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题名钛基片的化学机械抛光技术研究
被引量：5
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作者
戴媛静
裴惠芳
潘国顺
刘岩
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机构
清华大学摩擦学国家重点实验室
深圳清华大学研究院
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出处
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期131-136,共6页
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基金
国家自然科学基金委员会与广东省政府自然科学联合基金重点项目(U0635002)
国家自然科学基金项目(50775122)
+2 种基金
广东省自然科学基金项目(8251805701000001)
国家高技术研究发展计划(863计划)(2009AA043101)
创新群体项目(50721004)资助~~
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文摘
采用化学机械抛光(CMP)方法对钛基片进行纳米级平坦化处理,通过系列抛光试验优化抛光液组成和抛光工艺条件后,得到AFM-Ra为0.159 nm的纳米级抛光表面和156.5 nm/min的抛光速率.抛光液的电化学分析结果表明:二氧化硅颗粒和乳酸在钛表面有不同程度的吸附缓蚀作用,氨水和F-的络合、扩散作用能破坏缓蚀膜层,两者的中间平衡状态才能得到最佳抛光效果.抛光后钛表层XPS测试结果显示钛表层经过化学氧化形成疏松氧化层后,再通过磨粒和抛光垫的机械作用去除.
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关键词
钛基片
化学机械抛光
纳米级粗糙度
抛光机理
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Keywords
titanium substrate
CMP
nanoscale roughness
planarization mechanism
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分类号
TN305.2
[电子电信—物理电子学]
TH117.3
[机械工程—机械设计及理论]
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题名纯钛表面制备钛酸钡薄膜的技术参数研究
被引量：2
- 2
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作者
王慧
吴文慧
岳奇
陈浩哲
杨红光
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机构
河北联合大学口腔医学院
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第6期69-72,共4页
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文摘
目的探讨在纯钛基片上制备钛酸钡薄膜的技术参数,为增强钛瓷结合强度奠定研究基础。方法以碳酸钡和钛酸丁酯为原料,利用溶胶-凝胶法在纯钛基片上制备钛酸钡薄膜,对比不同浓度溶胶、不同干燥机制条件下制备的薄膜的质量。结果 180℃干燥、380℃热处理、升温速率6℃/min和120℃干燥、300℃热处理、升温速率3℃/min两种条件相比,前一种条件制备的薄膜退火后开裂程度大。采用0.3 mol/L钛酸钡溶胶,在后一种条件下制备的薄膜基本完好,无裂纹;而采用0.35 mol/L钛酸钡溶胶,在相同条件下制备的薄膜裂纹较明显。结论采用0.3 mol/L钛酸钡溶胶,在120℃干燥、300℃热处理、升温速率3℃/min的条件下制备薄膜,薄膜质量最佳。
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关键词
纯钛基片
钛酸钡薄膜
溶胶-凝胶法
制备参数
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Keywords
titanium substrate
barium titanate films
sol-gel method
preparation parameters
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分类号
TG174.45
[金属学及工艺—金属表面处理]
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