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基于体硅工艺的静电致动微夹持器制作工艺分析 被引量:6
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作者 李勇 李玉和 +1 位作者 李庆祥 訾艳阳 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2003年第2期109-113,共5页
介绍了一种基于体硅工艺的大尺寸、大深宽比梳状静电致动微夹持器的制作工艺。对微夹持器制作中的关键工艺进行分析,重点分析ICP蚀刻工艺的蚀刻时间对结构的影响,总结导致器件失效的原因,探讨了减少失效的方法。加工过程中采用分步加工... 介绍了一种基于体硅工艺的大尺寸、大深宽比梳状静电致动微夹持器的制作工艺。对微夹持器制作中的关键工艺进行分析,重点分析ICP蚀刻工艺的蚀刻时间对结构的影响,总结导致器件失效的原因,探讨了减少失效的方法。加工过程中采用分步加工的办法控制蚀刻时间,成功的释放了宽6μm,厚60μm,等效长度达5470μm的悬臂梁型微夹持臂。研制出一种良好性能的具有S形柔性结构夹持臂的梳状静电致动微夹持器。 展开更多
关键词 体硅工艺 静电致动微夹持器 电感耦合等离子体 蚀刻 制作工艺 细加工
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