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主动磁轴承开关功率放大器的设计
被引量:
4
1
作者
祝长生
蔡晓峰
蔡晓清
《机电工程》
CAS
2004年第11期29-33,共5页
分析了各种调制技术的优缺点 ,介绍了 ,电磁轴承功率放大器的组成、原理、设计要求和调制技术 ,设计了一款基于DSP的开关功率放大器 ,并给出了实验结果。和传统的功放相比 ,该开关功率放大器可以显著地减少功耗和体积 ,简化线路 ,增强...
分析了各种调制技术的优缺点 ,介绍了 ,电磁轴承功率放大器的组成、原理、设计要求和调制技术 ,设计了一款基于DSP的开关功率放大器 ,并给出了实验结果。和传统的功放相比 ,该开关功率放大器可以显著地减少功耗和体积 ,简化线路 ,增强可靠性 ,降低成本以及调试方便等优点。
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关键词
开关功率放大器
调制技术
功放
功耗
DSP
线路
体积
主动磁轴承
电磁轴承
设计要求
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职称材料
Si_(3)N_(4)覆铜基板的界面空洞控制技术
被引量:
4
2
作者
张义政
张崤君
+4 位作者
张金利
吴亚光
刘旭
鲍禹希
张腾
《半导体技术》
CAS
北大核心
2021年第7期572-577,共6页
为满足新一代SiC基功率模块的先进封装需求,研究了Si_(3)N_(4)覆铜活性金属焊接(AMB)基板的界面空洞控制技术,使Si_(3)N_(4)陶瓷与铜箔界面处的空洞率低于1%。选用Ag-Cu-Ti活性金属焊片作为Si_(3)N_(4)覆铜基板的焊料层,其中的活性组分T...
为满足新一代SiC基功率模块的先进封装需求,研究了Si_(3)N_(4)覆铜活性金属焊接(AMB)基板的界面空洞控制技术,使Si_(3)N_(4)陶瓷与铜箔界面处的空洞率低于1%。选用Ag-Cu-Ti活性金属焊片作为Si_(3)N_(4)覆铜基板的焊料层,其中的活性组分Ti可与Si_(3)N_(4)生成界面反应层TiN,该材料是界面空洞控制的关键。在分析界面空洞形成机理的基础上,以空洞率为指标,对原材料前处理、AMB工艺参数(焊接压力和焊接温度)进行全因子试验设计(DOE)及方差分析,得到最佳的参数组合为:化学法与还原法相结合的原材料前处理方式,焊接压力约2 N,焊接温度900℃。通过原材料前处理和AMB工艺优化的界面空洞控制技术,研制出界面空洞率小于1%的Si_(3)N_(4)覆铜基板,能够满足SiC基功率模块封装基板的高可靠应用需求。
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关键词
SiC基功率模块
Si_(3)N_(4)覆铜基板
活性金属焊接(
amb
)工艺
AG-CU-TI
空洞率
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职称材料
Al_(2)O_(3)/Cu的界面微观结构及封接性能
被引量:
3
3
作者
范彬彬
赵林
+2 位作者
谢志鹏
康丁华
刘溪海
《硅酸盐通报》
CAS
北大核心
2022年第1期241-248,共8页
采用活化Mo-Mn法和活性金属钎焊(AMB)工艺对Al_(2)O_(3)陶瓷进行金属化处理,分别研究了两种金属化工艺的界面形貌、新相的形成及显微结构的演变,并测试了Al_(2)O_(3)/Cu的力学性能和气密性。研究表明:采用活化Mo-Mn法的封接界面处出现...
采用活化Mo-Mn法和活性金属钎焊(AMB)工艺对Al_(2)O_(3)陶瓷进行金属化处理,分别研究了两种金属化工艺的界面形貌、新相的形成及显微结构的演变,并测试了Al_(2)O_(3)/Cu的力学性能和气密性。研究表明:采用活化Mo-Mn法的封接界面处出现玻璃相的迁移,形成了立方相MnAl_(2)O_(4),可以提高封接强度。AMB工艺中活性元素Ti与Al_(2)O_(3)反应依次形成厚度为0.64μm的TiO和1.03μm的Cu_(3)Ti_(3)O。各层间热膨胀系数(CTE)的差异给钎焊接头提供了良好的热弹性相容性且降低了残余应力。活化Mo-Mn法的封接强度((60.2±7.7)MPa)比AMB工艺((43.1±6.9)MPa)高,但在气密性方面两者并无明显差别(均在2.3×10^(-11) Pa·m^(3)·s^(-1)左右)。
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关键词
陶瓷-金属封接
Al_(2)O_(3)/Cu界面
活化Mo-Mn法
amb
工艺
金属化
封接性能
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职称材料
题名
主动磁轴承开关功率放大器的设计
被引量:
4
1
作者
祝长生
蔡晓峰
蔡晓清
机构
浙江大学电气工程学院
杭州红苹果电子有限公司
出处
《机电工程》
CAS
2004年第11期29-33,共5页
文摘
分析了各种调制技术的优缺点 ,介绍了 ,电磁轴承功率放大器的组成、原理、设计要求和调制技术 ,设计了一款基于DSP的开关功率放大器 ,并给出了实验结果。和传统的功放相比 ,该开关功率放大器可以显著地减少功耗和体积 ,简化线路 ,增强可靠性 ,降低成本以及调试方便等优点。
关键词
开关功率放大器
调制技术
功放
功耗
DSP
线路
体积
主动磁轴承
电磁轴承
设计要求
Keywords
active magnetic bearing(
amb
)
switching power amplifier
modulation technique
digital signal
process
ing (DSP)
分类号
TM346 [电气工程—电机]
TN722.75 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
Si_(3)N_(4)覆铜基板的界面空洞控制技术
被引量:
4
2
作者
张义政
张崤君
张金利
吴亚光
刘旭
鲍禹希
张腾
机构
中国电子科技集团公司第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
北大核心
2021年第7期572-577,共6页
文摘
为满足新一代SiC基功率模块的先进封装需求,研究了Si_(3)N_(4)覆铜活性金属焊接(AMB)基板的界面空洞控制技术,使Si_(3)N_(4)陶瓷与铜箔界面处的空洞率低于1%。选用Ag-Cu-Ti活性金属焊片作为Si_(3)N_(4)覆铜基板的焊料层,其中的活性组分Ti可与Si_(3)N_(4)生成界面反应层TiN,该材料是界面空洞控制的关键。在分析界面空洞形成机理的基础上,以空洞率为指标,对原材料前处理、AMB工艺参数(焊接压力和焊接温度)进行全因子试验设计(DOE)及方差分析,得到最佳的参数组合为:化学法与还原法相结合的原材料前处理方式,焊接压力约2 N,焊接温度900℃。通过原材料前处理和AMB工艺优化的界面空洞控制技术,研制出界面空洞率小于1%的Si_(3)N_(4)覆铜基板,能够满足SiC基功率模块封装基板的高可靠应用需求。
关键词
SiC基功率模块
Si_(3)N_(4)覆铜基板
活性金属焊接(
amb
)工艺
AG-CU-TI
空洞率
Keywords
SiC-based power module
copper-bonded Si_(3)N_(4)substrate
active metal brazing(
amb
)
process
Ag-Cu-Ti
void ratio
分类号
TN305.94 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
Al_(2)O_(3)/Cu的界面微观结构及封接性能
被引量:
3
3
作者
范彬彬
赵林
谢志鹏
康丁华
刘溪海
机构
景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院
清华大学材料学院新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室
娄底市安地亚斯电子陶瓷有限公司
出处
《硅酸盐通报》
CAS
北大核心
2022年第1期241-248,共8页
基金
国家自然科学基金(52072201,51962011)。
文摘
采用活化Mo-Mn法和活性金属钎焊(AMB)工艺对Al_(2)O_(3)陶瓷进行金属化处理,分别研究了两种金属化工艺的界面形貌、新相的形成及显微结构的演变,并测试了Al_(2)O_(3)/Cu的力学性能和气密性。研究表明:采用活化Mo-Mn法的封接界面处出现玻璃相的迁移,形成了立方相MnAl_(2)O_(4),可以提高封接强度。AMB工艺中活性元素Ti与Al_(2)O_(3)反应依次形成厚度为0.64μm的TiO和1.03μm的Cu_(3)Ti_(3)O。各层间热膨胀系数(CTE)的差异给钎焊接头提供了良好的热弹性相容性且降低了残余应力。活化Mo-Mn法的封接强度((60.2±7.7)MPa)比AMB工艺((43.1±6.9)MPa)高,但在气密性方面两者并无明显差别(均在2.3×10^(-11) Pa·m^(3)·s^(-1)左右)。
关键词
陶瓷-金属封接
Al_(2)O_(3)/Cu界面
活化Mo-Mn法
amb
工艺
金属化
封接性能
Keywords
ceramic-metal sealing
Al_(2)O_(3)/Cu interface
activated Mo-Mn method
amb process
metallization
sealing performance
分类号
TG454 [金属学及工艺—焊接]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
主动磁轴承开关功率放大器的设计
祝长生
蔡晓峰
蔡晓清
《机电工程》
CAS
2004
4
在线阅读
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职称材料
2
Si_(3)N_(4)覆铜基板的界面空洞控制技术
张义政
张崤君
张金利
吴亚光
刘旭
鲍禹希
张腾
《半导体技术》
CAS
北大核心
2021
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
Al_(2)O_(3)/Cu的界面微观结构及封接性能
范彬彬
赵林
谢志鹏
康丁华
刘溪海
《硅酸盐通报》
CAS
北大核心
2022
3
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职称材料
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