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Nafion修饰金膜玻碳电极溶出伏安法测定痕量Se(Ⅳ)的研究 被引量:3
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作者 汪振辉 张宏忠 周漱萍 《理化检验(化学分册)》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第11期494-497,共4页
提出了Nafion修饰金膜玻碳电极测定痕量硒的新方法。在0.1mol·L^(-1)硫酸和0.01mol·L^(-1)硝酸钠的介质中,Se(Ⅳ)浓度在5.0×10^(-10)~2.5×10^(-8)mol·L^(-1)范围与二次导数峰电流呈良好线性关系,测定下限为5.... 提出了Nafion修饰金膜玻碳电极测定痕量硒的新方法。在0.1mol·L^(-1)硫酸和0.01mol·L^(-1)硝酸钠的介质中,Se(Ⅳ)浓度在5.0×10^(-10)~2.5×10^(-8)mol·L^(-1)范围与二次导数峰电流呈良好线性关系,测定下限为5.0×10^(-10)mol·L^(-1)(电积2min)。对含硒量为1.3×10^(-8)mol·L^(-1)溶液,相对标准偏差为3.7%(n=12)。电极修饰后方法的选择性、灵敏度、重现性和分辨率都有改善。方法已成功地用于猪肾和不同人发中的硒含量测定。 展开更多
关键词 修饰电极 溶出伏安法 NAFION 金膜玻碳电极
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