非平衡磁控溅射结合电弧离子镀制备掺杂DLC硬质膜性能研究 被引量：4

1

作者 于大洋 马胜歌 +1 位作者 张以忱 徐路 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2006年第6期43-46,共4页

将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到HV(20g)2... 将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到HV(20g)2600以上,摩擦因数接近0.1,电阻高于2MΩ。 展开更多

关键词 硬质膜 DLC 非平衡磁控溅射 电弧离子镀 霍尔离子源

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基体温度对中频脉冲非平衡磁控溅射技术沉积类金刚石薄膜结构与性能的影响 被引量：1

2

作者 代海洋 翟凤潇 +1 位作者 陈镇平 展长勇 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期727-731,共5页

利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术在不同的基体温度下制备了类金刚石(DLC)薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备DLC薄膜的微观结构、机械性能、光学性能进行了分析。Raman光谱和XPS结果表明,当基... 利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术在不同的基体温度下制备了类金刚石(DLC)薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备DLC薄膜的微观结构、机械性能、光学性能进行了分析。Raman光谱和XPS结果表明,当基体温度由50℃增加到100℃时,DLC薄膜中的sp3杂化键的含量随基体温度的升高而增加,当基体温度超过100℃时,DLC薄膜中的sp3杂化键的含量随基体温度的升高而减少。纳米压痕测试表明,DLC薄膜的纳米硬度随基体温度的增加先增加而后减小,基体温度为100℃时制备的薄膜的纳米硬度最大。椭偏仪测试表明,类金刚石薄膜的折射率同样随基体温度的增加先增加而后减小,基体温度为100℃时制备的薄膜的折射率最大。以上结果说明基体温度对DLC薄膜中的sp3杂化键的含量有很大的影响,DLC薄膜的纳米硬度、折射率随薄膜中的sp3杂化键的含量的变化而变化。 展开更多

关键词 类金刚石薄膜 基体温度 中频脉冲非平衡磁控溅射技术 微观结构 性能

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闭合场非平衡磁控溅射离子CrAlTiN镀层在PCB用微钻中的应用 被引量：7

3

作者 种艳琳 蒋白灵 白力静 《表面技术》 EI CAS CSCD 2006年第2期65-68,共4页

采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB微钻上进行复合金属镀层处理,通过与无镀层微钻进行钻削试验对比,结果表明:CrA lTiN镀层微钻使用寿命与无镀层微钻相比,寿命可提高3倍;具有纳米结构的高硬度镀层显著提高了微钻的耐磨性。

关键词 闭合场 非平衡 磁控溅射 离子镀 CrAlTiN镀层 PCB微钻 寿命 耐磨性

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非平衡磁控溅射类金刚石薄膜的特性 被引量：10

4

作者 徐均琪 杭凌侠 惠迎雪 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期134-137,141,共5页

非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文研究了非平衡磁控溅射技术制备DLC薄膜的光学、机械,电学和... 非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文研究了非平衡磁控溅射技术制备DLC薄膜的光学、机械,电学和化学性能。研究表明,非平衡磁控溅射制备的DLC膜具有较宽的光谱透明区,且表面光滑、摩擦系数小、耐磨损、抗化学腐蚀,同时具有较高的电阻率和良好的稳定性。 展开更多

关键词 类金刚石薄膜 非平衡磁控溅射技术 离子束辅助沉积 DLC薄膜 抗化学腐蚀 化学性能 DLC膜 溅射制备 表面光滑 摩擦系数 离子镀 耐磨损 稳定性 电阻率 光学

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一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法

5

《表面技术》 EI CAS CSCD 2008年第6期80-80,共1页

本发明属于材料表面改性技术领域，特别涉及到磁控溅射沉积技术。该技术通过两个相对放置的ECR放电腔磁场线圈产生的磁场和平衡磁控靶磁场在沉积室叠加形成会切场磁场位型，该磁场位型有效地约束ECR放电和平衡磁控靶放电产生的等离子体... 本发明属于材料表面改性技术领域，特别涉及到磁控溅射沉积技术。该技术通过两个相对放置的ECR放电腔磁场线圈产生的磁场和平衡磁控靶磁场在沉积室叠加形成会切场磁场位型，该磁场位型有效地约束ECR放电和平衡磁控靶放电产生的等离子体，在薄膜生长表面形成高密度的离子、激活基团，通过控制基片位置、溅射偏压、沉积偏压等工艺参数， 展开更多

关键词 非平衡磁控溅射 等离子体增强 表面改性技术 磁场线圈 沉积技术 溅射偏压 放电腔 薄膜生长

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非平衡磁控溅射及其应用 被引量：24

6

作者 董骐 范毓殿 《真空科学与技术》 CSCD 1996年第1期51-57,共7页

磁控溅射镀膜技术由于其显著的特点已经得到广泛的应用。但是常规磁控溅射靶表面横向磁场紧紧地束缚带电粒子，使得在镀膜区域的离子密度很低，一定程度上削弱了等离子体镀膜的优势。通过有意识地增强或削弱其中一个磁极的磁通量，使得... 磁控溅射镀膜技术由于其显著的特点已经得到广泛的应用。但是常规磁控溅射靶表面横向磁场紧紧地束缚带电粒子，使得在镀膜区域的离子密度很低，一定程度上削弱了等离子体镀膜的优势。通过有意识地增强或削弱其中一个磁极的磁通量，使得磁控溅射靶的磁场不平衡，可以大大提高镀膜区域的等离子体密度，从而改善镀膜质量。此外还讨论该项技术目前的发展状况。 展开更多

关键词 非平衡 磁控溅射 阴极电弧 离子镀

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磁控溅射技术新进展及应用 被引量：22

7

作者 张继成 吴卫东 +1 位作者 许华 唐晓红 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第4期56-59,共4页

主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方... 主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果。 展开更多

关键词 磁控溅射技术 薄膜制备 多靶磁控溅射技术 磁场扫描法 非平衡磁控溅射技术 脉冲磁控溅射技术

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非平衡平面磁控溅射阴极及其镀膜装置

8

《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期67-67,共1页

关键词 北京振涛国际钛金技术有限公司 非平衡平面磁控溅射阴极 镀膜装置 靶材 非铁磁体背板 永磁体 极靴 专利

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磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测 被引量：22

9

作者 杨武保 《石油机械》 北大核心 2005年第6期73-76,共4页

磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉... 磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术。 展开更多

关键词 发展趋势 镀膜技术 磁控溅射技术 预测 脉冲磁控溅射 反应溅射沉积 表面处理技术 非平衡磁场 功能薄膜 薄膜制备 石化行业 耐磨 耐蚀 高纯 电镀

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基体偏压对CrTiAlN镀层摩擦磨损性能的影响 被引量：1

10

作者 严少平 孙雅琴 +2 位作者 段冰 张桂梅 蒋百灵 《合肥工业大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2007年第8期966-970,共5页

应用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备了一组随基体偏压变化的CrTiAlN梯度镀层,并测试了其摩擦学性能。结果表明,随偏压的增大,镀层的厚度、硬度、膜基结合强度和耐磨性能表现出先升后降、摩擦系数较低、具有... 应用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备了一组随基体偏压变化的CrTiAlN梯度镀层,并测试了其摩擦学性能。结果表明,随偏压的增大,镀层的厚度、硬度、膜基结合强度和耐磨性能表现出先升后降、摩擦系数较低、具有良好的韧性;在-75 V左右偏压下沉积的镀层具有最佳的综合性能。通过XRD、SEM的分析表明,由CrN、TiN、AlN、Cr和Ti2N等微晶组成的复合镀层,晶粒细小,属于纳米级颗粒,从而使镀层具有良好的摩擦学性能。 展开更多

关键词 非平衡磁控溅射离子镀技术 基体偏压 显微硬度 摩擦磨损性能

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DLC,TiN薄膜的环境摩擦学特性研究 被引量：4

11

作者 祝闻 聂朝胤 +2 位作者 冉春华 金义栋 赵洋 《西南大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期84-90,共7页

采用非平衡磁控溅射及电弧离子镀技术在304奥氏体不锈钢表面沉积了类金刚石(DLC)及TiN薄膜.用纳米压痕仪、表面粗糙度仪、扫描电镜等检测了薄膜的显微硬度、表面粗糙度及表面形貌.并用球—盘式摩擦磨损试验仪评价了不同介质(干摩擦、水... 采用非平衡磁控溅射及电弧离子镀技术在304奥氏体不锈钢表面沉积了类金刚石(DLC)及TiN薄膜.用纳米压痕仪、表面粗糙度仪、扫描电镜等检测了薄膜的显微硬度、表面粗糙度及表面形貌.并用球—盘式摩擦磨损试验仪评价了不同介质(干摩擦、水润滑、油润滑)条件下薄膜的摩擦磨损性能.结果表明:在干摩擦及水润滑条件下,TiN,DLC两种薄膜均明显改善了基体的耐磨性和润滑性,DLC薄膜性能更佳.但相对于干摩擦,在水润滑条件下,DLC薄膜的摩擦系数反而有所升高,这主要源于H2O与O2在摩擦过程中参与反应,降低了薄膜的力学性能和化学惰性从而增加了粘着效应.在油润滑条件下,DLC,TiN薄膜与基体摩擦系数相近甚至略高,薄膜的沉积虽然有利于基体耐磨性能的提高,但并不能改善基体的润滑特性. 展开更多

关键词 非平衡磁控溅射 电弧离子镀 DLC薄膜 TIN薄膜 摩擦学特性

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辅助气体组成对类金刚石薄膜结构和性能的影响 被引量：3

12

作者 代海洋 陈镇平 +2 位作者 程学瑞 翟凤潇 苏玉玲 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1643-1646,1650,共5页

分别以氩气-甲烷、氩气-乙炔为辅助气体,高纯石墨为靶材,利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术制备了类金刚石薄膜。采用Raman光谱、X射线光电子能谱、纳米压痕测试仪、原子力显微镜对所制备类金刚石薄膜的键结构、机械性能、表面形貌进行了... 分别以氩气-甲烷、氩气-乙炔为辅助气体,高纯石墨为靶材,利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术制备了类金刚石薄膜。采用Raman光谱、X射线光电子能谱、纳米压痕测试仪、原子力显微镜对所制备类金刚石薄膜的键结构、机械性能、表面形貌进行了分析。Raman光谱和X射线光电子能谱测试结果表明,以氩气-甲烷为辅助气体制备的类金刚石薄膜中sp3杂化键的含量比以氩气-乙炔为辅助气体制备的类金刚石薄膜的高。纳米压痕测试结果表明,以氩气-甲烷为辅助气体制备的类金刚石薄膜的纳米硬度比以氩气-乙炔为辅助气体的高。原子力显微镜测试结果表明,以氩气-甲烷为辅助气体制备的类金刚石薄膜的RMS表面粗糙度比以氩气-乙炔为辅助气体的低。以上结果说明辅助气体组成对类金刚石薄膜的键结构、机械性能、表面形貌有较大的影响。 展开更多

关键词 类金刚石薄膜 辅助气体组成 中频脉冲非平衡磁控溅射技术 结构 性能

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立方氮化硼薄膜的气相沉积及过渡层对其附着性能的影响 被引量：3

13

作者 贺琦 潘俊德 +1 位作者 徐重 Russell F.Messier 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期364-368,共5页

本文采用非平衡磁控溅射物理气相沉积工艺,在单晶硅基片上合成了立方氮化硼薄膜,并且通过采用过渡层提高了立方氮化硼薄膜的附着力,过渡层分别是碳化硼(B4C)薄膜以及碳化硼(B4C)薄膜与B C N梯度层的复合层(BC/B C N)。同时,不同过渡层... 本文采用非平衡磁控溅射物理气相沉积工艺,在单晶硅基片上合成了立方氮化硼薄膜,并且通过采用过渡层提高了立方氮化硼薄膜的附着力,过渡层分别是碳化硼(B4C)薄膜以及碳化硼(B4C)薄膜与B C N梯度层的复合层(BC/B C N)。同时,不同过渡层的存在使立方氮化硼薄膜的剥落机理产生变化。 展开更多

关键词 立方氮化硼薄膜 气相沉积法 附着性能 非平衡磁控溅射技术 过渡层

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甲烷压强对类金刚石薄膜结构与性能的影响 被引量：1

14

作者 刘海增 代海洋 +1 位作者 陈镇平 王春芬 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期55-59,共5页

以氩气、氩气-甲烷为辅助气体,高纯石墨为靶材,采用脉冲非平衡磁控溅射技术制备了无定形碳膜(a—C)及氢化无定形碳膜(a—C∶H)。利用台阶仪、傅里叶红外光谱、Raman光谱、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备类金刚石膜的沉积速率、结构、... 以氩气、氩气-甲烷为辅助气体,高纯石墨为靶材,采用脉冲非平衡磁控溅射技术制备了无定形碳膜(a—C)及氢化无定形碳膜(a—C∶H)。利用台阶仪、傅里叶红外光谱、Raman光谱、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备类金刚石膜的沉积速率、结构、力学性能、折射率随甲烷气体含量的变化进行表征。结果表明:甲烷压强对类金刚石膜的结构与性能具有较大影响;类金刚石膜的沉积速率和键合氢的含量随着甲烷压强的增加而增加,但是薄膜中的sp3杂化碳的含量随着甲烷压强的增加而减小;类金刚石膜的纳米硬度和折射率均随甲烷压强的增加而减小。 展开更多

关键词 类金刚石膜 甲烷压强 脉冲非平衡磁控溅射技术 结构 性能

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