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沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响
被引量：
2
1
作者
朱道云
郑昌喜
+2 位作者
王明东
陈弟虎
何振辉
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第7期1316-1319,共4页
采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD...
采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD结果表明,所制备的MgO薄膜具有NaCl型立方结构的(100)、(110)和(111)3种结晶取向,在沉积气压为0.7～3.0Pa的范围内,薄膜的择优结晶取向随沉积气压的升高先由(100)转变为(110),最后变为(111)。SEM图表明随着沉积气压的升高,MgO薄膜的晶粒逐渐变小,薄膜结晶质量变差。在380～900nm范围内,沉积气压为0.7Pa下制备的MgO薄膜其可见光透过率高于90%,随着沉积气压的升高,薄膜的可见光透过率有所下降。
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关键词
阴极
真空
电弧
离子
沉积
沉积
气压
MgO薄膜
等
离子
体显示板
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职称材料
阴极真空电弧沉积MgO薄膜的椭偏光谱研究
被引量：
1
2
作者
刘毅
林晓东
+2 位作者
朱道云
陈弟虎
何振辉
《中山大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期26-30,共5页
采用阴极真空电弧离子沉积技术在硅基片上制备出了MgO薄膜。利用椭圆偏振光谱、原子力显微镜及扫描电子显微镜分别对不同氧流量下制备的MgO薄膜的厚度,光学常数,表面粗糙度及表面形貌进行了分析,并对椭圆偏振光谱的光学粗糙度结果和原...
采用阴极真空电弧离子沉积技术在硅基片上制备出了MgO薄膜。利用椭圆偏振光谱、原子力显微镜及扫描电子显微镜分别对不同氧流量下制备的MgO薄膜的厚度,光学常数,表面粗糙度及表面形貌进行了分析,并对椭圆偏振光谱的光学粗糙度结果和原子力显微镜的均方根粗糙度结果进行了对比和分析。结果表明,不同氧流量下制备出的MgO薄膜,表面粗糙度及薄膜颗粒随着氧流量的增加而增大。椭偏光谱与AFM得到的表面粗糙度存在线性一致关系,表明椭偏光谱可作为一种很好的无损分析手段。
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关键词
阴极
真空
电弧
离子
沉积
MgO薄膜
椭圆偏振光谱
表面粗糙度
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职称材料
退火对电弧离子镀制备的ZnO薄膜的影响
3
作者
王明东
郑婷
+3 位作者
朱道云
何振辉
陈弟虎
闻立时
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期156-161,共6页
采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析。XR...
采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有很好的ZnO(002)择优取向,退火使ZnO(002)衍射峰向高角度方向偏移。SEM结果表明,随着退火温度升高,表面晶粒由隆起的山脉或塔状变为平面状,晶粒002面呈六边状。PL谱结果表明,随着退火温度的升高,紫外发光峰强度逐渐增强,可见光发光峰强度逐渐相对减弱。紫外可见光透过谱结果表明,退火使可见光透过率增高,光学带隙发生红移。
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关键词
阴极电弧离子沉积
ZNO薄膜
退火
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职称材料
题名
沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响
被引量：
2
1
作者
朱道云
郑昌喜
王明东
陈弟虎
何振辉
机构
广东工业大学实验教学部
中山大学物理科学与工程技术学院
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第7期1316-1319,共4页
基金
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2003AA311122)
广东工业大学博士启动资助项目(083025)
文摘
采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD结果表明,所制备的MgO薄膜具有NaCl型立方结构的(100)、(110)和(111)3种结晶取向,在沉积气压为0.7～3.0Pa的范围内,薄膜的择优结晶取向随沉积气压的升高先由(100)转变为(110),最后变为(111)。SEM图表明随着沉积气压的升高,MgO薄膜的晶粒逐渐变小,薄膜结晶质量变差。在380～900nm范围内,沉积气压为0.7Pa下制备的MgO薄膜其可见光透过率高于90%,随着沉积气压的升高,薄膜的可见光透过率有所下降。
关键词
阴极
真空
电弧
离子
沉积
沉积
气压
MgO薄膜
等
离子
体显示板
Keywords
cathodic vacuum arc ion deposition
deposition pressure
MgO thin films
plasma display panel
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
阴极真空电弧沉积MgO薄膜的椭偏光谱研究
被引量：
1
2
作者
刘毅
林晓东
朱道云
陈弟虎
何振辉
机构
深圳大学物理科学学院
中山大学物理科学与工程技术学院∥光电材料与技术国家重点实验室
出处
《中山大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期26-30,共5页
基金
国家"863"科技计划资助项目(2003AA311122)
深圳大学科研启动基金资助项目(200533)
文摘
采用阴极真空电弧离子沉积技术在硅基片上制备出了MgO薄膜。利用椭圆偏振光谱、原子力显微镜及扫描电子显微镜分别对不同氧流量下制备的MgO薄膜的厚度,光学常数,表面粗糙度及表面形貌进行了分析,并对椭圆偏振光谱的光学粗糙度结果和原子力显微镜的均方根粗糙度结果进行了对比和分析。结果表明,不同氧流量下制备出的MgO薄膜,表面粗糙度及薄膜颗粒随着氧流量的增加而增大。椭偏光谱与AFM得到的表面粗糙度存在线性一致关系,表明椭偏光谱可作为一种很好的无损分析手段。
关键词
阴极
真空
电弧
离子
沉积
MgO薄膜
椭圆偏振光谱
表面粗糙度
Keywords
CVAD
MgO thin films
spectroscopic ellipsometry
surface roughness
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
退火对电弧离子镀制备的ZnO薄膜的影响
3
作者
王明东
郑婷
朱道云
何振辉
陈弟虎
闻立时
机构
中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期156-161,共6页
基金
国家"863"资助项目(No.2003AA311122)
文摘
采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有很好的ZnO(002)择优取向,退火使ZnO(002)衍射峰向高角度方向偏移。SEM结果表明,随着退火温度升高,表面晶粒由隆起的山脉或塔状变为平面状,晶粒002面呈六边状。PL谱结果表明,随着退火温度的升高,紫外发光峰强度逐渐增强,可见光发光峰强度逐渐相对减弱。紫外可见光透过谱结果表明,退火使可见光透过率增高,光学带隙发生红移。
关键词
阴极电弧离子沉积
ZNO薄膜
退火
Keywords
cathodic vacuum arc deposition
ZnO thin films
annealing
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响
朱道云
郑昌喜
王明东
陈弟虎
何振辉
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
2
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职称材料
2
阴极真空电弧沉积MgO薄膜的椭偏光谱研究
刘毅
林晓东
朱道云
陈弟虎
何振辉
《中山大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2007
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
退火对电弧离子镀制备的ZnO薄膜的影响
王明东
郑婷
朱道云
何振辉
陈弟虎
闻立时
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
0
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