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基于矩阵运算的光学零件磁流变加工的驻留时间算法
被引量：
9
1
作者
石峰
戴一帆
+1 位作者
彭小强
宋辞
《国防科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期103-106,共4页
提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法。该算法以矩阵运算为基础,首先确定工件上各个控制节点的高度余量,并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中,然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。采用该算...
提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法。该算法以矩阵运算为基础,首先确定工件上各个控制节点的高度余量,并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中,然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。采用该算法在自行研制的磁流变抛光机床上进行抛光实验,经过2次迭代加工后,有效口径为145mm的球面镜P-V值达到40.5nm(约为λ/15),RMS值达到5nm(约为λ/125),表面粗糙度Ra值达到0.57nm。
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关键词
磁流变抛光
计算机控制光学表面成型(CCOS)
驻留时间算法
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职称材料
题名
基于矩阵运算的光学零件磁流变加工的驻留时间算法
被引量：
9
1
作者
石峰
戴一帆
彭小强
宋辞
机构
国防科技大学机电工程与自动化学院
出处
《国防科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期103-106,共4页
基金
国家部委基金资助项目(9140A18070108KG0147)
新世纪优秀人才支持计划项目(NCET)
文摘
提出了一种光学零件磁流变加工的驻留时间计算方法。该算法以矩阵运算为基础,首先确定工件上各个控制节点的高度余量,并将磁流变抛光模对各控制节点的材料去除能力体现到去除矩阵中,然后利用非负最小二乘法求解驻留时间向量。采用该算法在自行研制的磁流变抛光机床上进行抛光实验,经过2次迭代加工后,有效口径为145mm的球面镜P-V值达到40.5nm(约为λ/15),RMS值达到5nm(约为λ/125),表面粗糙度Ra值达到0.57nm。
关键词
磁流变抛光
计算机控制光学表面成型(CCOS)
驻留时间算法
Keywords
Magnetorheological Finishing（MRF）
Computer Controlled Optical Surfacing（CCOS）
dwell time algorithm
分类号
TH161 [机械工程—机械制造及自动化]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于矩阵运算的光学零件磁流变加工的驻留时间算法
石峰
戴一帆
彭小强
宋辞
《国防科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
9
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