非晶碳氢膜晶化分形体密度簇模拟

1

作者 刘志远 刘启海 +3 位作者 何大韧 杨功能 刘建军 张亚东 《西北大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 1993年第1期19-21,共3页

在非晶碳氢膜非平衡凝聚分形计算机模拟的系列工作基础上,模拟了密度簇,这有益于对非晶碳氢膜晶化机制的进一步研究和开发利用。

关键词 分形 密度簇 非晶碳氢膜 晶化

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RF-PECVD掺溴非晶碳氢膜的Raman光谱分析

2

作者 冯建鸿 卢铁城 +1 位作者 吴卫东 贾鹏 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期3309-3311,共3页

在室温条件下,以溴乙烷为单体、氢气为载气,用13.56MHz射频等离子体化学气相淀积方法(RF-PECVD)在硅片衬底上生长了掺溴非晶碳氢薄膜(a-C∶Br∶H)。通过对其进行Raman光谱分析,研究了工作气压对薄膜结构的影响。结果显示:随着气体工作... 在室温条件下,以溴乙烷为单体、氢气为载气,用13.56MHz射频等离子体化学气相淀积方法(RF-PECVD)在硅片衬底上生长了掺溴非晶碳氢薄膜(a-C∶Br∶H)。通过对其进行Raman光谱分析,研究了工作气压对薄膜结构的影响。结果显示:随着气体工作压力从20Pa下降至5Pa,样品D峰强度增强,ID/IG值逐步由1.18增加至1.36,G峰的位置向高频轻微移动;与此同时,薄膜生长方式逐步转为低能态形式生长,薄膜中sp2C逐步由链式结构向环式结构转化。 展开更多

关键词 拉曼光谱 射频等离子体化学气相淀积方法 掺溴非晶碳氢薄膜 SP2

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非晶碳氢膜晶化凝聚的六角阵模拟

3

作者 刘志远 何大韧 +3 位作者 刘启海 杨功能 刘晓伟 亢翔虹 《西北大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 1992年第3期285-286,291,共3页

利用计算机随机函数模拟非晶碳氢膜非平衡晶化凝聚,获得六角阵情况下的链环状晶化凝聚分形,而且分维值与正方阵情况下的相同。复合膜a-C:H/KCl中的分维值为1.81±0.03,a-C:H/a-Se中的为1.37±0.02。

关键词 晶化凝聚 六角阵 非晶碳氢膜

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非晶碳氢膜的介电谱与分形结构

4

作者 姚合宝 贺庆丽 于明湘 《西北大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期295-296,共2页

利用 RF- DC辉光放电等离子化学气相沉积法制备了非晶碳氢膜 ,并测试了其介电谱 ,用分形理论研究了这种无序结构材料的介电谱与物质结构的关系。结果表明 ,低频反常色散介电谱确实可以传达物质结构的信息。

关键词 无序结构 介电谱 分形结构 非晶碳氢膜

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非晶碳氢／非晶硒复印感光体的耐磨及抗擦伤性能研究

5

作者 张人佶 游锴 +2 位作者 王望弟 籍修炎 何大韧 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第1期41-46,共6页

为了考察非晶碳氢／非晶硒（ａ－Ｃ∶Ｈ／ａ－Ｓｅ）复印感光体的耐磨和抗擦伤性能，用线接触往复滑动摩擦试验，模拟感光体承受的机械摩擦状况，对（ａ－Ｃ∶Ｈ／ａ－Ｓｅ）／４５＃钢和ａ－Ｓｅ／４５＃钢试样进行了对比试验研究．结... 为了考察非晶碳氢／非晶硒（ａ－Ｃ∶Ｈ／ａ－Ｓｅ）复印感光体的耐磨和抗擦伤性能，用线接触往复滑动摩擦试验，模拟感光体承受的机械摩擦状况，对（ａ－Ｃ∶Ｈ／ａ－Ｓｅ）／４５＃钢和ａ－Ｓｅ／４５＃钢试样进行了对比试验研究．结果表明，ａ－Ｃ∶Ｈ／ａ－Ｓｅ双层膜的耐磨性和抗擦伤能力均比ａ－Ｓｅ单层膜的好．扫描电子显微镜观察发现：在给定的试验条件下，双层膜中只有ａ－Ｃ∶Ｈ膜产生了磨痕，而ａ－Ｓｅ膜保持完好；相反，无ａ－Ｃ∶Ｈ膜保护的ａ－Ｓｅ单层膜的擦伤严重，而且在ａ－Ｓｅ涂层磨痕处的Ｘ射线能量色散谱中显示有微量的基体金属元素Ｆｅ存在．根据ａ－Ｃ∶Ｈ膜中原子团的红外光谱分析结果，还对ａ－Ｃ∶Ｈ／ａ－Ｓｅ双层膜良好的摩擦磨损性能作了解释：比较软的ａ－Ｓｅ膜延缓了比较硬的ａ－Ｃ∶Ｈ膜的损伤破碎，前者在后者与硬钢基体间起着固体润滑作用。 展开更多

关键词 非晶碳氢 非晶硒 复印感光体 摩擦学性能

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复合膜中非晶碳氢膜晶化凝聚的模拟研究

6

作者 刘志远 何大韧 +4 位作者 刘启海 杨功能 元翔虹 刘晓伟 张人佶 《高技术通讯》 CSCD 1992年第3期29-31,共3页

利用计算机随机函数模拟非晶碳氢膜的非平衡晶化凝聚,获得正方阵、三角阵和六角阵三种情况下的晶化凝聚分形;按最小二乘法拟合,对同一衬底膜得到相同的分维值。对复合膜a-C:H/KCl,分维值为1.81±0.03,对a-C:H/a-Se,分维值为1.37... 利用计算机随机函数模拟非晶碳氢膜的非平衡晶化凝聚,获得正方阵、三角阵和六角阵三种情况下的晶化凝聚分形;按最小二乘法拟合,对同一衬底膜得到相同的分维值。对复合膜a-C:H/KCl,分维值为1.81±0.03,对a-C:H/a-Se,分维值为1.37±0.02;标度区的范围随着图形密度增大而变宽。 展开更多

关键词 非晶碳氢膜 晶化凝聚 计算机模拟

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He^+辐照对非晶碳氢薄膜表面硬度的影响 被引量：1

7

作者 孙莉 范红玉 +4 位作者 李梦轲 刘东平 杨德明 杨杞 牛金海 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第B06期67-70,共4页

在室温下,利用等离子体增强的化学气相沉积法(PECVD)在硅衬底上制备了非晶碳氢薄膜。采用100keV,剂量分别为1.0×1015、5.0×1015、5.0×1016和1.0×1017ions/cm2的He离子(He+)对非晶碳氢薄膜进行辐照实验。通过基于原... 在室温下,利用等离子体增强的化学气相沉积法(PECVD)在硅衬底上制备了非晶碳氢薄膜。采用100keV,剂量分别为1.0×1015、5.0×1015、5.0×1016和1.0×1017ions/cm2的He离子(He+)对非晶碳氢薄膜进行辐照实验。通过基于原子力显微镜(AFM)的纳米压痕和纳米划痕技术,对He+辐照前后碳氢薄膜的表面硬度进行分析。结果表明,经He+辐照后碳氢薄膜的表面硬度明显增加,并且随着He+辐照剂量增加,碳氢薄膜的表面硬度呈逐渐增加的趋势。傅里叶变换红外光谱(FT-IR)和拉曼光谱分析表明,He+辐照会导致碳氢薄膜中sp2C键含量明显增加,而sp3C键及H原子的含量明显降低,这可能是引起碳氢薄膜硬度变化的主要原因。 展开更多

关键词 非晶碳氢薄膜 辐照 硬度 纳米压痕

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用在线椭偏仪研究非晶碳氢膜沉积和刻蚀过程 被引量：1

8

作者 孙超 徐军 马腾才 《核聚变与等离子体物理》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期163-167,共5页

利用在线椭偏仪对非晶碳氢膜进行了光学常数、沉积率和刻蚀率的测量。在无直流负偏压或偏压较小时,薄膜呈现聚合物结构,折射率和消光系数较小;当增加直流负偏压时,薄膜的折射率和消光系数显著提高,所成膜为硬质非晶碳氢膜。在以CH4作为... 利用在线椭偏仪对非晶碳氢膜进行了光学常数、沉积率和刻蚀率的测量。在无直流负偏压或偏压较小时,薄膜呈现聚合物结构,折射率和消光系数较小;当增加直流负偏压时,薄膜的折射率和消光系数显著提高,所成膜为硬质非晶碳氢膜。在以CH4作为气源进行沉积时,随着偏压的增加,沉积率先升高再降低,在偏压为-100V时,沉积率为最大。H2/N2(30%N2)的混合气体的刻蚀率要比单独用H2作为刻蚀气体的刻蚀率要大。对于CH4/N2(30%N2),在偏压从0V增加到300V过程中,在大约50V时,基底上的薄膜有一个从沉积到刻蚀的转化过程。 展开更多

关键词 椭偏仪 非晶碳氢膜 沉积 刻蚀 光学参数

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非晶碳氢薄膜结构及光学间隙 被引量：6

9

作者 刘东平 李芳 +1 位作者 俞世吉 马腾才 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2000年第2期58-61,共4页

利用完全抑制网络结构 (FCN)对氢化非晶碳 (α -C :H)膜组成进行模拟计算 ,得出形成质密α -C :H膜条件是H、SP2 C和SP3 C在其三元相图中应在一个三角形区域内 .大量实验数据表明 ,模拟结果与实验结果相当吻合 .在α -C :H中主要存在氢... 利用完全抑制网络结构 (FCN)对氢化非晶碳 (α -C :H)膜组成进行模拟计算 ,得出形成质密α -C :H膜条件是H、SP2 C和SP3 C在其三元相图中应在一个三角形区域内 .大量实验数据表明 ,模拟结果与实验结果相当吻合 .在α -C :H中主要存在氢、四面体碳、乙烯、苯环和双苯等结构 ,它们相对含量在三角形区域内变化 .该理论模拟对薄膜光学间隙的实验分析给予了很好的解释 . 展开更多

关键词 氢化非晶碳膜 光学间隙 FCN 结构 DLC

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四面体无定型无氢非晶碳膜的制备及其摩擦学性能研究 被引量：6

10

作者 于翔 张旭 +2 位作者 王成彪 刘兴举 傅玉娜 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期135-139,共5页

采用磁过滤阴极真空弧系统分别在硅片[Si(100)]、W18Cr4V高速钢和Cr18Ni9不锈钢基体上沉积了一系列sp3键含量较高的四面体无定型无氢非晶碳膜(ta-C),研究了所合成薄膜的结构、硬度、附着强度和摩擦磨损性能,考察了基体和薄膜厚度对薄膜... 采用磁过滤阴极真空弧系统分别在硅片[Si(100)]、W18Cr4V高速钢和Cr18Ni9不锈钢基体上沉积了一系列sp3键含量较高的四面体无定型无氢非晶碳膜(ta-C),研究了所合成薄膜的结构、硬度、附着强度和摩擦磨损性能,考察了基体和薄膜厚度对薄膜摩擦系数的影响,简要分析了相应ta-C膜的失效机理.结果表明,在高速钢基体上沉积的ta-C膜的显微硬度为76GPa,结合力Lc值达42N,具有优良的摩擦学性能,其摩擦系数为0.12,且摩擦系数可以在16000r范围内保持稳定. 展开更多

关键词 磁过滤真空弧 沉积 无氢非晶碳膜(ta—C) 摩擦学性能

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Fe掺杂氢化非晶碳薄膜制备及其热稳定性能 被引量：2

11

作者 张洪亮 吴卫东 +6 位作者 何智兵 刘兴华 李俊 曹林洪 巨新 唐永建 谢二庆 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期621-624,共4页

以H2、反式-2-丁烯(T2B)和二茂铁混合气体为工作气体,用金属有机等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备了Fe掺杂氢化非晶碳(a-C:H:Fe)薄膜。使用X射线光电子能谱(XPS)对a-C:H:Fe薄膜成分进行了分析。使用台阶仪、场发射扫描电镜(FESEM... 以H2、反式-2-丁烯(T2B)和二茂铁混合气体为工作气体,用金属有机等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备了Fe掺杂氢化非晶碳(a-C:H:Fe)薄膜。使用X射线光电子能谱(XPS)对a-C:H:Fe薄膜成分进行了分析。使用台阶仪、场发射扫描电镜(FESEM)、热重分析和紫外可见分光光度计(UV-VIS),对比分析了a-C:H薄膜和a-C:H:Fe薄膜的沉积速率、表面形貌、热稳定性和光学带隙变化。研究表明:相同制备条件下,相比a-C:H薄膜,a-C:H:Fe薄膜的沉积速率高,表面颗粒小,容易碳化,光学带隙变窄。 展开更多

关键词 ICF靶 氢化非晶碳薄膜 等离子体增强化学气相沉积 FE掺杂 热重分析

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氢化非晶碳膜完全抑制网络结构研究

12

作者 刘东平 俞世吉 马腾才 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期289-291,共3页

利用完全抑制网络结构 ( FCN)对氢化非晶碳膜 ( a-C:H)组成进行模拟计算 ,得出形成 a-C:H条件是 H、sp2 C和 sp3C在其三元相图中须在一个三角形区域内 .大量实验数据证明 ,模拟结果与实验结果相当吻合 .在 a-C:H中主要存在 H、 C C 、s... 利用完全抑制网络结构 ( FCN)对氢化非晶碳膜 ( a-C:H)组成进行模拟计算 ,得出形成 a-C:H条件是 H、sp2 C和 sp3C在其三元相图中须在一个三角形区域内 .大量实验数据证明 ,模拟结果与实验结果相当吻合 .在 a-C:H中主要存在 H、 C C 、sp3C和苯环 4种结构 .当两种组成确定时 ,另外两种组成可通过公式计算得出 . 展开更多

关键词 模拟 氢化非晶碳膜 FCN 完全抑制网络结构

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有机源制备的氢化非晶碳膜的新颖发光行为

13

作者 黄晓辉 徐骏 +3 位作者 李伟 马天夫 王立 陈坤基 《南京大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期497-501,共5页

利用有机碳源 (二甲苯 ) ,采用等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统制备了一系列氢化非晶碳 (a C :H)薄膜样品 .与利用甲烷 (CH4)制备的a C :H不同 ,该样品的光致发光峰位于蓝绿光范围并且呈现多峰结构 ,而不是表现为一个较宽的单峰 ... 利用有机碳源 (二甲苯 ) ,采用等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)系统制备了一系列氢化非晶碳 (a C :H)薄膜样品 .与利用甲烷 (CH4)制备的a C :H不同 ,该样品的光致发光峰位于蓝绿光范围并且呈现多峰结构 ,而不是表现为一个较宽的单峰 .同时样品发光峰的特征随着制备过程中功率不同而变化 .认为 :a C :H薄膜中的芳香环结构的引入产生了新的发光中心 。 展开更多

关键词 有机源 光致发光 氢化非晶碳膜 制备 等离子体增强化学气相沉积 发光特性

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无氢四面体非晶碳膜在海水中的摩擦学性能

14

作者 连峰 马明明 杨忠振 《哈尔滨工程大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第6期1098-1101,共4页

为了开发能直接应用于海洋环境的自润滑材料,在不锈钢表面制备无氢四面体非晶碳(ta-DLC)膜,分别测试和比较ta-DLC膜在海水、水和油中的摩擦学性能。结果表明:ta-DLC膜在海水中的摩擦系数小于0.1,磨痕最窄且浅,表现出最优异的摩擦学性能... 为了开发能直接应用于海洋环境的自润滑材料,在不锈钢表面制备无氢四面体非晶碳(ta-DLC)膜,分别测试和比较ta-DLC膜在海水、水和油中的摩擦学性能。结果表明:ta-DLC膜在海水中的摩擦系数小于0.1,磨痕最窄且浅,表现出最优异的摩擦学性能,其水中摩擦学性能略差于其海水中摩擦学性能,在油中摩擦学性能最差。ta-DLC膜在海水润滑领域具有广阔应用前景。 展开更多

关键词 无氢四面体非晶碳膜 海水 摩擦学性能 摩擦系数 磨痕 海洋 不锈钢

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硅、锗衬底上的软硬碳氢膜

15

作者 于明湘 吴鹏 +4 位作者 柳伟 刘文蓉 何大韧 刘买利 施华 《西北大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 1989年第3期10-10,18,共2页

我们使用射频-直流辉光放电系统制备了非晶碳氢膜（a-C:H）,所用的衬底为半导体级抛光后的硅、锗单晶片,锗片纯度在9个9以上,硅片为N型,电阻率10～20Ω·cm为研究淀积源对膜层结构的影响,我们除使用气态源乙炔（C<sub>2</s... 我们使用射频-直流辉光放电系统制备了非晶碳氢膜（a-C:H）,所用的衬底为半导体级抛光后的硅、锗单晶片,锗片纯度在9个9以上,硅片为N型,电阻率10～20Ω·cm为研究淀积源对膜层结构的影响,我们除使用气态源乙炔（C₂H₂）外,还使用了液态源戌烷(C₅H₁₂)。所用淀积参数为:高频频率10MHz,高频功率密度1.4～2.8W/cm²（未能精确测量）,直流偏压0～600V,气体流量0.3～0.61/min,反应室内压强0.01～1托,衬底温度:室温～300℃。 展开更多

关键词 碳氢膜 衬底 非晶碳氢膜 硅 锗

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等离子体表面氮掺杂对非晶碳膜场发射特性的影响

16

作者 李伟 岑展鸿 +3 位作者 钱波 梅嘉欣 徐骏 陈坤基 《南京大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期346-350,共5页

氢化非晶碳膜作为一种场致阴极电子发射材料已被广泛研究,通过对薄膜进行掺杂以提高其场发射特性已被证明是行之有效的方法之一.利用常规等离子体化学气相淀积技术制备了氢化非晶碳薄膜材料,在原位利用氮等离子体对碳膜表面进行N型掺杂... 氢化非晶碳膜作为一种场致阴极电子发射材料已被广泛研究,通过对薄膜进行掺杂以提高其场发射特性已被证明是行之有效的方法之一.利用常规等离子体化学气相淀积技术制备了氢化非晶碳薄膜材料,在原位利用氮等离子体对碳膜表面进行N型掺杂.通过不同手段研究了氮表面掺杂前后非晶碳膜的微结构和化学键的变化,对表面掺杂前后的薄膜的场电子特性的测量表明,在氮表面掺杂后其场电子发射特性有了明显改善,特别是场发射的阈值电场从掺杂前的3.2 V/μm下降到掺杂后的1.0 V/μm.初步实验分析表明:由于氮表面掺杂后,在碳膜表面形成N-H键,从而导致碳膜表面的有效功函数降低使场电子发射特性得以提高. 展开更多

关键词 场发射 氢化非晶碳 表面掺杂

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真空中不同转速和对偶对a-C:H膜摩擦学性能的影响 被引量：4

17

作者 吴艳霞 李红轩 +4 位作者 吉利 冶银平 孙晓军 陈建敏 周惠娣 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期90-95,共6页

非晶碳氢(a-C∶H)薄膜作为空间润滑材料有很大的应用前景,它在真空中的摩擦磨损行为与掺杂元素、摩擦对偶、滑动速度等因素有关。采用中频非平衡磁控溅射法在AISI202不锈钢和p(111)单晶硅基体上沉积了厚度为1.3～1.6μm的a-C∶H膜以及Cr... 非晶碳氢(a-C∶H)薄膜作为空间润滑材料有很大的应用前景,它在真空中的摩擦磨损行为与掺杂元素、摩擦对偶、滑动速度等因素有关。采用中频非平衡磁控溅射法在AISI202不锈钢和p(111)单晶硅基体上沉积了厚度为1.3～1.6μm的a-C∶H膜以及Cr、MoS2掺杂的a-C∶H复合膜。采用球盘摩擦试验机对3种膜的真空摩擦学行为进行了研究,摩擦性能较好的薄膜在真空中进行了GCr15、Si3N4和C不同对偶以及100、500、1000r/min的不同转速摩擦实验。结果表明:在沉积气压为5.3×10-1 Pa,Ar和CH4的气体流量比为1∶1,单纯溅射石墨靶(溅射电流12A)的条件下,制备的a-C∶H薄膜在真空中的摩擦因数最低(0.005),寿命相对最长;对偶对a-C∶H膜的摩擦因数影响不大,但薄膜的耐磨寿命随着对偶硬度的增加而降低;随着转速的增加,a-C∶H膜的摩擦因数和耐磨寿命均降低。 展开更多

关键词 非晶碳氢膜 掺杂膜 对偶 转速

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X射线反射法测量α:CH薄膜的密度和厚度 被引量：4

18

作者 张继成 唐永建 吴卫东 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1317-1320,共4页

利用低压等离子体化学气相沉积法制备厚度不同的非晶碳氢薄膜,采用X射线反射法测量了非晶碳氢薄膜的密度和厚度。实验中分别采用曲线拟合法和周期估算法计算薄膜的厚度,两种方法测得的厚度平均差别为5.5%,一致性较好。利用X射线反射谱... 利用低压等离子体化学气相沉积法制备厚度不同的非晶碳氢薄膜,采用X射线反射法测量了非晶碳氢薄膜的密度和厚度。实验中分别采用曲线拟合法和周期估算法计算薄膜的厚度,两种方法测得的厚度平均差别为5.5%,一致性较好。利用X射线反射谱的临界角计算所得的7个样品的密度差别较小,在8%之内。 展开更多

关键词 X射线反射法 非晶碳氢薄膜 密度 厚度

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C_xH_(1-x)薄膜制备 被引量：9

19

作者 吴卫东 罗江山 +1 位作者 张占文 黄勇 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期319-322,共4页

以反式２丁烯为工作气体，采用低压等离子体化学气相沉积法制备 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜。研究了在不同的 Ｈ２ 与反式２丁烯流量比下制备的 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜的傅里叶变换红外光谱（ Ｆ Ｔ Ｉ Ｒ）及 Ｘ Ｐ Ｓ谱的特性。初步... 以反式２丁烯为工作气体，采用低压等离子体化学气相沉积法制备 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜。研究了在不同的 Ｈ２ 与反式２丁烯流量比下制备的 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜的傅里叶变换红外光谱（ Ｆ Ｔ Ｉ Ｒ）及 Ｘ Ｐ Ｓ谱的特性。初步探讨了 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ的生长机理。膜中ｓｐ３ 杂化碳原子和ｓｐ２ 杂化碳原子的数量以及两者的比例与沉积条件有关。 展开更多

关键词 低压等离子体 薄膜 非晶碳氢薄膜 制备

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红外反射镜a-C·H/Au/Cu/Cu的设计与实验室工艺

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作者 贺庆丽 刘买利 +3 位作者 于明湘 吴鹏 何大韧 籍修炎 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 1991年第2期64-68,共5页

本文报导将非晶碳氢膜(a-C:H)用作红外反射镜Au/Cu的表面保护膜的设计计算、实验室制备工艺研究、及有关性能测试结果。我们的第一阶段工作结果表明,a-C:H/Au/Cu在实用上是有价值的,值得继续进行工作。

关键词 红外射镜 非晶碳氢膜 工艺 设计

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