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UV/H_2O_2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水的研究
被引量：
1
1
作者
刘新秀
王英华
+1 位作者
刘勇弟
孙贤波
《环境污染与防治》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第12期69-72,共4页
含铜电镀废水中酒石酸等络合剂的存在,使得采用普通氢氧化物或硫化物沉淀法难以满足达标排放的要求。采用UV/H2O2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水,考察了光照时间、初始pH、H2O2投加量等因素对处理过程的影响。结果表明,...
含铜电镀废水中酒石酸等络合剂的存在,使得采用普通氢氧化物或硫化物沉淀法难以满足达标排放的要求。采用UV/H2O2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水,考察了光照时间、初始pH、H2O2投加量等因素对处理过程的影响。结果表明,对于铜-酒石酸络合体系(酒石酸质量浓度为418mg/L,CuSO4·5H2O质量浓度为196mg/L),得出的最佳处理条件为:光照时间70min,H2O2投加量1.07g/L,初始pH 3.0,出水中铜质量浓度可以低于0.3mg/L的排放标准,为后续工业化应用奠定了基础。
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关键词
UV/H2O2
-
NaOH
电镀废水
铜-酒石酸络合体系
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职称材料
题名
UV/H_2O_2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水的研究
被引量：
1
1
作者
刘新秀
王英华
刘勇弟
孙贤波
机构
华东理工大学资源与环境工程学院
上海重金属污染控制与资源化工程技术研究中心
出处
《环境污染与防治》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第12期69-72,共4页
基金
上海重金属污染防治与资源化工程技术研究中心课题(No.11DZ2282600)
文摘
含铜电镀废水中酒石酸等络合剂的存在,使得采用普通氢氧化物或硫化物沉淀法难以满足达标排放的要求。采用UV/H2O2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水,考察了光照时间、初始pH、H2O2投加量等因素对处理过程的影响。结果表明,对于铜-酒石酸络合体系(酒石酸质量浓度为418mg/L,CuSO4·5H2O质量浓度为196mg/L),得出的最佳处理条件为:光照时间70min,H2O2投加量1.07g/L,初始pH 3.0,出水中铜质量浓度可以低于0.3mg/L的排放标准,为后续工业化应用奠定了基础。
关键词
UV/H2O2
-
NaOH
电镀废水
铜-酒石酸络合体系
Keywords
UV/H2O2
-
NaOH
electroplating wastewater
tartaric acid
-
copper complex system
分类号
X781.1 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
UV/H_2O_2-NaOH沉淀法处理铜-酒石酸络合体系模拟电镀废水的研究
刘新秀
王英华
刘勇弟
孙贤波
《环境污染与防治》
CAS
CSCD
北大核心
2014
1
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