期刊文献+
共找到317篇文章
< 1 2 16 >
每页显示 20 50 100
金属有机化学气相沉积法制备ZnO和ZnO:Ni薄膜及其特性分析 被引量:4
1
作者 王辉 王瑾 +7 位作者 赵洋 赵龙 赵旺 史志锋 夏晓川 马艳 杜国同 董鑫 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期2717-2720,共4页
采用金属有机化学气相沉积法制备了ZnO和ZnO∶Ni薄膜,并对它们的结构、光学和电学特性进行了对比研究.通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜的表面形貌和晶体结构进行了分析,结果表明,Ni元素的掺杂虽然降低了薄膜的晶体质量,... 采用金属有机化学气相沉积法制备了ZnO和ZnO∶Ni薄膜,并对它们的结构、光学和电学特性进行了对比研究.通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜的表面形貌和晶体结构进行了分析,结果表明,Ni元素的掺杂虽然降低了薄膜的晶体质量,但并未改变ZnO的纤锌矿结构.通过紫外-可见分光光度计对薄膜的光学特性进行了测试与分析,结果表明,ZnO∶Ni薄膜在可见光区的平均透过率可达90%,优于ZnO薄膜在可见光区的平均透过率(85%).霍尔(Hall)测试显示ZnO∶Ni薄膜的导电类型仍为n型,但其电阻率已经明显增加,载流子浓度也远低于未掺杂ZnO薄膜的载流子浓度,说明Ni元素的掺杂对ZnO薄膜的特性产生了很大影响. 展开更多
关键词 ZNO薄膜 ZnO∶Ni薄膜 金属有机化学沉积 透过率
在线阅读 下载PDF
金属有机化学气相沉积法制备SnO_2/MCM-41半导体传感器及其性能研究 被引量:2
2
作者 刘秀丽 高国华 KAWI Sibudjing 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第9期1609-1612,共4页
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法制备了SnO2/MCM-41半导体传感器,考察了沉积时间和沉积温度对SnO2/MCM-41半导体传感器的SnO2沉积量、比表面积和孔径的影响;研究发现,随着SnO2沉积量的增加,孔径有规律地下降,说明SnO2较均匀地沉积在... 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法制备了SnO2/MCM-41半导体传感器,考察了沉积时间和沉积温度对SnO2/MCM-41半导体传感器的SnO2沉积量、比表面积和孔径的影响;研究发现,随着SnO2沉积量的增加,孔径有规律地下降,说明SnO2较均匀地沉积在介孔分子筛MCM-41的孔道之中.SnO2/MCM-41半导体传感器对CO和H2具有较高的传感性能,其传感性能的大小与CO和H2的浓度成正比. 展开更多
关键词 半导体传感器 介孔分子筛(MCM-41) 金属有机化学沉积(MOCVD) 二氧化锡 薄膜
在线阅读 下载PDF
金属有机化学气相沉积生长Zn_(1-x)Mn_xSe薄膜的发光和磁光性质
3
作者 鞠振刚 张吉英 +6 位作者 吕有明 申德振 姚斌 赵东旭 张振中 李炳辉 范希武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期805-809,共5页
利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法在GaAs衬底上生长了不同组分的Zn1-xMnxSe薄膜。X射线衍射和X射线摇摆曲线证明样品具有较好的结晶质量。在低温、强磁场下对样品的发光进行了研究,在带边附近观察到两个发光峰的相对强度随着磁场增... 利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法在GaAs衬底上生长了不同组分的Zn1-xMnxSe薄膜。X射线衍射和X射线摇摆曲线证明样品具有较好的结晶质量。在低温、强磁场下对样品的发光进行了研究,在带边附近观察到两个发光峰的相对强度随着磁场增强发生了变化。通过变温光谱探讨了这两个发光峰的来源,并被分别归因于自由激子跃迁和与Mn有关的束缚态激子跃迁。同时随着磁场的增强,ZnMnSe带隙发光红移是由于类S带和类P带电子与Mn离子的3d5电子的自旋交换作用。 展开更多
关键词 Zn1-xMnxSe 金属有机化学沉积(MOCVD) 光致发光 磁光性质
在线阅读 下载PDF
镍的金属有机化学气相沉积 被引量:5
4
作者 赵立峰 谢长生 《材料导报》 EI CAS CSCD 2002年第4期52-54,共3页
介绍了用MOCVD技术沉积镍膜的应用状况,以及几种典型前驱体的沉积性能。着重介绍了羰基镍的沉积特性。结合MOCVD技术的最新进展,对镍的化学气相沉积技术作了简要的展望。
关键词 金属有机化学沉积 镍薄膜 MOCVD 镍前驱体 羰基镍
在线阅读 下载PDF
光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN
5
作者 周玉刚 李卫平 +7 位作者 沈波 陈鹏 陈志忠 臧岚 张荣 顾书林 施毅 郑有翀 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第8期34-36,共3页
采用光加热低压金属有机化学气相淀积方法成功地制备出高质量的、组分均匀的AlGaN外延层。结果表明 ,铝和镓的并入效率基本相等 ,这有别于其他研究报道。此外 ,建立了铝相对镓的并入效率与气相预反应之间的关系模型 ,它表明 ,光加热对... 采用光加热低压金属有机化学气相淀积方法成功地制备出高质量的、组分均匀的AlGaN外延层。结果表明 ,铝和镓的并入效率基本相等 ,这有别于其他研究报道。此外 ,建立了铝相对镓的并入效率与气相预反应之间的关系模型 ,它表明 ,光加热对预反应有较大的影响。结合GaN的生长可以看出 ,光加热有利于抑制预反应 ,从而有利于提高样品质量和铝组分的均匀性。 展开更多
关键词 ALGAN GAN 金属有机化学淀积 寄生反应 光加热
在线阅读 下载PDF
温度对GaAs(100)晶面上金属有机化学气相沉积TiO2薄膜生长的影响
6
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期77-77,共1页
关键词 温度 GaAs(100)晶面 低压金属有机化学沉积 TIO2 薄膜生长 影响
在线阅读 下载PDF
金属有机物化学气相沉积法沉积镍膜的影响因素 被引量:4
7
作者 刘世良 赵立峰 +1 位作者 彭冬生 谢长生 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期4-6,共3页
为了获得高速沉积镍膜的工艺参数 ,以羰基镍 [Ni(CO) 4 ]为前驱体 ,用金属有机物化学气相沉积法进行试验 ,以SEM ,DSC ,XRD测试分析技术探讨了载气、温度和羰基镍的摩尔分数对沉积速率的影响 ;也探讨了温度及羰基镍的摩尔分数对镍膜微... 为了获得高速沉积镍膜的工艺参数 ,以羰基镍 [Ni(CO) 4 ]为前驱体 ,用金属有机物化学气相沉积法进行试验 ,以SEM ,DSC ,XRD测试分析技术探讨了载气、温度和羰基镍的摩尔分数对沉积速率的影响 ;也探讨了温度及羰基镍的摩尔分数对镍膜微观形貌的影响。结果表明 ,以氩气为载气比氦气为载气更容易获得高沉积速率 ;在沉积温度为 15 0℃左右可获得沉积速率较快、微观形貌较好的薄膜 ;随羰基镍摩尔分数的增加 ,沉积速率也明显增大 ,同时薄膜的微观形貌也变得较为粗大 ,但达到 30 %之后 ,沉积速率增速减缓。 展开更多
关键词 化学沉积 金属有机 羰基镍 镍膜
在线阅读 下载PDF
用化学气相沉积方法在石墨表面沉积钨涂层的研究 被引量:8
8
作者 刘高建 杜继红 +1 位作者 李争显 周慧 《稀有金属快报》 CSCD 2005年第3期28-30,共3页
研究了在一定温度的石墨基体表面上用化学气相沉积钨涂层的方法。通过调节氢气、氯气的气流量,控制流量比,得到了具有一定厚度、晶粒均匀致密的钨涂层,并对试验中仍需解决的问题做了讨论。
关键词 钨涂层 表面沉积 化学沉积方法 基体 晶粒 石墨 厚度 研究
在线阅读 下载PDF
金属有机物脉冲化学气相沉积陶瓷薄膜的生长速率及形貌
9
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2002年第12期68-68,共1页
关键词 金属有机 脉冲化学沉积 陶瓷薄膜 生长速率 形貌
在线阅读 下载PDF
液态源金属有机物化学气相沉积设备
10
《西安工业大学学报》 CAS 2006年第4期360-360,共1页
关键词 沉积设备 金属有机 化学 可编程逻辑控制器 液态源 自动化程度 人机界面 结构紧凑
在线阅读 下载PDF
石墨烯纤维材料的化学气相沉积生长方法 被引量:15
11
作者 程熠 王坤 +1 位作者 亓月 刘忠范 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2022年第2期34-48,共15页
石墨烯纤维材料是以石墨烯为主要结构基元沿某一特定方向组装而成或由石墨烯包覆纤维状基元形成的宏观一维材料。根据组成基元的不同可将石墨烯纤维材料分为石墨烯纤维和石墨烯包覆复合纤维。石墨烯纤维材料在一维方向上充分发挥了石墨... 石墨烯纤维材料是以石墨烯为主要结构基元沿某一特定方向组装而成或由石墨烯包覆纤维状基元形成的宏观一维材料。根据组成基元的不同可将石墨烯纤维材料分为石墨烯纤维和石墨烯包覆复合纤维。石墨烯纤维材料在一维方向上充分发挥了石墨烯高强度、高导电、高导热等特点,在智能纤维与织物、柔性储能器件、便携式电子器件等领域具有广阔的应用前景。随着化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)制备石墨烯薄膜技术的发展,CVD技术也逐渐应用于石墨烯纤维材料的制备。利用CVD法制备石墨烯纤维可避免传统纺丝工艺中繁琐的氧化石墨烯(Graphene Oxide,GO)还原过程。同时,通过CVD法直接将石墨烯沉积至纤维表面可以保证石墨烯与纤维基底之间强的粘附作用,提高复合纤维的稳定性,同时可实现对石墨烯质量的有效调控。本文综述了石墨烯纤维材料的CVD制备方法,石墨烯纤维材料优异的力学、电学、光学性质及其在智能传感、光电器件、柔性电极等领域的应用,并展望了CVD法制备石墨烯纤维材料未来的发展方向。 展开更多
关键词 化学沉积 石墨烯纤维 石墨烯玻璃纤维 石墨烯金属纤维
在线阅读 下载PDF
化学气相沉积法制备钨管性能研究 被引量:5
12
作者 马捷 魏建忠 +1 位作者 王从曾 范爱玲 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期703-706,共4页
以WF6、H2为原料,采用化学气相沉积法沉积制备出不同直径难熔金属钨管。对不同沉积温度(500℃,600℃,700℃)沉积制备钨管的纯度、密度、显微硬度、残余应力及钨管强度进行了测试与分析研究。研究结果表明:沉积制备钨管具有高纯度和高致... 以WF6、H2为原料,采用化学气相沉积法沉积制备出不同直径难熔金属钨管。对不同沉积温度(500℃,600℃,700℃)沉积制备钨管的纯度、密度、显微硬度、残余应力及钨管强度进行了测试与分析研究。研究结果表明:沉积制备钨管具有高纯度和高致密度;随着沉积温度、钨管半径(3~20 mm)不同,显微硬度值在500~800 HV之间;沿钨管圆周、半径方向存在较大残余应力;抗拉强度范围在300~500 MPa. 展开更多
关键词 金属材料 化学沉积 组织 性能
在线阅读 下载PDF
成膜后可以除去粉尘的化学气相沉积方法及其设备
13
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期76-76,共1页
关键词 成膜 除尘 化学沉积 方法 设备
在线阅读 下载PDF
有机气相沉积有机涂层的方法与装置
14
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期76-76,共1页
关键词 有机沉积 有机涂层 方法 装置
在线阅读 下载PDF
用电化学方法探讨钢上物理气相沉积Cr—N涂层耐蚀性能
15
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期66-66,共1页
用阴极电弧沉积方法在AISI H13钢上沉积出具有多种组织(α-Cr,CrN和Cr12N)的Cr-N涂层,并探讨了在室温3.5%NaCl溶液中的耐蚀性能,通过动电位极化试验,电化学感抗谱和扫描电镜技术观测其腐蚀行为,发现,CrN涂层较其他组织具有较... 用阴极电弧沉积方法在AISI H13钢上沉积出具有多种组织(α-Cr,CrN和Cr12N)的Cr-N涂层,并探讨了在室温3.5%NaCl溶液中的耐蚀性能,通过动电位极化试验,电化学感抗谱和扫描电镜技术观测其腐蚀行为,发现,CrN涂层较其他组织具有较低的极化电流密度,在Cr2N涂层中,表征其极化电阻高低的孔隙率较其他Cr-N涂层中的孔隙率高,经上述检查可以认为,CrN涂层具有致密,柱状晶体结构和少的晶间孔隙,因此,CrN涂层较其他Cr-N涂层具有较好耐蚀性能。 展开更多
关键词 化学方法 物理沉积 Cr-N涂层 耐蚀性能 阴极电弧沉积方法
在线阅读 下载PDF
膜层性能可控和高沉积速率的多层复合膜的化学气相沉积装置与方法
16
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期76-76,共1页
20030401 化学气相沉积Ti-Si-C-N新型涂层——Kao D H.TheSolid Film,2002,419(11):11(英文) 探讨了常压下TiCl_4,SiCl_4,C_2H_2,NH_3和Ar作反应气体,用化学气相沉积方法制备的Ti-Si-C-N四元复合涂层。为了降低沉积温度,改变了过去常用... 20030401 化学气相沉积Ti-Si-C-N新型涂层——Kao D H.TheSolid Film,2002,419(11):11(英文) 探讨了常压下TiCl_4,SiCl_4,C_2H_2,NH_3和Ar作反应气体,用化学气相沉积方法制备的Ti-Si-C-N四元复合涂层。为了降低沉积温度,改变了过去常用的工艺条件,以NH_3取代N_2。在不同的沉积温度和SiCl_4流量的工况下,研究了四元涂层的沉积过程。当涂层厚度为4.5~20.0μm时,生长速率较快(9.0~40.0μm/h),且与工艺参数有关。值得注意的是:在各种温度下SiCl_4的流量会影响涂层的组织、成分和生长动力学。涂层硬度为11.5~20.3GPa时,且与沉积温度和SiCl_4供量有关。 展开更多
关键词 膜层性能 可控 沉积速率 多层复合膜 化学沉积装置 方法
在线阅读 下载PDF
金属所大尺寸单晶石墨烯的化学气相沉积法制备及其无损转移取得重要进展
17
《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期146-146,共1页
最近,中科院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室先进炭材料研究部的成会明、任文才研究员带领的石墨烯研究团队,在大尺寸单晶石墨烯及其薄膜的制备和无损转移方面取得重要进展。
关键词 中科院金属研究所 大尺寸单晶 化学沉积 石墨 无损 制备 材料科学 炭材料
在线阅读 下载PDF
运用回旋加速X光分析方法研究GaN的化学气相沉积技术
18
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2002年第12期68-68,共1页
关键词 回旋加速X光分析方法 研究 GAN 化学沉积 GAN薄膜 表面结构
在线阅读 下载PDF
一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法
19
《化学分析计量》 CAS 2018年第1期38-38,共1页
本发明公开了一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法,属材料技术领域。本发明采用化学气相沉积技术,以聚对二甲苯为前驱体,以向列型液晶为模板,通过气相沉积聚合反应成功制备了聚对二甲苯纳米纤维,该制备方法具有纤维自身的... 本发明公开了一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法,属材料技术领域。本发明采用化学气相沉积技术,以聚对二甲苯为前驱体,以向列型液晶为模板,通过气相沉积聚合反应成功制备了聚对二甲苯纳米纤维,该制备方法具有纤维自身的尺寸、形貌、组成可控的特点,避免了传统静电纺丝法制备纤维存在溶剂后处理问题,环境污染严重等缺点,所得可应用于药物释放体系、组织工程、微流体装置等,具有很高的应用价值。 展开更多
关键词 化学沉积 聚对二甲苯 纳米纤维 制备方法 化学沉积技术 药物释放体系 向列型液晶 静电纺丝法
在线阅读 下载PDF
一种金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积方法及装置
20
《化学分析计量》 CAS 2018年第1期67-67,共1页
本发明提供了一种利用磁控技术提高金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积设备沉积速率的方法和装置。该方法包含以下步骤:在微波等离子体化学气相沉积工艺中利用磁场形成电子捕集阱,电子在捕集阱的约束下,在衬底上方固定区域作封闭的曲... 本发明提供了一种利用磁控技术提高金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积设备沉积速率的方法和装置。该方法包含以下步骤:在微波等离子体化学气相沉积工艺中利用磁场形成电子捕集阱,电子在捕集阱的约束下,在衬底上方固定区域作封闭的曲线运动,电子在运动过程中碰撞反应气体碰撞生成前驱反应基团和石墨组织抑制基团,从而提高反应基团浓度,实现金刚石薄膜沉积速率的提高。使用该方法的反应腔装置由微波源、螺钉调配器、定向耦合器、同轴天线、波导装置、调节活塞、谐振腔、石英罩、磁场发生装置等组成。本发明优点是可以显著提高金刚石微波等离子体化学气相沉积工艺的薄膜沉积速率,工艺和装置简单,便于实施。 展开更多
关键词 化学沉积方法 微波等离子体 金刚石薄膜 装置 反应 沉积速率 沉积工艺 沉积设备
在线阅读 下载PDF
上一页 1 2 16 下一页 到第
使用帮助 返回顶部