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电子回旋共振等离子体辅助溅射沉积锂磷氧氮薄膜
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作者 李驰麟 傅正文 +1 位作者 舒兴胜 任兆杏 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期193-198,共6页
用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮 (LiPON)薄膜. X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、紫外可见吸收光谱等手段表征了在不同ECR功率辅助下沉积的薄膜.结果显示,ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜... 用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮 (LiPON)薄膜. X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、紫外可见吸收光谱等手段表征了在不同ECR功率辅助下沉积的薄膜.结果显示,ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜的生长有明显的影响,能够提高N的插入量,改变薄膜的组成与结构.但是过高的ECR功率反而易破坏薄膜的结构,不利于N的插入.最佳的实验条件是在ECR 200W辅助下沉积的LiPON薄膜, 它的电导率约为8×10-6S/cm.讨论了ECR对沉积LiPON薄膜的N插入机理. 展开更多
关键词 磷氧氮薄膜 溅射沉积 电子回旋共振 锂离子传导率
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