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生长温度对In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP的LPMOCVD生长影响 被引量:3
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作者 缪国庆 金亿鑫 +4 位作者 蒋红 周天明 李树玮 元光 宋航 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期465-468,共4页
利用LPMOCVD技术在InP衬底生长了InxGa1-xAs材料 ,获得表面平整、光亮的In0 53 Ga0 47As外延层。研究了生长温度对InxGa1-xAs外延层组分、表面形貌、结晶质量、电学性质的影响。随着生长温度的升高 ,为了保证铟在固相中组分不变 ,必... 利用LPMOCVD技术在InP衬底生长了InxGa1-xAs材料 ,获得表面平整、光亮的In0 53 Ga0 47As外延层。研究了生长温度对InxGa1-xAs外延层组分、表面形貌、结晶质量、电学性质的影响。随着生长温度的升高 ,为了保证铟在固相中组分不变 ,必须增加三甲基铟在气相中的比例。在生长温度较高时 ,外延层表面粗糙。生长温度在 6 30℃与 6 5 0℃之间 ,X射线双晶衍射曲线半高宽最窄 ,高于或低于这个温度区间 ,半高宽变宽。迁移率随着生长温度的升高而增加 ,在 6 30℃为最大值 ,然后随着生长温度的升高反而降低。生长温度降低使载流子浓度增大 ,在生长温度大于 6 展开更多
关键词 IN0.53GA0.47AS/INP LPMOCVD 铟镓砷化合物 生长温度 低压金属有机化学气相沉积 半导体材料 磷化铟衬底
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多元合金异质结In_xGa_(1-x)As/In_xAl_(1-x)As的价带偏移
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作者 郑金成 郑永梅 王仁智 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期47-51,共5页
采用LMTO-ASA能带计算方法,研究三元合金InlGa4-lAs4和InlAl4-lAs4(l=0,1,2,3,4等五个有序态)的能带结构和平均键能Em;在此基础上,将原子集团展开与平均键能方法结合起来计算了Inx... 采用LMTO-ASA能带计算方法,研究三元合金InlGa4-lAs4和InlAl4-lAs4(l=0,1,2,3,4等五个有序态)的能带结构和平均键能Em;在此基础上,将原子集团展开与平均键能方法结合起来计算了InxGa1-xAs/InxAl1-xAs异质结的价带偏移ΔEv(x)值.研究表明:该异质结的ΔEv(x)值随合金组分x的变化接近于线性;ΔEv(x)的理论计算值与实验结果相当符合. 展开更多
关键词 异质结 价带偏移 半导体 铟镓砷化合物
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应变超晶格(In_xGa_(1-x)As)_n/(GaAs)_n(001)的电子结构和光学性质
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作者 李开航 黄美纯 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1999年第2期209-215,共7页
用半经验的紧束缚方法sp3s*计算了薄层应变超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n(001)的电子结构.给出了组份X为0.53的超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n的带隙值随层厚n的变化关系,以... 用半经验的紧束缚方法sp3s*计算了薄层应变超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n(001)的电子结构.给出了组份X为0.53的超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n的带隙值随层厚n的变化关系,以及超晶格(InxGa1-xAs)12/(GaAs)12的带隙值随组份X的变化关系.在得到超晶格能量本征值和本征函数的基础上,计算了该超晶格系统的光学介电函数虚部,并与体材料GaAs和体合金InxGa1-xAs的光学性质作了比较.计算结果表明,应变超晶格在较宽的能量范围有较好的光谱响应. 展开更多
关键词 光学性质 应变超晶格 化镓 铟镓砷化合物
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原子集团展开和平均键能方法在In_xGa_(1-x)As/GaAs系统中的应用
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作者 柯三黄 王仁智 黄美纯 《厦门大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 1996年第2期204-209,共6页
把原子集团展开方法同平均键能方法相结合,建立了一种研究合金型应变层异质界面价带偏移的方法.应用此方法对InxGa1-xAs/GaAs系统分别计算了以GaAs和以InxGa1-xAs为衬底的两种不同的应变状态下的价带偏... 把原子集团展开方法同平均键能方法相结合,建立了一种研究合金型应变层异质界面价带偏移的方法.应用此方法对InxGa1-xAs/GaAs系统分别计算了以GaAs和以InxGa1-xAs为衬底的两种不同的应变状态下的价带偏移(△Ev)随合金组份的变化规律.结果表明,由于应变的引入,该系统的面△Ev~X表现出大的非线性,且这一关系受到应变状态的显著影响.通过改变应变状态可使其为Ⅰ型或Ⅱ型超晶格以及金属.部分结果与有关的实验值和理论结果相符合. 展开更多
关键词 铟镓砷化合物 原子集团展开 化镓 平均键能
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无杂质空位扩散法造成InGaAsP/InP多量子阱结构带隙蓝移规律的研究 被引量:1
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作者 张晓丹 赵杰 +1 位作者 王永晨 金鹏 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期119-123,共5页
采用光荧光谱 (PL)和光调制反射谱 (PR)的方法 ,研究了由Si3 N4 、SiO2 电介质盖层引起的无杂质空位(IFVD)诱导的InGaAsP四元化合物半导体多量子阱 (MQWs)结构的带隙蓝移。实验中Si3 N4 、SiO2 作为电介质盖层 ,用来产生空位 ,再经过快... 采用光荧光谱 (PL)和光调制反射谱 (PR)的方法 ,研究了由Si3 N4 、SiO2 电介质盖层引起的无杂质空位(IFVD)诱导的InGaAsP四元化合物半导体多量子阱 (MQWs)结构的带隙蓝移。实验中Si3 N4 、SiO2 作为电介质盖层 ,用来产生空位 ,再经过快速热退火处理 (RTA)。实验结果表明 :多量子阱结构带隙蓝移和退火温度、复合盖层的组合有关。带隙蓝移随退火温度的升高而加大。InP、Si3 N4 复合盖层产生的带隙蓝移量大于InP、SiO2 复合盖层。而InGaAs、SiO2 复合盖层产生的带隙蓝移量则大于InGaAs、Si3 N4 复合盖层。同时 ,光调制反射谱的测试结果与光荧光测试的结果基本一致 ,因此 。 展开更多
关键词 无杂质空位诱导无序 光荧光谱 光调制反射谱 铟镓化合物 磷化铟 多量子阱结构 单片集成光电器件
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