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高温等静压烧结Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)纳米陶瓷
被引量：
13
1
作者
高濂
宫本大树
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第3期495-498,共4页
本工作用化学共沉淀法制备了平均晶粒尺寸约20nm的20mol％Al2O3－ZrO2复合粒体，不含有Y2O3作为四方氧化铝的稳定剂．粉体的煅烧温度为750℃，XRD结果表明，粉体中含100％立方氧化锆相，未发现有Al2O3结晶相存在．该粉体用高温等静压方...
本工作用化学共沉淀法制备了平均晶粒尺寸约20nm的20mol％Al2O3－ZrO2复合粒体，不含有Y2O3作为四方氧化铝的稳定剂．粉体的煅烧温度为750℃，XRD结果表明，粉体中含100％立方氧化锆相，未发现有Al2O3结晶相存在．该粉体用高温等静压方法，在1000℃和200MPa的条件下烧结1h，得到了平均晶粒尺寸为50nm（TEM表征）的致密陶瓷，样品密度为理论密度的98％左右．对样品抛光表面的XRD定量分析结果表明，其抛光表面的相组成为：55％t－ZrO2－39％m-ZrO2－6％α-Al2O3。
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关键词
高温等静压烧结
氧化铝-氧化锆
纳米陶瓷
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职称材料
题名
高温等静压烧结Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)纳米陶瓷
被引量：
13
1
作者
高濂
宫本大树
机构
中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室
日本大阪府立产业技术综合研究所
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999年第3期495-498,共4页
文摘
本工作用化学共沉淀法制备了平均晶粒尺寸约20nm的20mol％Al2O3－ZrO2复合粒体，不含有Y2O3作为四方氧化铝的稳定剂．粉体的煅烧温度为750℃，XRD结果表明，粉体中含100％立方氧化锆相，未发现有Al2O3结晶相存在．该粉体用高温等静压方法，在1000℃和200MPa的条件下烧结1h，得到了平均晶粒尺寸为50nm（TEM表征）的致密陶瓷，样品密度为理论密度的98％左右．对样品抛光表面的XRD定量分析结果表明，其抛光表面的相组成为：55％t－ZrO2－39％m-ZrO2－6％α-Al2O3。
关键词
高温等静压烧结
氧化铝-氧化锆
纳米陶瓷
Keywords
nano-ceramics
HIP
Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)
分类号
TF123.72 [冶金工程—粉末冶金]
TQ174.758 [化学工程—陶瓷工业]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
高温等静压烧结Al_(2)O_(3)-ZrO_(2)纳米陶瓷
高濂
宫本大树
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1999
13
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职称材料
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