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高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积CrN薄膜研究
被引量：
13
1
作者
吴忠振
田修波
+2 位作者
王泽明
巩春志
杨士勤
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期459-464,共6页
采用高功率脉冲磁控放电等离子体离子注入与沉积的方法在不锈钢基体上制备了高膜基结合力的CrN硬质薄膜,并研究了不同的Ar/N流量比对薄膜形貌、结构及性能的影响。采用扫描电子显微镜、X射线衍射对其表面形貌和结构进行分析,发现制备的...
采用高功率脉冲磁控放电等离子体离子注入与沉积的方法在不锈钢基体上制备了高膜基结合力的CrN硬质薄膜,并研究了不同的Ar/N流量比对薄膜形貌、结构及性能的影响。采用扫描电子显微镜、X射线衍射对其表面形貌和结构进行分析,发现制备的薄膜表面光滑、致密,相结构单一,主要是CrN（200）相。对薄膜的结合力、硬度、弹性模量、耐磨性和耐腐蚀性的测试分析表明：薄膜与基体之间有很好的结合力,临界载荷最高可达68 N,同时硬度、弹性模量、耐磨性及耐腐蚀性都有很大提高,其中硬度最高达到23.6 GPa,是基体硬度的4.7倍,摩擦系数为0.5左右,且磨痕较窄、较浅,腐蚀电位最高提高0.32 V,腐蚀电流下降12个数量级。
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关键词
高功率脉冲磁控放电
等离子体离子注入与沉积
氮化铬
微观结构
表面性能
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职称材料
高压对高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积氧化钒薄膜的影响
2
作者
李春伟
巩春志
+4 位作者
吴忠振
刘天伟
秦建伟
田修波
杨士勤
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第14期1922-1926,共5页
利用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积技术制备了氧化钒薄膜,分别采用X射线衍射仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜和电化学分析仪研究了不同高压幅值对氧化钒薄膜的相结构、表面形貌、截面形貌以及耐腐蚀性能的影响。结果表明制备...
利用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积技术制备了氧化钒薄膜,分别采用X射线衍射仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜和电化学分析仪研究了不同高压幅值对氧化钒薄膜的相结构、表面形貌、截面形貌以及耐腐蚀性能的影响。结果表明制备的氧化钒薄膜以VO2(-211)相为主,还含有少量的VO2(111)、VO(220)、VO(222)相。不同高压下氧化钒薄膜表面致密、平整,其表面粗糙度仅为几个纳米,显示出良好的表面质量。氧化钒薄膜表现出典型致密的柱状晶生长形貌,且随着高压增加,氧化钒薄膜膜层厚度有所下降。氧化钒薄膜耐腐蚀性能较纯铝基体有较大提高,腐蚀电位提高0.093V,腐蚀电流下降1～2个数量级;当高压为-15kV时,氧化钒薄膜腐蚀电位最高,腐蚀电流最低,表现出最佳的耐蚀性能。
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关键词
高功率脉冲磁控放电
等离子体离子注入与沉积
氧化钒薄膜
高
压
耐腐蚀性
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职称材料
题名
高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积CrN薄膜研究
被引量：
13
1
作者
吴忠振
田修波
王泽明
巩春志
杨士勤
机构
哈尔滨工业大学现代焊接与连接国家重点实验实
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第4期459-464,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(10775036和50373007)
新世纪优秀人才计划资助项目
文摘
采用高功率脉冲磁控放电等离子体离子注入与沉积的方法在不锈钢基体上制备了高膜基结合力的CrN硬质薄膜,并研究了不同的Ar/N流量比对薄膜形貌、结构及性能的影响。采用扫描电子显微镜、X射线衍射对其表面形貌和结构进行分析,发现制备的薄膜表面光滑、致密,相结构单一,主要是CrN（200）相。对薄膜的结合力、硬度、弹性模量、耐磨性和耐腐蚀性的测试分析表明：薄膜与基体之间有很好的结合力,临界载荷最高可达68 N,同时硬度、弹性模量、耐磨性及耐腐蚀性都有很大提高,其中硬度最高达到23.6 GPa,是基体硬度的4.7倍,摩擦系数为0.5左右,且磨痕较窄、较浅,腐蚀电位最高提高0.32 V,腐蚀电流下降12个数量级。
关键词
高功率脉冲磁控放电
等离子体离子注入与沉积
氮化铬
微观结构
表面性能
Keywords
High power pulsed magnetron discharge； Plasma ion implantation and deposition； CrN； Micro-structure； Surface properties；
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
高压对高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积氧化钒薄膜的影响
2
作者
李春伟
巩春志
吴忠振
刘天伟
秦建伟
田修波
杨士勤
机构
哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室
东北林业大学森林持续经营与环境微生物工程黑龙江省重点实验室
中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第14期1922-1926,共5页
基金
表面物理与化学国家重点实验室开放基金资助项目(SPC201104)
文摘
利用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积技术制备了氧化钒薄膜,分别采用X射线衍射仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜和电化学分析仪研究了不同高压幅值对氧化钒薄膜的相结构、表面形貌、截面形貌以及耐腐蚀性能的影响。结果表明制备的氧化钒薄膜以VO2(-211)相为主,还含有少量的VO2(111)、VO(220)、VO(222)相。不同高压下氧化钒薄膜表面致密、平整,其表面粗糙度仅为几个纳米,显示出良好的表面质量。氧化钒薄膜表现出典型致密的柱状晶生长形貌,且随着高压增加,氧化钒薄膜膜层厚度有所下降。氧化钒薄膜耐腐蚀性能较纯铝基体有较大提高,腐蚀电位提高0.093V,腐蚀电流下降1～2个数量级;当高压为-15kV时,氧化钒薄膜腐蚀电位最高,腐蚀电流最低,表现出最佳的耐蚀性能。
关键词
高功率脉冲磁控放电
等离子体离子注入与沉积
氧化钒薄膜
高
压
耐腐蚀性
Keywords
high power pulsed magnetron discharge； plasma ion implantation and deposition； vanadium oxide films； high voltage； corrosion resistance
分类号
TG174 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积CrN薄膜研究
吴忠振
田修波
王泽明
巩春志
杨士勤
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
13
在线阅读
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职称材料
2
高压对高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积氧化钒薄膜的影响
李春伟
巩春志
吴忠振
刘天伟
秦建伟
田修波
杨士勤
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
0
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职称材料
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