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非晶金刚石薄膜的拉曼光谱研究 被引量:10
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作者 陈弟虎 魏爱香 +4 位作者 周友国 范家海 杨增红 彭少麒 魏爱香 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期179-182,共4页
碳离子的能量是影响非晶金刚石薄膜结构和性质最关键的工艺参数.采用磁过滤真空溅射离子技术,研究不同衬底偏压Vb(即不同碳离子能量)下制备的非晶金刚石薄膜的拉曼光谱和表面形貌.结果表明:-50V≤Vb≤-10V时,样品表... 碳离子的能量是影响非晶金刚石薄膜结构和性质最关键的工艺参数.采用磁过滤真空溅射离子技术,研究不同衬底偏压Vb(即不同碳离子能量)下制备的非晶金刚石薄膜的拉曼光谱和表面形貌.结果表明:-50V≤Vb≤-10V时,样品表面均匀、光滑,拉曼谱是对称且很宽的散射带;Vb>-10V或Vb<-50V时,已有晶团出现,表面粗糙度明显增加,拉曼谱明显地分裂为1580cm-1的G带和1350cm-1的D带. 展开更多
关键词 非晶金刚石薄膜 拉曼光谱 表面形貌 半导体薄膜
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非晶金刚石薄膜的sp^3键成分的XPS谱研究 被引量:4
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作者 魏爱香 陈弟虎 周有国 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期179-182,共4页
把非晶金刚石薄膜的XPSC1s谱分解为中心在 2 84 .4± 0 .1eV和 2 85 .2± 0 .1eV的两个高斯特征峰 ,分别对应于碳薄膜中的sp2 C和sp3 C。用这两个高斯特征峰的面积除以C1s谱的总面积 ,得出非晶金刚石薄膜中sp2 C和sp3 C的比例... 把非晶金刚石薄膜的XPSC1s谱分解为中心在 2 84 .4± 0 .1eV和 2 85 .2± 0 .1eV的两个高斯特征峰 ,分别对应于碳薄膜中的sp2 C和sp3 C。用这两个高斯特征峰的面积除以C1s谱的总面积 ,得出非晶金刚石薄膜中sp2 C和sp3 C的比例。用上述方法对sp3 C比例不同的一组样品进行了分析计算 ,并与先前用紫外 -可见光吸收光谱和拉曼光谱对同一组样品分析得出的结果进行了比较 ,结果表明 :用XPS谱能简便而有效地定量确定非晶金刚石薄膜中sp2 C和sp3 C的比例 ,且这种方法适用于所有功能碳薄膜。 展开更多
关键词 非晶金刚石薄膜 sp^3键 成分 XPS谱 X射线光电子能谱
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非晶硅太阳电池窗口层材料掺硼非晶金刚石的研究 被引量:4
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作者 朱嘉琦 卢佳 +2 位作者 田桂 檀满林 耿达 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期1064-1066,共3页
以固态掺杂方式利用过滤阴极真空电弧技术制备掺硼非晶金刚石薄膜,获得性能优良的宽带隙p型半导体材料,再利用等离子增强化学气相沉积技术制备p-i-n结构非晶硅太阳电池的本征层和n型层,最终制成以掺硼非晶金刚石薄膜为窗口层的非晶硅太... 以固态掺杂方式利用过滤阴极真空电弧技术制备掺硼非晶金刚石薄膜,获得性能优良的宽带隙p型半导体材料,再利用等离子增强化学气相沉积技术制备p-i-n结构非晶硅太阳电池的本征层和n型层,最终制成以掺硼非晶金刚石薄膜为窗口层的非晶硅太阳电池.利用Lambda950紫外-可见光分光光度计表征薄膜的光学带隙,并测试电池开路电压、短路电流、填充因子以及转化效率等参数,再分析电池的光谱响应特性.实验表明,掺硼非晶金刚石薄膜的光学带隙(~2.0eV)比p型非晶硅更宽,以掺硼非晶金刚石薄膜用作非晶硅太阳电池的窗口层,能够改善电池的光谱响应特征,并提高转化效率达10%以上. 展开更多
关键词 非晶金刚石薄膜 非晶硅太阳电池 P型掺杂 转化效率
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SP^2键含量对非晶金刚石膜电子场发射性能的影响 被引量:2
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作者 周江云 李琼 +2 位作者 徐静芳 茅东升 柳襄怀 《华东师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2000年第2期45-48,共4页
该文研究了真空磁过滤弧沉积方法制备的非晶金石薄膜 (a-DF)的电子场发射性能 ,SP2 键含量不同的薄膜的场发射性能有很大的差异 ,SP2 键含量越高 ,阈值电场越小 ,发射电流越大 ,同时失效率也较高。SP2 键含量为 6 .5% ,2 0 % ,40 %的薄... 该文研究了真空磁过滤弧沉积方法制备的非晶金石薄膜 (a-DF)的电子场发射性能 ,SP2 键含量不同的薄膜的场发射性能有很大的差异 ,SP2 键含量越高 ,阈值电场越小 ,发射电流越大 ,同时失效率也较高。SP2 键含量为 6 .5% ,2 0 % ,40 %的薄膜 ,其阈值电场分别为2 .7V/ μm,1 .5V/ μm ,0 .7V/ μm ,远小于金属和硅尖锥的阈值电场。所有样品的发射点均为随机的点状分布。 展开更多
关键词 非晶金刚石薄膜 SP^2键 场发射 FAD
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采用磁过滤MEVVA源制备DLC膜的研究 被引量:4
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作者 张旭 张通和 +2 位作者 易仲珍 张荟星 王广甫 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期478-481,共4页
采用磁过滤MEVVA沉积技术以石墨为阴极在几种衬底表面 (单晶硅、不锈钢和工具钢等 )上制备高质量类金刚石 (DLC)薄膜。实验结果表明 ,沉积能量对薄膜的sp3键含量的影响为先随能量的增加而增加 ,达到最大值后 ,再增加沉积能量含量反而下... 采用磁过滤MEVVA沉积技术以石墨为阴极在几种衬底表面 (单晶硅、不锈钢和工具钢等 )上制备高质量类金刚石 (DLC)薄膜。实验结果表明 ,沉积能量对薄膜的sp3键含量的影响为先随能量的增加而增加 ,达到最大值后 ,再增加沉积能量含量反而下降。硬度测试结果表明 ,非晶金刚石薄膜具有极高的硬度 ,为 70~ 78GPa ,远远高于衬底材料的硬度值 .对非晶金刚石薄膜的摩擦性能试验结果表明 ,非晶金刚石薄膜的摩擦因数为 0 .16~ 0 .2 ,大大低于衬底材料 . 展开更多
关键词 磁过滤 MEVVA源 制备 DLC膜 金刚石 金属蒸汽真空弧沉积 非晶金刚石薄膜 耐磨损性能
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