,其晶粒生长的动力学指数n等于 4,激活能Q等于 ( 40 0± 2 6 )kJ/mol... 研究了Al2 O3 掺杂对ZnO压敏陶瓷晶粒生长规律的影响 ,应用晶粒生长动力学方程确定了晶粒生长的动力学指数和激活能。实验结果表明 :对于Al2 O3 掺杂ZnO压敏陶瓷 ,其晶粒生长的动力学指数n等于 4,激活能Q等于 ( 40 0± 2 6 )kJ/mol。Al2 O3 掺杂ZnO压敏瓷的晶粒生长机理是ZnAl2 O4尖晶石颗粒在ZnO压敏瓷晶粒边界钉扎过程中Al3 +和O2 -通过ZnAl2 O4尖晶石的扩散。 展开更多
关键词 zno压敏陶瓷 钉扎 掺杂 晶粒边界 尖晶石 al^3+ 激活能 晶粒生长 指数和 al2O3
全文增补中
PET上沉积Al掺杂ZnO薄膜的光电特性研究 被引量:6
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作者 杨贵源 周雄图 +1 位作者 马学鸣 石旺舟 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1274-1278,共5页
采用脉冲激光沉积技术(PLD),室温下在柔性衬底PET上制备了高度c轴择优取向的Al掺杂ZnO薄膜。XRD分析表明,不同Al掺杂浓度的样品均呈现单一的ZnO相。荧光光谱和透射光谱分析显示,低温低氧压下制备的Al掺杂ZnO薄膜在紫光区域有很强的荧光... 采用脉冲激光沉积技术(PLD),室温下在柔性衬底PET上制备了高度c轴择优取向的Al掺杂ZnO薄膜。XRD分析表明,不同Al掺杂浓度的样品均呈现单一的ZnO相。荧光光谱和透射光谱分析显示,低温低氧压下制备的Al掺杂ZnO薄膜在紫光区域有很强的荧光发射,在可见光区域具有较高的透射率;并且可以通过Al掺杂浓度调节薄膜紫色发光强度和薄膜带隙。薄膜的电阻率随着Al掺杂浓度的增加先降低后增加,在掺杂浓度为3%原子分数时达到最小值。 展开更多
关键词 al掺杂zno薄膜 透明导电薄膜 脉冲激光沉积 荧光特性
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溶剂热法制备Al掺杂ZnO薄膜的机理研究 被引量:1
18
作者 马振辉 谷景华 张跃 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期74-78,共5页
采用溶剂热法在玻璃衬底上制备Al掺杂的ZnO薄膜,研究了溶剂热过程中升温、恒温和降温三个阶段分别对薄膜物相和形貌的影响,探讨了薄膜的生长机理。结果表明,升温阶段只是形核过程,基片仅在升温阶段与前驱液接触不能形成薄膜;基片在升温... 采用溶剂热法在玻璃衬底上制备Al掺杂的ZnO薄膜,研究了溶剂热过程中升温、恒温和降温三个阶段分别对薄膜物相和形貌的影响,探讨了薄膜的生长机理。结果表明,升温阶段只是形核过程,基片仅在升温阶段与前驱液接触不能形成薄膜;基片在升温-恒温阶段与前驱液接触可制备(002)择优取向的薄膜;恒温阶段既有成核过程又有晶体生长过程,基片仅在恒温阶段与前驱液接触可以制备薄膜;降温阶段薄膜继续生长。 展开更多
关键词 zno薄膜 al掺杂 溶剂热 机理
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退火气氛对Al-F共掺杂ZnO透明导电薄膜性能的影响
19
作者 周丽萍 呂珺 +3 位作者 汪冬梅 陈雯雯 吴玉程 郑治祥 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A02期536-538,共3页
通过溶胶.凝胶法,采用Al、F共掺杂的方法在4种不同的气氛下制备ZnO薄膜,研究了薄膜的晶体结构、表面形貌、电阻率和透光性随退火气氛的变化关系.制备的Al:F:ZnO薄膜是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜.4种退火气氛相比,在空气气氛... 通过溶胶.凝胶法,采用Al、F共掺杂的方法在4种不同的气氛下制备ZnO薄膜,研究了薄膜的晶体结构、表面形貌、电阻率和透光性随退火气氛的变化关系.制备的Al:F:ZnO薄膜是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜.4种退火气氛相比,在空气气氛下退火时,平均晶粒尺寸最大,为43.4nm,导电性能最好,电阻率可低达6.5×10^-2Ω·cm。4种退火气氛下,薄膜在可见光范围内的平均透过率均达到了75%以上,其中,空气气氛下退火时薄膜的透光性最好。 展开更多
关键词 zno薄膜 al F共掺杂 溶胶-凝胶 退火气氛
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磁控溅射沉积制备Al掺杂ZnO薄膜的棒状晶粒生长 被引量:4
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作者 赵笑昆 李博研 张增光 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第A01期112-115,共4页
Al掺杂ZnO(AZO)薄膜由于电导率高、光学透过率高、原料储量丰富、成本低廉而成为最具潜力的透明导电薄膜。本实验采用射频磁控溅射法沉积制备了30cm×30cm的AZO薄膜,研究了溅射压强对晶体结构、微观结构、电学和光学性能的影响,实... Al掺杂ZnO(AZO)薄膜由于电导率高、光学透过率高、原料储量丰富、成本低廉而成为最具潜力的透明导电薄膜。本实验采用射频磁控溅射法沉积制备了30cm×30cm的AZO薄膜,研究了溅射压强对晶体结构、微观结构、电学和光学性能的影响,实现微观结构和性能的调节。结果表明,溅射压强增大,薄膜沉积速率降低,晶体c轴择优取向生长变弱,晶粒尺寸变大且存在长度大于100nm的棒状晶粒。0.933Pa时薄膜电阻率降至最低(1.01×10^-3Ω·cm),可见光透过率为79.7%,禁带宽度Eg=3.82eV,有利于透明导电膜的应用。 展开更多
关键词 al掺杂zno 射频磁控溅射 压强 晶粒生长
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