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1
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高密度等离子体化学气相淀积(HDP CVD)工艺 |
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《中国集成电路》
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2007 |
3
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2
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高频等离子体化学气相淀积法制备TiO_2超细粒子 |
朱宏杰
王新
李春忠
胡黎明
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《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
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1994 |
8
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3
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等离子体增强化学气相淀积a-SiCOF薄膜的稳定性研究 |
丁士进
张庆全
王鹏飞
张卫
王季陶
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《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
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2001 |
0 |
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4
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添加H_2对SiH_4/N_2/Ar等离子体淀积的氮化硅电学和光学特性的影响 |
景亚霓
钟传杰
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《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2014 |
0 |
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5
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激光诱导等离子体淀积薄膜过程的研究 |
张贵银
荆一东
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《四川工业学院学报》
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2001 |
0 |
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6
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化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅰ.TiO_2超细粒子的制备 |
胡黎明
李春忠
姚光辉
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
7
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7
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化学气相淀积反应器内TiCl_4氧化反应动力学 |
王松
胡黎明
郑柏存
古宏晨
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
5
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8
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TiCl_4-O_2-H_2O体系化学气相淀积TiO_2超细粒子 |
姚光辉
李春忠
胡黎明
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
7
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9
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氯参与的化学气相淀积金刚石的热力学分析 |
刘志杰
张卫
张剑云
万永中
王季陶
曹传宝
朱鹤孙
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《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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1999 |
1
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10
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化学气相淀积在无机新材料制备中的应用 |
郭新
袁润章
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《材料科学与工程》
CSCD
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1994 |
13
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11
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弛豫锗硅减压化学气相淀积的CFD模型及仿真 |
戴显英
郑若川
郭静静
张鹤鸣
郝跃
邵晨峰
吉瑶
杨程
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《西安电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2012 |
1
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12
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化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅲ.TiO_2超细粒子晶体组成 |
胡黎明
古宏晨
李春忠
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
2
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13
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SnO_2薄膜的化学气相淀积 Ⅰ.SnO_2薄膜的制备过程动力学 |
姚光辉
韩杰
袁渭康
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1990 |
3
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14
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卤素原子在化学气相淀积金刚石薄膜过程中的作用 |
刘志杰
张卫
万永中
王季陶
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《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
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1998 |
1
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15
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AlCl_3-NH_3-N_2体系化学气相淀积AIN超细粒子 Ⅱ.AIN的粒度及分布模型 |
李春忠
姚光辉
胡黎明
袁渭康
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
1
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16
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Al-Cl-N-H体系化学气相淀积AIN粉末的热力学研究 |
李春忠
胡黎明
姚光辉
袁渭康
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
1
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17
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化学气相淀积在集成电路制造后段工艺中的应用 |
易万兵
涂瑞能
张炳一
吴谨
毛杜立
邹世昌
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
1
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18
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低压化学气相淀积低应力氮化硅工艺研究 |
王敬轩
商庆杰
杨志
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《电子与封装》
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2021 |
4
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19
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光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN |
周玉刚
李卫平
沈波
陈鹏
陈志忠
臧岚
张荣
顾书林
施毅
郑有翀
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《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
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2000 |
0 |
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20
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立式冷壁反应器中化学气相淀积TiN涂层 Ⅰ.淀积参数对反应速率和涂层质量的影响 |
丁平
盛明慧
丛德滋
韩杰
陈良恒
袁渭康
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1990 |
0 |
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