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射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究被引量：14: 1; 作者何欣杨会生 +4 位作者王燕斌熊小涛乔利杰瞿春燕杨建军《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期142-146,共5页; 采用射频磁控溅射,用Al靶和Ti靶同时溅射沉积(Ti,Al)N薄膜。研究表明:不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构(B1型),当Al靶功率大于250 W薄膜中面心立方结构(B1型)和六方结构(B4型)共存。随Al成分的增加,B1型结构晶格常数减小,... 展开更多; 关键词磁控溅射 (Ti al)n薄膜硬度等离子体发射光谱; 在线阅读下载PDF 职称材料

多弧离子沉积（Ti，Al）N薄膜的结构与形貌被引量：6: 2; 作者吴一平乔学亮 +2 位作者陈建国孙培祯周景萍《机械工程材料》 CAS CSCD 1995年第4期29-31,共3页; 对在多弧离子镀膜机上采用Ｔｉ／Ａｌ机械复合靶沉积出（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的组织形貌与结构进行了分析，结果表明，（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有（１１１）晶面的择优取向，仍保持着ＴｉＮ的结构特征，但（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ晶面间距小于ＴｉＮ... 展开更多; 关键词 (Ti al)n薄膜多弧离子镀热作模具钢薄膜沉积; 在线阅读下载PDF 职称材料

反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能被引量：5: 3; 作者周滔聂璞林 +2 位作者李铸国黄坚蔡珣《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期34-38,共5页; 采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的(Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳米压入法、划痕法等方法研究了(Ti,Al)N薄膜的成分、相结构与力学性能的关系。结果表明,氮分压和基体偏压... 展开更多; 关键词 (Ti al)n薄膜磁控溅射氮分压基体偏压力学性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

高速钢表面多弧离子镀(Ti,Al)N薄膜及性能研究被引量：5: 4; 作者金犁潘应君《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2006年第16期59-61,共3页; 采用多弧离子镀技术在W18Cr4V表面制备出(Ti,Al)N硬质薄膜,研究了Al含量对(Ti,Al)N薄膜的形貌、硬度、膜基结合力、耐磨性、摩擦系数的影响。并利用扫描电镜、X射线衍射仪对薄膜进行了分析。结果表明Al含量在25%左右的(Ti,Al)N薄膜硬度... 展开更多; 关键词多弧离子镀 (Ti al)n薄膜性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

离子束辅助中频反应溅射 (Cr,Ti,Al)N薄膜的研究被引量：5: 5; 作者林松盛代明江 +4 位作者侯惠君朱霞高李洪武林凯生戴达煌《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期162-165,共3页; 为了提高工模具的服役性能,采用中频反应溅射,无灯丝离子源辅助的方法沉积了(Cr,Ti,Al)N多元硬质薄膜.分别用电子能谱、X-射线衍射、显微硬度计、划痕仪和干涉显微镜分析了薄膜的成分、相组成、硬度、膜/基结合力及膜层厚度.结果表明:... 展开更多; 关键词薄膜(Cr Ti al)n 中频反应溅射离子束辅助多元; 在线阅读下载PDF 职称材料

低辐射膜系中(Al,Ti)N薄膜的研究被引量：3: 6; 作者仝玉莲时方晓《材料与冶金学报》 CAS 北大核心 2016年第4期298-303,共6页; 以制备出性能优异成本低廉的低辐射镀膜玻璃为目的.通过直流磁控反应溅射技术在玻璃(或单晶硅)表面制备(Al,Ti)N薄膜作为低辐射镀膜玻璃的内层介质层,在此基础上进行单因素变量分析铝靶功率、钛靶功率、氮气流量和溅射时间对薄膜可见光... 展开更多; 关键词建筑低辐射镀膜玻璃直流反应溅射 (al Ti)n薄膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究被引量：14: 1; 作者何欣杨会生王燕斌熊小涛乔利杰瞿春燕杨建军; 机构北京科技大学材料物理与化学系; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期142-146,共5页; 文摘采用射频磁控溅射,用Al靶和Ti靶同时溅射沉积(Ti,Al)N薄膜。研究表明:不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构(B1型),当Al靶功率大于250 W薄膜中面心立方结构(B1型)和六方结构(B4型)共存。随Al成分的增加,B1型结构晶格常数减小,薄膜择优取向由B1型(111)向B4型(002)转变。薄膜表面随Al靶功率增加分别呈岛状、纤维状和柱状增长。(Ti,Al)N薄膜的硬度随Al靶功率的增加呈上升趋势。等离子体发射光谱分析显示,在相同工艺条件下Al靶比Ti靶先进入非金属态溅射模式,导致在相同功率下Al溅射速率低于Ti溅射速率。; 关键词磁控溅射 (Ti al)n薄膜硬度等离子体发射光谱; Keywords Opposed-target magnetron sputtering, （Ti, al） n, Hardness, Plasma emission spectra; 分类号 TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名多弧离子沉积（Ti，Al）N薄膜的结构与形貌被引量：6: 2; 作者吴一平乔学亮陈建国孙培祯周景萍; 机构华中理工大学; 出处《机械工程材料》 CAS CSCD 1995年第4期29-31,共3页; 基金国家教委博士点基金; 文摘对在多弧离子镀膜机上采用Ｔｉ／Ａｌ机械复合靶沉积出（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜的组织形貌与结构进行了分析，结果表明，（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜具有（１１１）晶面的择优取向，仍保持着ＴｉＮ的结构特征，但（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ晶面间距小于ＴｉＮ的晶面间距．没有ＡｌＮ相出现，这是ＴｉＮ相优先于ＡｌＮ相形成的缘故。（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ薄膜上分布有针孔和三种不同形貌液滴颗粒。; 关键词 (Ti al)n薄膜多弧离子镀热作模具钢薄膜沉积; 分类号 TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能被引量：5: 3; 作者周滔聂璞林李铸国黄坚蔡珣; 机构上海市激光制造与表面改性重点实验室上海交通大学; 出处《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期34-38,共5页; 文摘采用镶嵌靶反应磁控溅射技术,通过调节氮分压及基体偏压在M2高速钢基体表面制备了一系列耐热的(Ti,Al)N硬质薄膜,并用XRD,EDS及纳米压入法、划痕法等方法研究了(Ti,Al)N薄膜的成分、相结构与力学性能的关系。结果表明,氮分压和基体偏压对(Ti,Al)N薄膜取向及Ti、Al、N原子含量有明显影响,从而导致薄膜硬度及膜基结合性能发生变化。研究中,在氮分压为33.3×10-3Pa、基体偏压为-100V时制备的(Ti,Al)N薄膜力学性能最优,其纳米硬度为43.4GPa,达到40GPa超硬薄膜的要求。; 关键词 (Ti al)n薄膜磁控溅射氮分压基体偏压力学性能; Keywords （Ti,A1）n film magnetron sputtering n2 partial pressure substrate bias mechanical properties; 分类号 TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名高速钢表面多弧离子镀(Ti,Al)N薄膜及性能研究被引量：5: 4; 作者金犁潘应君; 机构武汉科技大学材料与冶金学院; 出处《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2006年第16期59-61,共3页; 文摘采用多弧离子镀技术在W18Cr4V表面制备出(Ti,Al)N硬质薄膜,研究了Al含量对(Ti,Al)N薄膜的形貌、硬度、膜基结合力、耐磨性、摩擦系数的影响。并利用扫描电镜、X射线衍射仪对薄膜进行了分析。结果表明Al含量在25%左右的(Ti,Al)N薄膜硬度达到2780HV0.05,耐磨性好,摩擦系数仅为0.168,且与钢基体结合良好,具有最佳的综合性能。; 关键词多弧离子镀 (Ti al)n薄膜性能; Keywords multi-arc ion plating （Ti,al）n films properties; 分类号 TG174.375 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名离子束辅助中频反应溅射 (Cr,Ti,Al)N薄膜的研究被引量：5: 5; 作者林松盛代明江侯惠君朱霞高李洪武林凯生戴达煌; 机构广州有色金属研究院材料表面中心广东工业大学; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期162-165,共3页; 文摘为了提高工模具的服役性能,采用中频反应溅射,无灯丝离子源辅助的方法沉积了(Cr,Ti,Al)N多元硬质薄膜.分别用电子能谱、X-射线衍射、显微硬度计、划痕仪和干涉显微镜分析了薄膜的成分、相组成、硬度、膜/基结合力及膜层厚度.结果表明:用此法制备的薄膜为含有多相结构的(Cr,Ti,Al)N多元硬质膜,晶粒细小,沉积速率快,显微硬度高达35 GPa,结合强度高度达80 N,综合性能优异.; 关键词薄膜(Cr Ti al)n 中频反应溅射离子束辅助多元; 分类号 O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名低辐射膜系中(Al,Ti)N薄膜的研究被引量：3: 6; 作者仝玉莲时方晓; 机构沈阳建筑大学材料科学与工程学院; 出处《材料与冶金学报》 CAS 北大核心 2016年第4期298-303,共6页; 基金辽宁省科技计划项目(2011222005); 文摘以制备出性能优异成本低廉的低辐射镀膜玻璃为目的.通过直流磁控反应溅射技术在玻璃(或单晶硅)表面制备(Al,Ti)N薄膜作为低辐射镀膜玻璃的内层介质层,在此基础上进行单因素变量分析铝靶功率、钛靶功率、氮气流量和溅射时间对薄膜可见光透过率、表面粗糙度的影响以及测定最优条件下薄膜的结晶状态、表面形貌和元素含量.结果表明,当铝靶功率为100 W、钛靶功率为80 W、氮气流量为2.5 ml/min、溅射时间为90 min时可见光范围内透过率均在96%以上,表面粗糙度11.3 nm,膜基结合力强,膜质优异适宜低辐射镀膜玻璃功能膜的附着.; 关键词建筑低辐射镀膜玻璃直流反应溅射 (al Ti)n薄膜; Keywords building lowe glass DC reactive sputtering （al, Ti） n thin film; 分类号 TU53 [建筑科学—建筑技术科学] TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	射频磁控溅射(Ti,Al)N薄膜性能的研究	何欣杨会生王燕斌熊小涛乔利杰瞿春燕杨建军	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2006	14	在线阅读下载PDF 职称材料
2	多弧离子沉积（Ti，Al）N薄膜的结构与形貌	吴一平乔学亮陈建国孙培祯周景萍	《机械工程材料》 CAS CSCD	1995	6	在线阅读下载PDF 职称材料
3	反应磁控溅射法制备(Ti,Al)N薄膜的力学性能	周滔聂璞林李铸国黄坚蔡珣	《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心	2010	5	在线阅读下载PDF 职称材料
4	高速钢表面多弧离子镀(Ti,Al)N薄膜及性能研究	金犁潘应君	《热加工工艺》 CSCD 北大核心	2006	5	在线阅读下载PDF 职称材料
5	离子束辅助中频反应溅射 (Cr,Ti,Al)N薄膜的研究	林松盛代明江侯惠君朱霞高李洪武林凯生戴达煌	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2006	5	在线阅读下载PDF 职称材料
6	低辐射膜系中(Al,Ti)N薄膜的研究	仝玉莲时方晓	《材料与冶金学报》 CAS 北大核心	2016	3	在线阅读下载PDF 职称材料