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1
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光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN |
周玉刚
李卫平
沈波
陈鹏
陈志忠
臧岚
张荣
顾书林
施毅
郑有翀
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《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
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2000 |
0 |
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2
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金属有机物化学气相沉积法沉积镍膜的影响因素 |
刘世良
赵立峰
彭冬生
谢长生
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
4
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3
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金属有机化合物化学气相淀积含钛硬质涂层的性能研究 |
周定为
韩杰
袁渭康
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1990 |
1
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4
|
金属有机化合物化学气相淀积含钛硬质涂层的过程研究 |
周定为
韩杰
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1990 |
0 |
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5
|
金属有机物脉冲化学气相沉积陶瓷薄膜的生长速率及形貌 |
彭补之
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2002 |
0 |
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6
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液态源金属有机物化学气相沉积设备 |
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《西安工业大学学报》
CAS
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2006 |
0 |
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7
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化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅰ.TiO_2超细粒子的制备 |
胡黎明
李春忠
姚光辉
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
7
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8
|
高频等离子体化学气相淀积法制备TiO_2超细粒子 |
朱宏杰
王新
李春忠
胡黎明
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《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
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1994 |
8
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9
|
化学气相淀积反应器内TiCl_4氧化反应动力学 |
王松
胡黎明
郑柏存
古宏晨
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
5
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10
|
TiCl_4-O_2-H_2O体系化学气相淀积TiO_2超细粒子 |
姚光辉
李春忠
胡黎明
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
7
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11
|
氯参与的化学气相淀积金刚石的热力学分析 |
刘志杰
张卫
张剑云
万永中
王季陶
曹传宝
朱鹤孙
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《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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1999 |
1
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12
|
化学气相淀积在无机新材料制备中的应用 |
郭新
袁润章
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《材料科学与工程》
CSCD
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1994 |
13
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13
|
弛豫锗硅减压化学气相淀积的CFD模型及仿真 |
戴显英
郑若川
郭静静
张鹤鸣
郝跃
邵晨峰
吉瑶
杨程
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《西安电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2012 |
1
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14
|
化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅲ.TiO_2超细粒子晶体组成 |
胡黎明
古宏晨
李春忠
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
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1992 |
2
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15
|
SnO_2薄膜的化学气相淀积 Ⅰ.SnO_2薄膜的制备过程动力学 |
姚光辉
韩杰
袁渭康
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《华东化工学院学报》
CSCD
|
1990 |
3
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16
|
卤素原子在化学气相淀积金刚石薄膜过程中的作用 |
刘志杰
张卫
万永中
王季陶
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《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
|
1998 |
1
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17
|
AlCl_3-NH_3-N_2体系化学气相淀积AIN超细粒子 Ⅱ.AIN的粒度及分布模型 |
李春忠
姚光辉
胡黎明
袁渭康
陈敏恒
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
1
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18
|
Al-Cl-N-H体系化学气相淀积AIN粉末的热力学研究 |
李春忠
胡黎明
姚光辉
袁渭康
陈敏恒
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《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
1
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19
|
化学气相淀积在集成电路制造后段工艺中的应用 |
易万兵
涂瑞能
张炳一
吴谨
毛杜立
邹世昌
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《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
|
2005 |
1
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20
|
低压化学气相淀积低应力氮化硅工艺研究 |
王敬轩
商庆杰
杨志
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《电子与封装》
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2021 |
4
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