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题名直流磁控溅射研究进展
被引量：13
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作者
石永敬
龙思远
王杰
潘复生
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机构
重庆大学机械学院
重庆硅酸盐研究所
重庆硅酸盐研究所
重庆大学材料学院
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出处
《材料导报》
CSCD
北大核心
2008年第1期65-69,共5页
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基金
重庆市科技攻关项目
重庆大学研究生院创新基金重点项目(200609Y180060165)
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文摘
直流磁控溅射是重要的物理气相沉积技术,广泛应用在工业生产和科学研究中。主要评论了近年来直流磁控溅射技术在溅射机理和非平衡闭合磁控靶等方面取得的重要进展,并评述了脉冲磁控模式和基于闭合磁场直流磁控溅射沉积涂层的结构区域模型。直流非平衡磁控溅射是直流磁控溅射技术中的重要里程碑,使磁控溅射技术直接过渡到离子镀阶段,而脉冲磁控溅射技术为稳定沉积高质量的非导电涂层作出了重要的贡献。
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关键词
磁控溅射
非平衡闭合磁场
脉冲
薄膜结构
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Keywords
magnetron sputtering, unbalanced closed field, pulsed, thin film structure
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分类号
TB43
[一般工业技术]
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题名磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测
被引量：22
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作者
杨武保
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机构
中国石油大学(北京)机电工程学院
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出处
《石油机械》
北大核心
2005年第6期73-76,共4页
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基金
石油大学与江汉机械研究所合作规划成立表面工程中心的预研项目
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文摘
磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术。
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关键词
发展趋势
镀膜技术
磁控溅射技术
预测
脉冲磁控溅射
反应溅射沉积
表面处理技术
非平衡磁场
功能薄膜
薄膜制备
石化行业
耐磨
耐蚀
高纯
电镀
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分类号
TQ171.724
[化学工程—玻璃工业]
TG174.45
[金属学及工艺—金属表面处理]
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题名在聚四氟乙烯基体上氧化铝涂层的反应沉积
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作者
彭补之
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出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第9期70-70,共1页
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关键词
聚四氟乙烯
基体
氧化铝涂层
反应沉积
闭合场非平衡磁控溅射装置
反应溅射技术
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分类号
TQ320.672
[化学工程—合成树脂塑料工业]
TQ325.4
[化学工程—合成树脂塑料工业]
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