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应用于超大规模集成电路工艺的高密度等离子体源研究进展
被引量:
3
1
作者
王平
杨银堂
+1 位作者
徐新艳
杨桂杰
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2002年第4期274-281,共8页
本文简要地介绍了等离子体的产生方式以及传统的射频电容耦合等离子体源。对电子回旋共振等离子体(ECR) ,感应耦合等离子体 (ICP) ,螺旋波等离子体 (HWP)等几种新型的高密度等离子体源[1] 的工作原理及结构重点作了分析讨论 ,并从运行...
本文简要地介绍了等离子体的产生方式以及传统的射频电容耦合等离子体源。对电子回旋共振等离子体(ECR) ,感应耦合等离子体 (ICP) ,螺旋波等离子体 (HWP)等几种新型的高密度等离子体源[1] 的工作原理及结构重点作了分析讨论 ,并从运行参数上对其进行了比较。
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关键词
超大规模集成电路
研究进展
高密度等离子体源
电子回旋共振
感应耦合
等离子体
螺旋波
等离子体
生产工艺
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职称材料
题名
应用于超大规模集成电路工艺的高密度等离子体源研究进展
被引量:
3
1
作者
王平
杨银堂
徐新艳
杨桂杰
机构
西安电子科技大学微电子所
出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2002年第4期274-281,共8页
基金
国防科技预研基金资助项目 (No .99J8.3 .2 .DZ0 13 7)
教育部"跨世纪优秀人才培养基金"资助项目
文摘
本文简要地介绍了等离子体的产生方式以及传统的射频电容耦合等离子体源。对电子回旋共振等离子体(ECR) ,感应耦合等离子体 (ICP) ,螺旋波等离子体 (HWP)等几种新型的高密度等离子体源[1] 的工作原理及结构重点作了分析讨论 ,并从运行参数上对其进行了比较。
关键词
超大规模集成电路
研究进展
高密度等离子体源
电子回旋共振
感应耦合
等离子体
螺旋波
等离子体
生产工艺
Keywords
High density plasma sources,Electron cyclotron resonance,Inductively coupled plasma,Helicon wave plasma,Plasma induced damages
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
O53 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
应用于超大规模集成电路工艺的高密度等离子体源研究进展
王平
杨银堂
徐新艳
杨桂杰
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2002
3
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