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透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术研究AlN单晶生长习性 被引量:5
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作者 李娟 胡小波 +2 位作者 高玉强 王翎 徐现刚 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期1117-1120,共4页
采用透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术对氮化硼坩埚中自发成核的AlN单晶生长习性进行了研究。结果表明,在低温下,AlN单晶显露面为(0001)面,随着温度的升高,AlN单晶显露面转化为(112-0)面。沟槽结构是高温下得到的AlN单晶共有的显著... 采用透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术对氮化硼坩埚中自发成核的AlN单晶生长习性进行了研究。结果表明,在低温下,AlN单晶显露面为(0001)面,随着温度的升高,AlN单晶显露面转化为(112-0)面。沟槽结构是高温下得到的AlN单晶共有的显著特征,其取向沿[0001]方向。 展开更多
关键词 透射电子显微术 高分辨x射线衍射仪 AlN单晶
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