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主动磁轴承开关功率放大器的设计 被引量:4
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作者 祝长生 蔡晓峰 蔡晓清 《机电工程》 CAS 2004年第11期29-33,共5页
分析了各种调制技术的优缺点 ,介绍了 ,电磁轴承功率放大器的组成、原理、设计要求和调制技术 ,设计了一款基于DSP的开关功率放大器 ,并给出了实验结果。和传统的功放相比 ,该开关功率放大器可以显著地减少功耗和体积 ,简化线路 ,增强... 分析了各种调制技术的优缺点 ,介绍了 ,电磁轴承功率放大器的组成、原理、设计要求和调制技术 ,设计了一款基于DSP的开关功率放大器 ,并给出了实验结果。和传统的功放相比 ,该开关功率放大器可以显著地减少功耗和体积 ,简化线路 ,增强可靠性 ,降低成本以及调试方便等优点。 展开更多
关键词 开关功率放大器 调制技术 功放 功耗 DSP 线路 体积 主动磁轴承 电磁轴承 设计要求
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Si_(3)N_(4)覆铜基板的界面空洞控制技术 被引量:4
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作者 张义政 张崤君 +4 位作者 张金利 吴亚光 刘旭 鲍禹希 张腾 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第7期572-577,共6页
为满足新一代SiC基功率模块的先进封装需求,研究了Si_(3)N_(4)覆铜活性金属焊接(AMB)基板的界面空洞控制技术,使Si_(3)N_(4)陶瓷与铜箔界面处的空洞率低于1%。选用Ag-Cu-Ti活性金属焊片作为Si_(3)N_(4)覆铜基板的焊料层,其中的活性组分T... 为满足新一代SiC基功率模块的先进封装需求,研究了Si_(3)N_(4)覆铜活性金属焊接(AMB)基板的界面空洞控制技术,使Si_(3)N_(4)陶瓷与铜箔界面处的空洞率低于1%。选用Ag-Cu-Ti活性金属焊片作为Si_(3)N_(4)覆铜基板的焊料层,其中的活性组分Ti可与Si_(3)N_(4)生成界面反应层TiN,该材料是界面空洞控制的关键。在分析界面空洞形成机理的基础上,以空洞率为指标,对原材料前处理、AMB工艺参数(焊接压力和焊接温度)进行全因子试验设计(DOE)及方差分析,得到最佳的参数组合为:化学法与还原法相结合的原材料前处理方式,焊接压力约2 N,焊接温度900℃。通过原材料前处理和AMB工艺优化的界面空洞控制技术,研制出界面空洞率小于1%的Si_(3)N_(4)覆铜基板,能够满足SiC基功率模块封装基板的高可靠应用需求。 展开更多
关键词 SiC基功率模块 Si_(3)N_(4)覆铜基板 活性金属焊接(amb)工艺 AG-CU-TI 空洞率
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Al_(2)O_(3)/Cu的界面微观结构及封接性能 被引量:3
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作者 范彬彬 赵林 +2 位作者 谢志鹏 康丁华 刘溪海 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2022年第1期241-248,共8页
采用活化Mo-Mn法和活性金属钎焊(AMB)工艺对Al_(2)O_(3)陶瓷进行金属化处理,分别研究了两种金属化工艺的界面形貌、新相的形成及显微结构的演变,并测试了Al_(2)O_(3)/Cu的力学性能和气密性。研究表明:采用活化Mo-Mn法的封接界面处出现... 采用活化Mo-Mn法和活性金属钎焊(AMB)工艺对Al_(2)O_(3)陶瓷进行金属化处理,分别研究了两种金属化工艺的界面形貌、新相的形成及显微结构的演变,并测试了Al_(2)O_(3)/Cu的力学性能和气密性。研究表明:采用活化Mo-Mn法的封接界面处出现玻璃相的迁移,形成了立方相MnAl_(2)O_(4),可以提高封接强度。AMB工艺中活性元素Ti与Al_(2)O_(3)反应依次形成厚度为0.64μm的TiO和1.03μm的Cu_(3)Ti_(3)O。各层间热膨胀系数(CTE)的差异给钎焊接头提供了良好的热弹性相容性且降低了残余应力。活化Mo-Mn法的封接强度((60.2±7.7)MPa)比AMB工艺((43.1±6.9)MPa)高,但在气密性方面两者并无明显差别(均在2.3×10^(-11) Pa·m^(3)·s^(-1)左右)。 展开更多
关键词 陶瓷-金属封接 Al_(2)O_(3)/Cu界面 活化Mo-Mn法 amb工艺 金属化 封接性能
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