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“cocktail”探针药物法及其在研究中药对细胞色素P450影响中的应用进展
被引量:
22
1
作者
候丛颂
杨志宏
孙晓波
《中国药理学与毒理学杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期445-450,共6页
"cocktail"(鸡尾酒)探针药物法作为一种快速、高通量的研究方法,目前已广泛应用于药物对细胞色素P450(CYP450)活性影响评估、药物代谢途径确认、药物-药物相互作用预测、药物代谢表型分析、临床用药方案优化等诸多研究方向。...
"cocktail"(鸡尾酒)探针药物法作为一种快速、高通量的研究方法,目前已广泛应用于药物对细胞色素P450(CYP450)活性影响评估、药物代谢途径确认、药物-药物相互作用预测、药物代谢表型分析、临床用药方案优化等诸多研究方向。此方法具有独特的优势和广阔的应用前景。本文主要从CYP450同工酶的特性、"cocktail"探针药物法的特点、探针药物选择依据、"cocktail"探针药物法在中药对CYP450代谢酶影响中的应用进行综述。旨在较为系统地梳理相关研究进展,并为此方面的深入研究工作提供参考。
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关键词
“
cocktail
”混合探针药物法
中草药
细胞色素P450酶系统
代谢
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职称材料
乌头类生物碱组分在CYP450中的代谢指纹图谱及对CYP450活性的影响
被引量:
10
2
作者
毕云枫
刘舒
+2 位作者
李雪
刘志强
宋凤瑞
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第9期2084-2089,共6页
利用超高效液相色谱-串联质谱(UPLC-MS/MS)的多反应监测(MRM)技术,结合多探针底物方法,对单酯型及双酯型乌头类生物碱组分对细胞色素P450(CYP450)亚型的活性影响进行了研究;同时利用超高效液相色谱-四极杆-飞行时间串联质谱(UPLC-Q-TOF-...
利用超高效液相色谱-串联质谱(UPLC-MS/MS)的多反应监测(MRM)技术,结合多探针底物方法,对单酯型及双酯型乌头类生物碱组分对细胞色素P450(CYP450)亚型的活性影响进行了研究;同时利用超高效液相色谱-四极杆-飞行时间串联质谱(UPLC-Q-TOF-MS/MS)对单酯型和双酯型乌头类生物碱组分在CYP450中的代谢指纹图谱进行了研究.活性影响研究结果表明,单酯型生物碱组分对CYP2C及2D的抑制能力较强,其IC50值分别为7.44和6.74μmol/L;双酯型生物碱组分对CYP1A2,3A,2C和2D均有较弱的抑制作用,其IC50值分别为39.48,70.44,17.36和86.04μmol/L.代谢指纹图谱显示,双酯型生物碱组分在大鼠肝微粒体中有6个特异性产物可以作为该反应的特征峰.
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关键词
乌头类生物碱
细胞色素P450
代谢指纹图谱
超高效液相色谱-串联质谱
多探针底物
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
3
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
题名
“cocktail”探针药物法及其在研究中药对细胞色素P450影响中的应用进展
被引量:
22
1
作者
候丛颂
杨志宏
孙晓波
机构
中国医学科学院药用植物研究所
河北北方学院
出处
《中国药理学与毒理学杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期445-450,共6页
基金
国家自然科学基金(81102879)
国家自然科学基金(81273654)
+3 种基金
高等学校博士学科点专项科研基金(20101106120049)
国家科技支撑计划课题(2008BAI51BO2)
国家科技重大专项(2012ZX09501001)
国家科技重大专项(2013ZX09103002-622)~~
文摘
"cocktail"(鸡尾酒)探针药物法作为一种快速、高通量的研究方法,目前已广泛应用于药物对细胞色素P450(CYP450)活性影响评估、药物代谢途径确认、药物-药物相互作用预测、药物代谢表型分析、临床用药方案优化等诸多研究方向。此方法具有独特的优势和广阔的应用前景。本文主要从CYP450同工酶的特性、"cocktail"探针药物法的特点、探针药物选择依据、"cocktail"探针药物法在中药对CYP450代谢酶影响中的应用进行综述。旨在较为系统地梳理相关研究进展,并为此方面的深入研究工作提供参考。
关键词
“
cocktail
”混合探针药物法
中草药
细胞色素P450酶系统
代谢
Keywords
"cocktail" probe substrates approach
drugs, Chinese herbal
cytochrome P-450 enzyme system
metabolism
分类号
R969.1 [医药卫生—药理学]
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职称材料
题名
乌头类生物碱组分在CYP450中的代谢指纹图谱及对CYP450活性的影响
被引量:
10
2
作者
毕云枫
刘舒
李雪
刘志强
宋凤瑞
机构
中国科学院长春应用化学研究所
吉林农业大学食品科学与工程学院
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第9期2084-2089,共6页
基金
国家自然科学基金(批准号:81073040
81274046)
+1 种基金
国家'九七三'计划项目(批准号:2011CB505300
2011CB505305)资助
文摘
利用超高效液相色谱-串联质谱(UPLC-MS/MS)的多反应监测(MRM)技术,结合多探针底物方法,对单酯型及双酯型乌头类生物碱组分对细胞色素P450(CYP450)亚型的活性影响进行了研究;同时利用超高效液相色谱-四极杆-飞行时间串联质谱(UPLC-Q-TOF-MS/MS)对单酯型和双酯型乌头类生物碱组分在CYP450中的代谢指纹图谱进行了研究.活性影响研究结果表明,单酯型生物碱组分对CYP2C及2D的抑制能力较强,其IC50值分别为7.44和6.74μmol/L;双酯型生物碱组分对CYP1A2,3A,2C和2D均有较弱的抑制作用,其IC50值分别为39.48,70.44,17.36和86.04μmol/L.代谢指纹图谱显示,双酯型生物碱组分在大鼠肝微粒体中有6个特异性产物可以作为该反应的特征峰.
关键词
乌头类生物碱
细胞色素P450
代谢指纹图谱
超高效液相色谱-串联质谱
多探针底物
Keywords
Aconite alkaloid
Cytochrome P450
Metabolic fingerprint
Ultra performance liquid chromatog- raphy-tandem mass spectrometry(UPLC-MS/MS)
cocktail
probe
substrat
e
分类号
O657.6 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
3
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning
probe
lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the
substrat
e during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The
approach
offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
“cocktail”探针药物法及其在研究中药对细胞色素P450影响中的应用进展
候丛颂
杨志宏
孙晓波
《中国药理学与毒理学杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2013
22
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
乌头类生物碱组分在CYP450中的代谢指纹图谱及对CYP450活性的影响
毕云枫
刘舒
李雪
刘志强
宋凤瑞
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
10
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职称材料
3
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
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