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基于阱式阶梯电子阻挡层的深紫外激光二极管性能研究
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作者 魏士钦 王瑶 +3 位作者 王梦真 王芳 刘俊杰 刘玉怀 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第1期62-68,共7页
为有效降低深紫外激光二极管(DUV-LD)在有源区的电子泄露,提出了一种阱式阶梯电子阻挡层(EBL)结构。利用Crosslight软件对矩形、阶梯形和阱式阶梯形三种不同的结构分别进行了仿真研究,详细对比分析了三种结构器件的能带图、辐射复合率... 为有效降低深紫外激光二极管(DUV-LD)在有源区的电子泄露,提出了一种阱式阶梯电子阻挡层(EBL)结构。利用Crosslight软件对矩形、阶梯形和阱式阶梯形三种不同的结构分别进行了仿真研究,详细对比分析了三种结构器件的能带图、辐射复合率、电子空穴浓度、P−I以及V−I特性等,结果表明阱式阶梯EBL对电子的泄露抑制效果最好,从而使得器件的光学和电学性能得到优化。 展开更多
关键词 激光技术 深紫外激光二极管 ALGAN 阱式阶梯电子阻挡层 电子泄露
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