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低稀释比玻璃熔片X射线荧光光谱法分析高纯硅石中主次成分 被引量:4
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作者 宋霞 杨双花 翟智卫 《耐火材料》 CAS 北大核心 2011年第4期318-320,共3页
用市售硅石、硅砖国家标准物质和SiO2基准试剂配制出一系列适当含量范围的标准样品,采用低稀释比玻璃熔片法,研究了高纯硅石中主次成分的X射线荧光光谱分析方法,并且对熔剂种类、稀释比、熔样条件进行了系统研究。国家硅石标准物质的测... 用市售硅石、硅砖国家标准物质和SiO2基准试剂配制出一系列适当含量范围的标准样品,采用低稀释比玻璃熔片法,研究了高纯硅石中主次成分的X射线荧光光谱分析方法,并且对熔剂种类、稀释比、熔样条件进行了系统研究。国家硅石标准物质的测定值与标准值相一致,应用于实际样品的测定并和化学法比较,分析结果也基本一致。该方法操作简单、快速,结果准确,精密度好,具有良好的实用性。 展开更多
关键词 低稀释比 玻璃熔片法 X射线荧光光谱法 高纯硅石 系列标准样品
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