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闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB铣刀上的应用与研究被引量：1: 1; 作者李凌文晓斌李小泉《印制电路信息》 2006年第1期43-45,共3页; 介绍了通过闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备出的超硬纳米梯度复合镀层在PCB铣刀上的应用,实验结果证明,镀层后铣刀的寿命提高到原来的4倍以上。采用SEM和TEM法,分析了镀层的组织与相结构,揭示了镀层提高铣刀寿命的原因。; 关键词 PCB铣刀闭合场非平衡磁控溅射离子镀超硬纳米梯度复合镀层 CrAITiN; 在线阅读下载PDF 职称材料

闭合场非平衡磁控溅射离子镀复合金属镀层在PCB微钻中的应用被引量：4: 2; 作者种艳琳李小泉《印制电路信息》 2006年第4期35-39,共5页; 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB微钻上进行复合金属镀层处理,通过与无镀层微钻进行钻削试验对比,结果表明:复合金属镀层微钻使用寿命与未镀层微钻相比,可提高4倍;具有纳米结构的高硬度复合金属镀层显著提高了微钻的耐磨性。; 关键词闭合场非平衡磁控溅射离子镀复合金属镀层 PCB微钻; 在线阅读下载PDF 职称材料

闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述被引量：2: 3; 作者巩中宣《内燃机与配件》 2013年第1期19-21,24,共4页; 2磁控溅射离子镀2．1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀（MSIP）是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺，它把磁控溅射的优点（成膜速率高、源为大平面源，有利于膜层厚度均匀）和离子镀过程的优点（能改变膜基界面的结合形式，提高膜基附... 展开更多; 关键词闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术镀膜工艺膜层厚度负偏压附着力成膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

直流磁控溅射研究进展被引量：13: 4; 作者石永敬龙思远 +1 位作者王杰潘复生《材料导报》 CSCD 北大核心 2008年第1期65-69,共5页; 直流磁控溅射是重要的物理气相沉积技术,广泛应用在工业生产和科学研究中。主要评论了近年来直流磁控溅射技术在溅射机理和非平衡闭合磁控靶等方面取得的重要进展,并评述了脉冲磁控模式和基于闭合磁场直流磁控溅射沉积涂层的结构区域模... 展开更多; 关键词磁控溅射非平衡闭合磁场脉冲薄膜结构; 在线阅读下载PDF 职称材料

先进表面工程技术的发展前沿被引量：1: 5; 作者梁文萍缪强 +1 位作者张平则姚正军《山西能源与节能》 2010年第4期72-75,86,共5页; 叙述了表面工程的分类及各种表面工程技术的应用现状和发展趋势,指出,双层辉光等离子表面冶金技术、激光表面冶金技术、离子注入、加弧辉光离子渗镀技术和闭合场非平衡磁控溅射等先进技术是表面工程技术研究应用的前沿。; 关键词表面工程技术双层辉光等离子表面冶金技术激光表面冶金技术离子注入加弧辉光离子渗镀技术闭合场非平衡磁控溅射; 在线阅读下载PDF 职称材料

在聚四氟乙烯基体上氧化铝涂层的反应沉积: 6; 作者彭补之《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期70-70,共1页; 关键词聚四氟乙烯基体氧化铝涂层反应沉积闭合场非平衡磁控溅射装置反应溅射技术; 在线阅读下载PDF 职称材料

CrAlTiN镀层在精密铣刀上的应用研究被引量：4: 7; 作者李凌蒋百灵白力静《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期56-59,共4页; 介绍了通过闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备出的CrA lTiN超硬纳米梯度复合镀层在铣刀上的应用,试验结果表明,铣刀在离子镀处理之后寿命提高为原来的3倍。采用SEM和TEM分析了镀层铣刀磨损后的表面形貌及无镀层铣刀的失效方式,揭示了... 展开更多; 关键词 CrAlTiN镀层铣刀闭合场非平衡磁控溅射离子镀耐磨性; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB铣刀上的应用与研究被引量：1: 1; 作者李凌文晓斌李小泉; 机构西安理工大学材料科学与工程学院东莞秦人科技有限公司; 出处《印制电路信息》 2006年第1期43-45,共3页; 文摘介绍了通过闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备出的超硬纳米梯度复合镀层在PCB铣刀上的应用,实验结果证明,镀层后铣刀的寿命提高到原来的4倍以上。采用SEM和TEM法,分析了镀层的组织与相结构,揭示了镀层提高铣刀寿命的原因。; 关键词 PCB铣刀闭合场非平衡磁控溅射离子镀超硬纳米梯度复合镀层 CrAITiN; Keywords router for PCB closed field unbalanced magnetron sputter ion plating nano-scale graded hard coating CrAITiN; 分类号 TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学] TQ021.3 [化学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名闭合场非平衡磁控溅射离子镀复合金属镀层在PCB微钻中的应用被引量：4: 2; 作者种艳琳李小泉; 机构西安理工大学材料科学与工程学院东莞秦人科技有限公司; 出处《印制电路信息》 2006年第4期35-39,共5页; 文摘采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB微钻上进行复合金属镀层处理,通过与无镀层微钻进行钻削试验对比,结果表明:复合金属镀层微钻使用寿命与未镀层微钻相比,可提高4倍;具有纳米结构的高硬度复合金属镀层显著提高了微钻的耐磨性。; 关键词闭合场非平衡磁控溅射离子镀复合金属镀层 PCB微钻; Keywords closed field unbalanced magnetron sputter ion plating multiple metal coating PCB micro-drill; 分类号 TQ021.3 [化学工程] TQ153 [化学工程—电化学工业]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述被引量：2: 3; 作者巩中宣; 机构浙江汇锦梯尔镀层科技有限公司; 出处《内燃机与配件》 2013年第1期19-21,24,共4页; 文摘 2磁控溅射离子镀2．1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀（MSIP）是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺，它把磁控溅射的优点（成膜速率高、源为大平面源，有利于膜层厚度均匀）和离子镀过程的优点（能改变膜基界面的结合形式，提高膜基附着力，膜层组织致密等）结合在一起。; 关键词闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术镀膜工艺膜层厚度负偏压附着力成膜; 分类号 TQ153 [化学工程—电化学工业]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名直流磁控溅射研究进展被引量：13: 4; 作者石永敬龙思远王杰潘复生; 机构重庆大学机械学院重庆硅酸盐研究所重庆硅酸盐研究所重庆大学材料学院; 出处《材料导报》 CSCD 北大核心 2008年第1期65-69,共5页; 基金重庆市科技攻关项目重庆大学研究生院创新基金重点项目(200609Y180060165); 文摘直流磁控溅射是重要的物理气相沉积技术,广泛应用在工业生产和科学研究中。主要评论了近年来直流磁控溅射技术在溅射机理和非平衡闭合磁控靶等方面取得的重要进展,并评述了脉冲磁控模式和基于闭合磁场直流磁控溅射沉积涂层的结构区域模型。直流非平衡磁控溅射是直流磁控溅射技术中的重要里程碑,使磁控溅射技术直接过渡到离子镀阶段,而脉冲磁控溅射技术为稳定沉积高质量的非导电涂层作出了重要的贡献。; 关键词磁控溅射非平衡闭合磁场脉冲薄膜结构; Keywords magnetron sputtering, unbalanced closed field, pulsed, thin film structure; 分类号 TB43 [一般工业技术]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名先进表面工程技术的发展前沿被引量：1: 5; 作者梁文萍缪强张平则姚正军; 机构南京航空航天大学材料科学与技术学院; 出处《山西能源与节能》 2010年第4期72-75,86,共5页; 文摘叙述了表面工程的分类及各种表面工程技术的应用现状和发展趋势,指出,双层辉光等离子表面冶金技术、激光表面冶金技术、离子注入、加弧辉光离子渗镀技术和闭合场非平衡磁控溅射等先进技术是表面工程技术研究应用的前沿。; 关键词表面工程技术双层辉光等离子表面冶金技术激光表面冶金技术离子注入加弧辉光离子渗镀技术闭合场非平衡磁控溅射; Keywords advanced surface engineering technologies double glow plasma surface alloying laser surface alloying ion implantation arc-glow plasma depositing closed-field unbalance magnetic controlling sputter; 分类号 TG17 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名在聚四氟乙烯基体上氧化铝涂层的反应沉积: 6; 作者彭补之; 出处《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期70-70,共1页; 关键词聚四氟乙烯基体氧化铝涂层反应沉积闭合场非平衡磁控溅射装置反应溅射技术; 分类号 TQ320.672 [化学工程—合成树脂塑料工业] TQ325.4 [化学工程—合成树脂塑料工业]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名CrAlTiN镀层在精密铣刀上的应用研究被引量：4: 7; 作者李凌蒋百灵白力静; 机构西安理工大学材料科学与工程学院; 出处《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期56-59,共4页; 文摘介绍了通过闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备出的CrA lTiN超硬纳米梯度复合镀层在铣刀上的应用,试验结果表明,铣刀在离子镀处理之后寿命提高为原来的3倍。采用SEM和TEM分析了镀层铣刀磨损后的表面形貌及无镀层铣刀的失效方式,揭示了镀层提高铣刀寿命的原因。; 关键词 CrAlTiN镀层铣刀闭合场非平衡磁控溅射离子镀耐磨性; Keywords CrAlTiN composite coating milling cutter closed field unbalanced magnetron sputter ion plating: wear resistance; 分类号 TG714 [金属学及工艺—刀具与模具]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB铣刀上的应用与研究	李凌文晓斌李小泉	《印制电路信息》	2006	1	在线阅读下载PDF 职称材料
2	闭合场非平衡磁控溅射离子镀复合金属镀层在PCB微钻中的应用	种艳琳李小泉	《印制电路信息》	2006	4	在线阅读下载PDF 职称材料
3	闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述	巩中宣	《内燃机与配件》	2013	2	在线阅读下载PDF 职称材料
4	直流磁控溅射研究进展	石永敬龙思远王杰潘复生	《材料导报》 CSCD 北大核心	2008	13	在线阅读下载PDF 职称材料
5	先进表面工程技术的发展前沿	梁文萍缪强张平则姚正军	《山西能源与节能》	2010	1	在线阅读下载PDF 职称材料
6	在聚四氟乙烯基体上氧化铝涂层的反应沉积	彭补之	《材料保护》 CAS CSCD 北大核心	2002	0	在线阅读下载PDF 职称材料
7	CrAlTiN镀层在精密铣刀上的应用研究	李凌蒋百灵白力静	《材料保护》 CAS CSCD 北大核心	2007	4	在线阅读下载PDF 职称材料