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采用磁过滤MEVVA源制备DLC膜的研究 被引量:4
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作者 张旭 张通和 +2 位作者 易仲珍 张荟星 王广甫 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期478-481,共4页
采用磁过滤MEVVA沉积技术以石墨为阴极在几种衬底表面 (单晶硅、不锈钢和工具钢等 )上制备高质量类金刚石 (DLC)薄膜。实验结果表明 ,沉积能量对薄膜的sp3键含量的影响为先随能量的增加而增加 ,达到最大值后 ,再增加沉积能量含量反而下... 采用磁过滤MEVVA沉积技术以石墨为阴极在几种衬底表面 (单晶硅、不锈钢和工具钢等 )上制备高质量类金刚石 (DLC)薄膜。实验结果表明 ,沉积能量对薄膜的sp3键含量的影响为先随能量的增加而增加 ,达到最大值后 ,再增加沉积能量含量反而下降。硬度测试结果表明 ,非晶金刚石薄膜具有极高的硬度 ,为 70~ 78GPa ,远远高于衬底材料的硬度值 .对非晶金刚石薄膜的摩擦性能试验结果表明 ,非晶金刚石薄膜的摩擦因数为 0 .16~ 0 .2 ,大大低于衬底材料 . 展开更多
关键词 磁过滤 MEVVA源 制备 DLC膜 类金刚石膜 金属蒸汽真空弧沉积 非晶金刚石薄膜 耐磨损性能
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