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201无镍不锈钢溅射沉积金属钛膜研究
1
作者
蓝德均
黄双华
《有色金属科学与工程》
CAS
2013年第4期23-28,共6页
采用常温直流磁控溅射法在廉价201无镍不锈钢表面沉积了纯钛薄膜.通过XRD和SEM分析了201上钛薄膜的结构和形态受沉积条件的影响.结果表明,在溅射功率为78.4 W时钛薄膜由紧密排列的柱状晶构成,但功率过大薄膜反而疏松.多种工艺参数下,钛...
采用常温直流磁控溅射法在廉价201无镍不锈钢表面沉积了纯钛薄膜.通过XRD和SEM分析了201上钛薄膜的结构和形态受沉积条件的影响.结果表明,在溅射功率为78.4 W时钛薄膜由紧密排列的柱状晶构成,但功率过大薄膜反而疏松.多种工艺参数下,钛薄膜具有高度的择优取向,但其择优取向的晶面并不固定.XRD结果还表明:由于钛原子的渗入,基底会发生较严重的晶格畸变.并探讨了以沉积量表征膜厚的可能性及工艺参数对薄膜沉积量的影响.
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关键词
201无镍不锈钢
磁控溅射
钛薄膜
择优取向
沉积量
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职称材料
题名
201无镍不锈钢溅射沉积金属钛膜研究
1
作者
蓝德均
黄双华
机构
攀枝花学院生物与化学工程学院
攀枝花学院土木与建筑工程学院
出处
《有色金属科学与工程》
CAS
2013年第4期23-28,共6页
基金
四川省科技支撑计划资助项目(2008GZ0188)
文摘
采用常温直流磁控溅射法在廉价201无镍不锈钢表面沉积了纯钛薄膜.通过XRD和SEM分析了201上钛薄膜的结构和形态受沉积条件的影响.结果表明,在溅射功率为78.4 W时钛薄膜由紧密排列的柱状晶构成,但功率过大薄膜反而疏松.多种工艺参数下,钛薄膜具有高度的择优取向,但其择优取向的晶面并不固定.XRD结果还表明:由于钛原子的渗入,基底会发生较严重的晶格畸变.并探讨了以沉积量表征膜厚的可能性及工艺参数对薄膜沉积量的影响.
关键词
201无镍不锈钢
磁控溅射
钛薄膜
择优取向
沉积量
Keywords
201
stainless steel free of Ni
magnetron sputtering
Ti film
preferred orientation
deposition quantity
分类号
TF764 [冶金工程—钢铁冶金]
TG146.23 [金属学及工艺—金属材料]
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作者
出处
发文年
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1
201无镍不锈钢溅射沉积金属钛膜研究
蓝德均
黄双华
《有色金属科学与工程》
CAS
2013
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