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用于平板摄像的CdSe靶面淀积参数对摄像特性的影响
1
作者
吕永积
刘光诒
+1 位作者
邵佑军
施化芬
《科学技术与工程》
2002年第1期59-60,共2页
为了开发用于真空微电子平板摄像管 Vacuum Microelectronics FlatPanel Camera Tube(VME FPC)的高灵敏度 CdSe 多层光导靶面,改建了一台精确控制 CdSe 材料的蒸发速率、厚度和基体温度的高真空热蒸镀设备,开发了由真空热预处理,非真空...
为了开发用于真空微电子平板摄像管 Vacuum Microelectronics FlatPanel Camera Tube(VME FPC)的高灵敏度 CdSe 多层光导靶面,改建了一台精确控制 CdSe 材料的蒸发速率、厚度和基体温度的高真空热蒸镀设备,开发了由真空热预处理,非真空热后处理组成的系列新处理工艺,制造出了新的高性能的 CdSe多层光导靶。
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关键词
真空
热
预
处理
VHPT
非真空热后处理nhat
平板摄像管
摄像特性
淀积参数
CdSe多层光导靶面
热
处理
工艺
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职称材料
题名
用于平板摄像的CdSe靶面淀积参数对摄像特性的影响
1
作者
吕永积
刘光诒
邵佑军
施化芬
机构
广电总局广科光电研究所
中国科学院电子学研究所
出处
《科学技术与工程》
2002年第1期59-60,共2页
基金
国家自然科学基金(69971011)资助
文摘
为了开发用于真空微电子平板摄像管 Vacuum Microelectronics FlatPanel Camera Tube(VME FPC)的高灵敏度 CdSe 多层光导靶面,改建了一台精确控制 CdSe 材料的蒸发速率、厚度和基体温度的高真空热蒸镀设备,开发了由真空热预处理,非真空热后处理组成的系列新处理工艺,制造出了新的高性能的 CdSe多层光导靶。
关键词
真空
热
预
处理
VHPT
非真空热后处理nhat
平板摄像管
摄像特性
淀积参数
CdSe多层光导靶面
热
处理
工艺
Keywords
vacuum microelectronics
flat panel camera tube
vacuum heat pre treatment
non vacuum heat after
treatment
分类号
TN142 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于平板摄像的CdSe靶面淀积参数对摄像特性的影响
吕永积
刘光诒
邵佑军
施化芬
《科学技术与工程》
2002
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