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原位X射线衍射光谱技术在高熵假板钛矿陶瓷晶体结构解析中的应用
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作者 马晓晖 刘家臣 +3 位作者 武劲宇 毛晶 胡小侠 郭安然 《光谱学与光谱分析》 北大核心 2025年第2期443-447,共5页
目前高熵陶瓷的研究主要集中在通过元素的改变或增加获得高性能陶瓷上,忽视了由于成分的复杂性而造成的高熵陶瓷晶体结构的变化及其对性能的影响。本研究基于原位XRD技术,系统研究了高熵(Mg,Co,Ni,Zn)Ti_(2)O_(5)形成过程、高熵化后晶... 目前高熵陶瓷的研究主要集中在通过元素的改变或增加获得高性能陶瓷上,忽视了由于成分的复杂性而造成的高熵陶瓷晶体结构的变化及其对性能的影响。本研究基于原位XRD技术,系统研究了高熵(Mg,Co,Ni,Zn)Ti_(2)O_(5)形成过程、高熵化后晶体结构及热膨胀系数的变化。研究发现,随温度上升,反应物首先生成高熵中间相,最终在1400℃生成高熵(Mg,Co,Ni,Zn)Ti_(2)O_(5)陶瓷。与其单相相比,高熵(Mg,Co,Ni,Zn)Ti_(2)O_(5)晶格常数及热膨胀各向异性均发生变化。以上研究表明原位XRD技术可用于阐明高熵假板钛矿陶瓷形成过程中晶体结构演化及性能变化过程,并在高熵陶瓷晶体结构解析方面具有很大的应用前景。 展开更多
关键词 原位x射线衍射 熵陶瓷 晶体结构 热膨胀系数
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用高分辨X射线衍射面扫描评估4H-SiC晶片结晶质量 被引量:3
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作者 杨丹丹 王健 +4 位作者 孙科伟 张胜男 金雷 程红娟 郝建民 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第6期477-482,共6页
介绍了高分辨X射线衍射(HRXRD)面扫描技术在评估4H-SiC抛光片整体结晶质量方面的应用。对4H-SiC抛光片整片及局部特定位置进行HRXRD摇摆曲线面扫描,并拟合摇摆曲线半高宽(FWHM)峰值得到的极图,观察4H-SiC抛光片表面的FWHM分布范围、分... 介绍了高分辨X射线衍射(HRXRD)面扫描技术在评估4H-SiC抛光片整体结晶质量方面的应用。对4H-SiC抛光片整片及局部特定位置进行HRXRD摇摆曲线面扫描,并拟合摇摆曲线半高宽(FWHM)峰值得到的极图,观察4H-SiC抛光片表面的FWHM分布范围、分布特点和多峰聚集区。结合表面缺陷测试仪和偏振光显微镜测试方法,对因螺旋生长产生的晶界分布聚集区以及边缘高应力晶界聚集区进行了表征。二者测试结果与HRXRD摇摆曲线面扫描的结果一致。对多片样品在不同区域使用不同测试方法得到的结果均验证了HRXRD摇摆曲线面扫描可以宏观识别晶畴界面聚集区,清楚辨别出位于晶片中心附近由于螺旋生长面交界形成的晶畴界面,以及位于晶片边缘、受生长热场影响晶粒畸变产生的高应力晶畴界面。 展开更多
关键词 4H-SiC单晶 分辨x射线衍射(hrxrd) 面扫描 摇摆曲线半宽(FWHM) 晶界
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透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术研究AlN单晶生长习性 被引量:5
3
作者 李娟 胡小波 +2 位作者 高玉强 王翎 徐现刚 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期1117-1120,共4页
采用透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术对氮化硼坩埚中自发成核的AlN单晶生长习性进行了研究。结果表明,在低温下,AlN单晶显露面为(0001)面,随着温度的升高,AlN单晶显露面转化为(112-0)面。沟槽结构是高温下得到的AlN单晶共有的显著... 采用透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术对氮化硼坩埚中自发成核的AlN单晶生长习性进行了研究。结果表明,在低温下,AlN单晶显露面为(0001)面,随着温度的升高,AlN单晶显露面转化为(112-0)面。沟槽结构是高温下得到的AlN单晶共有的显著特征,其取向沿[0001]方向。 展开更多
关键词 透射电子显微术 分辨x射线衍射 AlN单晶
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高分辨X射线衍射法研究碳化硅单晶片中的多型结构 被引量:2
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作者 董捷 胡小波 +3 位作者 徐现刚 王继扬 韩荣江 李现祥 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期918-921,共4页
我们采用高分辨X射线衍射法对SiC单晶片中的多型结构进行了研究 ,研究发现在以 4H SiC为籽晶的晶体生长过程中 ,4H SiC、6H SiC、1 5R SiC出现两相共存或三相共存现象。在单相、两相或三相共存区 ,X射线摇摆曲线具有明显不同的特征。根... 我们采用高分辨X射线衍射法对SiC单晶片中的多型结构进行了研究 ,研究发现在以 4H SiC为籽晶的晶体生长过程中 ,4H SiC、6H SiC、1 5R SiC出现两相共存或三相共存现象。在单相、两相或三相共存区 ,X射线摇摆曲线具有明显不同的特征。根据多型结构 。 展开更多
关键词 晶片 4H-SiC 硅单晶 分辨x射线衍射 SIC单晶 6H-SIC 共存 摇摆曲线 晶体生长 三相
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高分辨X射线衍射术对NdP_5O_(14)晶体的自发应变及铁弹畴结构的研究 被引量:1
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作者 高磊 董春明 +1 位作者 胡小波 王继场 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期41-44,共4页
利用助溶剂法 ,已经生长出 15mm× 2 5mm× 6 0mm的大尺寸NdP5O14 (NPP)晶体。用高分辨X射线衍射术对自发应变及铁弹畴结构进行了研究。对几个不同的反射 ,可在其摇摆曲线上观测到由基体畴和铁弹畴之间的取向差导致的反射峰的... 利用助溶剂法 ,已经生长出 15mm× 2 5mm× 6 0mm的大尺寸NdP5O14 (NPP)晶体。用高分辨X射线衍射术对自发应变及铁弹畴结构进行了研究。对几个不同的反射 ,可在其摇摆曲线上观测到由基体畴和铁弹畴之间的取向差导致的反射峰的分离。通过反射峰分离的特点 ,可以确定铁弹畴结构。NPP晶体中大多数铁弹畴为a型畴 ,b型畴只出现在严重形变的区域。基于NdP5O14 晶体畴结构 ,我们分别计算了 80 2 ,40 2和 2 0 4反射的峰分离量。实验测量结果符合计算结果。另外 ,通过测量基体畴和铁弹畴的 80 0反射的峰分离量我们确定了NdP5O14 的自发应变是 0 .0 0 82。通过结构和对称性分析 ,我们对这种晶体的畴结构进行了详细讨论。 展开更多
关键词 铁弹畴 分辨x射线衍射 五磷酸钕 自发应变 摇摆曲线 结构 晶体生长
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高分辨X射线衍射元件的研制 被引量:1
6
作者 熊瑛 刘刚 田扬超 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期168-171,共4页
X射线波带片是纳米X射线成像系统的核心元件之一,为了研制高分辨率X射线波带片,对纳米结构的电子束光刻和高精度电镀进行了实验研究。首先,通过对电子束曝光工艺版图进行优化设计,平衡了邻近效应对纳米结构的影响,有效地控制了光刻胶的... X射线波带片是纳米X射线成像系统的核心元件之一,为了研制高分辨率X射线波带片,对纳米结构的电子束光刻和高精度电镀进行了实验研究。首先,通过对电子束曝光工艺版图进行优化设计,平衡了邻近效应对纳米结构的影响,有效地控制了光刻胶的扭曲和坍塌。实验结果表明,采用校正的工艺版图,用线曝光方式在800 pC/cm2剂量下可以研制出厚度为270 nm、最外环宽度为50 nm的高分辨率X射线波带片光刻胶结构。然后,在配制的柠檬酸金钾电镀液中,优化了电镀工艺参数。采用金含量为10%的柠檬酸金钾电镀液,各电镀参数pH值为4.2,电镀温度为50℃,电流密度为0.2 A/dm2电镀出高分辨率X射线波带片。 展开更多
关键词 分辨 x射线衍射元件 波带片
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SrTiO3薄膜材料的高分辨率X射线衍射分析研究
7
作者 姬洪 左长明 +2 位作者 何士明 熊杰 李言荣 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3311-3313,共3页
本文应用高分辨X射线衍射(HRXRD+TAXRD)技术对外延生长的SrTiO3膜进行了分析,获得了有关该薄膜的晶体取向、衬底的结构特性以及弛豫态的点阵常数等信息,对今后改进SrTiO3系列样品生长工艺有重要的意义.
关键词 分辨x射线衍射 外延生长 弛豫态的点阵常数
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六角相GaN外延膜的高分辨X射线衍射分析研究
8
作者 姬洪 周勋 +1 位作者 邹泽亚 左长明 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A10期3977-3980,共4页
通过实例介绍运用高分辨X射线衍射分析技术对GaN异质外延薄膜材料的微结构进行研究,希望能获得不同缓冲层生长与优化工艺以及结构模型对其结构特性参数影响方面的信息,为GaN材料和器件制备者提供有用的参考。
关键词 分辨x射线衍射:异质外延 GAN材料
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高分辨X射线衍射仪X'pert MRD
9
作者 王超群 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期1314-1314,共1页
关键词 分辨 x射线衍射 x'PertMRD
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高分辨X射线衍射表征氮化镓外延层缺陷密度 被引量:4
10
作者 崔潆心 徐明升 +1 位作者 徐现刚 胡小波 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期1094-1098,共5页
利用高分辨X射线衍射方法,分析了在4H-Si C(0001)面上采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)生长的Ga N薄膜的位错。采用对称面衍射和斜对称面衍射等方法研究了晶面倾转角、面内扭转角、晶粒尺寸和晶面弯曲半径等参数,通过排除仪器、晶粒... 利用高分辨X射线衍射方法,分析了在4H-Si C(0001)面上采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)生长的Ga N薄膜的位错。采用对称面衍射和斜对称面衍射等方法研究了晶面倾转角、面内扭转角、晶粒尺寸和晶面弯曲半径等参数,通过排除仪器、晶粒尺寸及晶面弯曲对摇摆曲线半高宽的影响,从而获得Ga N薄膜的螺位错密度和刃位错密度分别为4.62×107 cm-2和5.20×109 cm-2,总位错密度为5.25×109 cm-2。 展开更多
关键词 氮化镓薄膜 分辨x射线衍射 位错密度
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SiC衬底上生长的GaN外延层的高分辨X射线衍射分析 被引量:3
11
作者 于国建 徐明升 +1 位作者 胡小波 徐现刚 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期1017-1022,共6页
通过高分辨X射线衍射(HRXRD)技术,对金属有机化合物气相外延(MOCVD)生长的GaN外延膜及SiC衬底的相对取向,晶格常数和应力情况,位错密度等进行了分析。分析表明,GaN和SiC具有一致的a轴取向,GaN外延层弛豫度超过90%,GaN外延层的晶格常数... 通过高分辨X射线衍射(HRXRD)技术,对金属有机化合物气相外延(MOCVD)生长的GaN外延膜及SiC衬底的相对取向,晶格常数和应力情况,位错密度等进行了分析。分析表明,GaN和SiC具有一致的a轴取向,GaN外延层弛豫度超过90%,GaN外延层的晶格常数与体块材料相近,在GaN中存在压应力,SiC衬底和GaN外延层中的位错密度分别为107和108量级。 展开更多
关键词 分辨x射线衍射 SIC衬底 GAN外延层
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X射线衍射法研究不同类型淀粉高静压处理后晶体结构的变化 被引量:17
12
作者 刘培玲 沈群 +1 位作者 胡小松 吴继红 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期2579-2582,共4页
对300,450和600MPa不同高静压力下导致的淀粉结晶结构变化进行研究。选择不同类型、不同链/支比的三种淀粉为研究对象,进行高静压处理,利用X射线衍射法分析高静压对不同类型,不同链/支比淀粉晶体结构的影响。结果表明:由于X射线衍射峰... 对300,450和600MPa不同高静压力下导致的淀粉结晶结构变化进行研究。选择不同类型、不同链/支比的三种淀粉为研究对象,进行高静压处理,利用X射线衍射法分析高静压对不同类型,不同链/支比淀粉晶体结构的影响。结果表明:由于X射线衍射峰加强及相对结晶度增大,糯玉米淀粉在300 MPa表现为韧化作用,在450MPa结晶结构完全解体,600MPa时发生重结晶;HylonⅦ淀粉在600MPa以下的高静压处理只表现出韧化效果,结晶度增加但不明显;木薯淀粉在300MPa具有韧化作用,600MPa结晶结构完全消失,表现为韧化-颗粒结晶解体两个过程。因此,本文提出淀粉颗粒在高静压处理过程中经历压缩韧化-晶体结构解体-重结晶三个发展阶段。 展开更多
关键词 静压 淀粉 x射线衍射 结晶结构
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时间分辨的X射线衍射 被引量:1
13
作者 高鸿奕 陈建文 +3 位作者 李儒新 谢红兰 朱化凤 徐至展 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2004年第4期436-457,共22页
 详细论述了时间分辨X射线衍射探测原子动态过程和生物大分子瞬态结构的各种方法。介绍了多种超快X射线脉冲光源及其在材料和生化领域中的研究进展状况。材料方面:在皮秒时间尺度探测到了晶格间距毫埃的微小变化;在亚皮秒的时间尺度直...  详细论述了时间分辨X射线衍射探测原子动态过程和生物大分子瞬态结构的各种方法。介绍了多种超快X射线脉冲光源及其在材料和生化领域中的研究进展状况。材料方面:在皮秒时间尺度探测到了晶格间距毫埃的微小变化;在亚皮秒的时间尺度直接观测到晶体的超快熔化过程和晶体内的相干声子散射;生物化学方面:采用时间分辨X射线劳厄衍射方法探测了蛋白质大分子结构的变化和功能之间的关系;精确描述了有机分子在光作用下形态发生改变时分子键角的扭转角度,从结构上揭示了其动态机理。 展开更多
关键词 时间分辨 键角 劳厄 x射线衍射 原子 脉冲光 声子散射 体内 改变 研究进展
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人水通道蛋白5的高分辨X线衍射结构被发现
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作者 雷驰 丛馨 张艳 《生理科学进展》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期68-68,共1页
关键词 水通道蛋白 晶体结构 x线衍射 分辨 跨膜转运 哺乳动物 AQP1 十二指肠
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基于硅漂移探测器的X射线粉末衍射仪探测记录系统的研究 被引量:1
15
作者 徐晓明 苗伟 陶琨 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期578-581,共4页
研究了提高X射线衍射强度的方法,将硅漂移探测器(SDD)集成在X射线粉末衍射仪的探测记录系统中,发展出一种新的X射线粉末衍射线的高效探测与记录系统,它包括SDD探测器、单道脉冲分析器和计数电路等部分。测试结果表明,探测记录系统能量... 研究了提高X射线衍射强度的方法,将硅漂移探测器(SDD)集成在X射线粉末衍射仪的探测记录系统中,发展出一种新的X射线粉末衍射线的高效探测与记录系统,它包括SDD探测器、单道脉冲分析器和计数电路等部分。测试结果表明,探测记录系统能量分辨率高,可以省去石墨单色器,与常规配备石墨单色器+闪烁/正比探测器的衍射仪相比,衍射强度可提高三到四倍。同时,此探测记录系统可排除样品中荧光元素的干扰,且可用于阵列探测器"阵列"效应失效的测试(如极图、In-Plane分析等)。新系统可提升薄膜材料和凝聚态微纳结构分析的水平。 展开更多
关键词 x射线粉末衍射 探测和记录系统 衍射强度 能量分辨
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高精度X射线柱面弯晶检测方法
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作者 韦敏习 尚万里 +3 位作者 侯立飞 孙奥 车兴森 杨国洪 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2022年第10期168-172,共5页
以实验室中的X射线管作为光源,配合CMOS探测器涂层闪烁体纤维面板实时在线记录设备,建立了柱面弯晶检测平台。通过高精度的同轴转台设计,将整个柱面弯晶曲面转换为多个线段区间来分别进行检测,并对光路排布以及谱线的位置移动进行了解... 以实验室中的X射线管作为光源,配合CMOS探测器涂层闪烁体纤维面板实时在线记录设备,建立了柱面弯晶检测平台。通过高精度的同轴转台设计,将整个柱面弯晶曲面转换为多个线段区间来分别进行检测,并对光路排布以及谱线的位置移动进行了解析计算。选用铁靶材X射线管(特征谱线波长为0.1936 nm)作为实验光源,曲率半径120 mm的石英柱面弯晶作为样品,实验获得了清晰的铁特征谱线(Fe-K_(α)和Fe-K_(β))。通过分析柱面弯晶上9个采样位置的图像,发现Fe-K_(α)谱线位置移动了96μm,对应的半径偏差为40μm,为0.033%。经过检测的石英柱面弯晶已经在大型激光装置上应用,并获得高质量的光谱图像,证明了该实验方法对柱面弯晶品质检测的有效性。 展开更多
关键词 x射线衍射 柱面弯晶 精度 特征谱线 CMOS探测器
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应用X射线衍射-红外光谱等技术研究滑石在机械力研磨中的形貌和晶体结构变化及影响机制 被引量:3
17
作者 任叶叶 张俭 +3 位作者 严俊 林剑 陈思杭 盛嘉伟 《岩矿测试》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期181-186,共6页
滑石的颗粒粒径、形貌、晶型等对其应用的实效性、终端产品的性能产生极大影响,目前主要研究其表面改性,而有关微观形貌及晶体结构研究较少。本文利用X射线荧光光谱、X射线衍射分析、红外光谱、粒度分析仪结合高分辨场发射扫描电镜(FE-S... 滑石的颗粒粒径、形貌、晶型等对其应用的实效性、终端产品的性能产生极大影响,目前主要研究其表面改性,而有关微观形貌及晶体结构研究较少。本文利用X射线荧光光谱、X射线衍射分析、红外光谱、粒度分析仪结合高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)技术对辽宁滑石粉在高强度机械力研磨作用下的微形貌和晶体结构变化特征进行系统研究。结果表明滑石粉原矿混合物中MgO与SiO2的分子个数比约为0.45,该数值明显低于纯滑石粉晶体中MgO与SiO2的分子个数比0.75。此类滑石为典型的单斜晶系,研磨作用使滑石粉由晶态转变为非晶态结构,其层状结构的有序化和键合作用发生了明显的变化。滑石粒度随研磨时间变化呈现减小-增大-减小的循环过程。研磨后粉体形貌存在差异,细化的小颗粒粉体因团聚而呈"准球体",且随着研磨的进行出现细化-团聚-细化的反复过程。此结论对于滑石的深加工与应用及其相关矿物粉体的研究具有一定的参考价值。 展开更多
关键词 滑石粉 研磨 团聚 准球体 x射线衍射 红外光谱法 粒度分析仪 分辨场发射扫描电镜
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沟槽型X射线两次衍射单色器研究 被引量:2
18
作者 何健 徐中民 +3 位作者 宋丽 杨铁莹 王纳秀 王劼 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期2085-2091,共7页
为获得高能量分辨率、高准直的同步辐射光,应用X射线衍射动力学原理,并依据上海光源小角散射线站光学参数,设计并加工了两次衍射的单晶硅(111)面沟槽型单色器。测量了两反射面平行度、斜切角及摇摆曲线,并对摇摆曲线的测量值进行了误差... 为获得高能量分辨率、高准直的同步辐射光,应用X射线衍射动力学原理,并依据上海光源小角散射线站光学参数,设计并加工了两次衍射的单晶硅(111)面沟槽型单色器。测量了两反射面平行度、斜切角及摇摆曲线,并对摇摆曲线的测量值进行了误差分析。理论模拟与实验数据对比分析显示:有效减小晶体加工过程中的残余应力导致的晶格畸变、改善晶体形貌、调整斜切角与增加衍射级次可降低晶体的衍射角宽,进而提高出射光的准直性和能量分辨率。经计算,在同步辐射光能量为10keV条件下,单晶硅(111)面沟槽型单色器的本征能量分辨率为1.452×10^(-4)。 展开更多
关键词 x射线光学 分辨 两次衍射 沟槽型单色器 摇摆曲线
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高电压小光斑X射线光管的设计与研制 被引量:1
19
作者 阳恩会 郭宗艳 +2 位作者 曹昌伟 唐志宏 肖永顺 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期301-305,共5页
X射线智能安全检查系统等应用场合,X射线光管的管电压和光斑大小直接影响系统的穿透度与分辨力,管电压越高,穿透力越强,光斑越小,分辨力越高,因此在国家重点研发计划的支持下,设计制造了一种管电压为200 kV、光斑大小为0.4 mm×0.4... X射线智能安全检查系统等应用场合,X射线光管的管电压和光斑大小直接影响系统的穿透度与分辨力,管电压越高,穿透力越强,光斑越小,分辨力越高,因此在国家重点研发计划的支持下,设计制造了一种管电压为200 kV、光斑大小为0.4 mm×0.4 mm的高电压小光斑X射线光管。利用Lorentz电子光学设计软件与热模拟软件对此X射线光管的聚焦系统结构、高压结构和散热进行设计与模拟。研制的X射线光管测试表明,所设计的X射线光管光斑大小可以达到0.4 mm×0.4 mm要求,在实际工况条件下能稳定可靠工作,平均故障间隔时间大于15000 h。将研制的X射线光管应用于X射线智能检查系统,发现其分辨力和穿透力都优于对照组。 展开更多
关键词 电压 小光斑 x射线 穿透力 分辨
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X射线衍射光学部件的制备及其光学性能表征 被引量:10
20
作者 陈宜方 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期2779-2795,共17页
综述了国内外在纳米加工X射线衍射光学透镜方面的研究现状和最新进展。介绍了作者团队过去三年在这方面做的工作。针对衍射透镜关键技术,研发了具有大高宽比形貌的电子束光刻基础工艺;结合金电镀,提出了纳米尺度波带片的制造技术,并将... 综述了国内外在纳米加工X射线衍射光学透镜方面的研究现状和最新进展。介绍了作者团队过去三年在这方面做的工作。针对衍射透镜关键技术,研发了具有大高宽比形貌的电子束光刻基础工艺;结合金电镀,提出了纳米尺度波带片的制造技术,并将该工艺成功扩展于分辨率板(Siemens star)和集成光栅型会聚透镜的研制。运用蒙特卡罗模拟和显影动力学,探索了电子束光刻技术所能够实现的最大高宽比以及造成这种限制的物理根源;成功研制了50~100nm的波带片透镜(其中,100nm波带片高宽比为16∶1)、50~300nm的分辨率测试板(其中,300nm测试板高宽比为10∶1)和200nm的会聚透镜(高宽比为10∶1)。对所研制的光学部件在同步辐射光源进行了实验表征。结果表明,100nm波带片聚焦斑尺寸为234nm,测试板和会聚透镜的光学特性与国外同样光学部件到达同等水平;会聚透镜辐照的均匀性为99%。最后,总结了近几年我国X射线衍射透镜的发展进度,指出了衍射光学部件光学性能发展的最大瓶颈是分辨率与衍射效率相互制约,提出了提高光学部件衍射效率的具体途径,给出了我国X射线衍射透镜技术的未来发展路线图。 展开更多
关键词 x射线衍射光学部件 波带片 电子束光刻 纳米加工 会聚透镜 分辨率板 同步辐射光源
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