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基体温度对中频脉冲非平衡磁控溅射技术沉积类金刚石薄膜结构与性能的影响 被引量:1
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作者 代海洋 翟凤潇 +1 位作者 陈镇平 展长勇 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期727-731,共5页
利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术在不同的基体温度下制备了类金刚石(DLC)薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备DLC薄膜的微观结构、机械性能、光学性能进行了分析。Raman光谱和XPS结果表明,当基... 利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术在不同的基体温度下制备了类金刚石(DLC)薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备DLC薄膜的微观结构、机械性能、光学性能进行了分析。Raman光谱和XPS结果表明,当基体温度由50℃增加到100℃时,DLC薄膜中的sp3杂化键的含量随基体温度的升高而增加,当基体温度超过100℃时,DLC薄膜中的sp3杂化键的含量随基体温度的升高而减少。纳米压痕测试表明,DLC薄膜的纳米硬度随基体温度的增加先增加而后减小,基体温度为100℃时制备的薄膜的纳米硬度最大。椭偏仪测试表明,类金刚石薄膜的折射率同样随基体温度的增加先增加而后减小,基体温度为100℃时制备的薄膜的折射率最大。以上结果说明基体温度对DLC薄膜中的sp3杂化键的含量有很大的影响,DLC薄膜的纳米硬度、折射率随薄膜中的sp3杂化键的含量的变化而变化。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 基体温度 中频脉冲非平衡磁控溅射技术 微观结构 性能
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非平衡磁控溅射类金刚石薄膜的特性 被引量:10
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作者 徐均琪 杭凌侠 惠迎雪 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期134-137,141,共5页
非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文研究了非平衡磁控溅射技术制备DLC薄膜的光学、机械,电学和... 非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文研究了非平衡磁控溅射技术制备DLC薄膜的光学、机械,电学和化学性能。研究表明,非平衡磁控溅射制备的DLC膜具有较宽的光谱透明区,且表面光滑、摩擦系数小、耐磨损、抗化学腐蚀,同时具有较高的电阻率和良好的稳定性。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 非平衡磁控溅射技术 离子束辅助沉积 DLC薄膜 抗化学腐蚀 化学性能 DLC膜 溅射制备 表面光滑 摩擦系数 离子镀 耐磨损 稳定性 电阻率 光学
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磁控溅射技术新进展及应用 被引量:22
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作者 张继成 吴卫东 +1 位作者 许华 唐晓红 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第4期56-59,共4页
主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方... 主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果。 展开更多
关键词 磁控溅射技术 薄膜制备 多靶磁控溅射技术 磁场扫描法 非平衡磁控溅射技术 脉冲磁控溅射技术
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辅助气体组成对类金刚石薄膜结构和性能的影响 被引量:3
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作者 代海洋 陈镇平 +2 位作者 程学瑞 翟凤潇 苏玉玲 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第12期1643-1646,1650,共5页
分别以氩气-甲烷、氩气-乙炔为辅助气体,高纯石墨为靶材,利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术制备了类金刚石薄膜。采用Raman光谱、X射线光电子能谱、纳米压痕测试仪、原子力显微镜对所制备类金刚石薄膜的键结构、机械性能、表面形貌进行了... 分别以氩气-甲烷、氩气-乙炔为辅助气体,高纯石墨为靶材,利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术制备了类金刚石薄膜。采用Raman光谱、X射线光电子能谱、纳米压痕测试仪、原子力显微镜对所制备类金刚石薄膜的键结构、机械性能、表面形貌进行了分析。Raman光谱和X射线光电子能谱测试结果表明,以氩气-甲烷为辅助气体制备的类金刚石薄膜中sp3杂化键的含量比以氩气-乙炔为辅助气体制备的类金刚石薄膜的高。纳米压痕测试结果表明,以氩气-甲烷为辅助气体制备的类金刚石薄膜的纳米硬度比以氩气-乙炔为辅助气体的高。原子力显微镜测试结果表明,以氩气-甲烷为辅助气体制备的类金刚石薄膜的RMS表面粗糙度比以氩气-乙炔为辅助气体的低。以上结果说明辅助气体组成对类金刚石薄膜的键结构、机械性能、表面形貌有较大的影响。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 辅助气体组成 中频脉冲非平衡磁控溅射技术 结构 性能
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立方氮化硼薄膜的气相沉积及过渡层对其附着性能的影响 被引量:3
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作者 贺琦 潘俊德 +1 位作者 徐重 Russell F.Messier 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期364-368,共5页
本文采用非平衡磁控溅射物理气相沉积工艺,在单晶硅基片上合成了立方氮化硼薄膜,并且通过采用过渡层提高了立方氮化硼薄膜的附着力,过渡层分别是碳化硼(B4C)薄膜以及碳化硼(B4C)薄膜与B C N梯度层的复合层(BC/B C N)。同时,不同过渡层... 本文采用非平衡磁控溅射物理气相沉积工艺,在单晶硅基片上合成了立方氮化硼薄膜,并且通过采用过渡层提高了立方氮化硼薄膜的附着力,过渡层分别是碳化硼(B4C)薄膜以及碳化硼(B4C)薄膜与B C N梯度层的复合层(BC/B C N)。同时,不同过渡层的存在使立方氮化硼薄膜的剥落机理产生变化。 展开更多
关键词 立方氮化硼薄膜 气相沉积法 附着性能 非平衡磁控溅射技术 过渡层
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甲烷压强对类金刚石薄膜结构与性能的影响 被引量:1
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作者 刘海增 代海洋 +1 位作者 陈镇平 王春芬 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期55-59,共5页
以氩气、氩气-甲烷为辅助气体,高纯石墨为靶材,采用脉冲非平衡磁控溅射技术制备了无定形碳膜(a—C)及氢化无定形碳膜(a—C∶H)。利用台阶仪、傅里叶红外光谱、Raman光谱、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备类金刚石膜的沉积速率、结构、... 以氩气、氩气-甲烷为辅助气体,高纯石墨为靶材,采用脉冲非平衡磁控溅射技术制备了无定形碳膜(a—C)及氢化无定形碳膜(a—C∶H)。利用台阶仪、傅里叶红外光谱、Raman光谱、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备类金刚石膜的沉积速率、结构、力学性能、折射率随甲烷气体含量的变化进行表征。结果表明:甲烷压强对类金刚石膜的结构与性能具有较大影响;类金刚石膜的沉积速率和键合氢的含量随着甲烷压强的增加而增加,但是薄膜中的sp3杂化碳的含量随着甲烷压强的增加而减小;类金刚石膜的纳米硬度和折射率均随甲烷压强的增加而减小。 展开更多
关键词 类金刚石膜 甲烷压强 脉冲非平衡磁控溅射技术 结构 性能
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基体偏压对CrTiAlN镀层摩擦磨损性能的影响 被引量:1
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作者 严少平 孙雅琴 +2 位作者 段冰 张桂梅 蒋百灵 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第8期966-970,共5页
应用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备了一组随基体偏压变化的CrTiAlN梯度镀层,并测试了其摩擦学性能。结果表明,随偏压的增大,镀层的厚度、硬度、膜基结合强度和耐磨性能表现出先升后降、摩擦系数较低、具有... 应用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备了一组随基体偏压变化的CrTiAlN梯度镀层,并测试了其摩擦学性能。结果表明,随偏压的增大,镀层的厚度、硬度、膜基结合强度和耐磨性能表现出先升后降、摩擦系数较低、具有良好的韧性;在-75 V左右偏压下沉积的镀层具有最佳的综合性能。通过XRD、SEM的分析表明,由CrN、TiN、AlN、Cr和Ti2N等微晶组成的复合镀层,晶粒细小,属于纳米级颗粒,从而使镀层具有良好的摩擦学性能。 展开更多
关键词 平衡磁控溅射离子镀技术 基体偏压 显微硬度 摩擦磨损性能
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