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光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN
1
作者 周玉刚 李卫平 +7 位作者 沈波 陈鹏 陈志忠 臧岚 张荣 顾书林 施毅 郑有翀 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2000年第8期34-36,共3页
采用光加热低压金属有机化学气相淀积方法成功地制备出高质量的、组分均匀的AlGaN外延层。结果表明 ,铝和镓的并入效率基本相等 ,这有别于其他研究报道。此外 ,建立了铝相对镓的并入效率与气相预反应之间的关系模型 ,它表明 ,光加热对... 采用光加热低压金属有机化学气相淀积方法成功地制备出高质量的、组分均匀的AlGaN外延层。结果表明 ,铝和镓的并入效率基本相等 ,这有别于其他研究报道。此外 ,建立了铝相对镓的并入效率与气相预反应之间的关系模型 ,它表明 ,光加热对预反应有较大的影响。结合GaN的生长可以看出 ,光加热有利于抑制预反应 ,从而有利于提高样品质量和铝组分的均匀性。 展开更多
关键词 ALGAN GAN 金属有机化学气相淀积 气相寄生反应 光加热
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应用材料公司推出先进化学气相淀积薄膜技术
2
《中国集成电路》 2012年第4期5-6,共2页
在日前举办的SEMICONChina上，应用材料公司向业界展示了全新等离子体增强化学气相淀积（PECVD）薄膜技术，用于制造适用于下一代平板电脑和电视的更高性能高分辨率显示。这些源自应用材料公司业界领先的AKT—PECVD系统的先进绝缘薄膜... 在日前举办的SEMICONChina上，应用材料公司向业界展示了全新等离子体增强化学气相淀积（PECVD）薄膜技术，用于制造适用于下一代平板电脑和电视的更高性能高分辨率显示。这些源自应用材料公司业界领先的AKT—PECVD系统的先进绝缘薄膜，使得基于金属氧化物的晶体管的应用成为可能，制造出尺寸更小、开关速度更快的像素，从而帮助客户推出更受消费者欢迎的高分辨率显示屏。 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相淀积 应用材料公司 薄膜技术 高分辨率 PECVD 金属氧化物 平板电脑 绝缘薄膜
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MOCVD工艺中使用的特种气体
3
作者 徐稼迟 沈能珏 《低温与特气》 CAS 1985年第4期37-39,共3页
一、引言 金属有机化学气相淀积法(简称MOCVD法)是1968年由H.M.Manasevit等首先提出的。该法以挥发性金属有机物和气态的非金属氢化物作为源材料，采用与硅外延淀积相类似的生长装置，进行化合物半导体的外延淀积。
关键词 mocvd工艺 特种气体 化学气相淀积法 mocvd法 化合物半导体 金属氢化物 金属有机物 挥发性 相类似 硅外延
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应变InGaAs/GaAs量子阱MOCVD生长优化及其在980nm半导体激光器中的应用 被引量：7
4
作者 俞波 盖红星 +6 位作者 韩军 邓军 邢艳辉 李建军 廉鹏 邹德恕 沈光地 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期81-84,共4页
使用低压MOCVD生长应变InGaAs/GaAs 980 nm量子阱。研究了生长温度、生长速度对量子阱光致发光谱(PL)的影响。并将优化后的量子阱生长条件应用于980 nm半导体激光器的研制中,获得了直流工作下,阈值电流为19 mA,未镀膜斜率效率为0.6 W/A... 使用低压MOCVD生长应变InGaAs/GaAs 980 nm量子阱。研究了生长温度、生长速度对量子阱光致发光谱(PL)的影响。并将优化后的量子阱生长条件应用于980 nm半导体激光器的研制中,获得了直流工作下,阈值电流为19 mA,未镀膜斜率效率为0.6 W/A,输出功率在100 mW的器件。 展开更多
关键词 光电子学 半导体激光器 应变量子阱 金属有机化学气相淀积
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(Al)GaInP材料的MOCVD生长研究 被引量：3
5
作者 俞波 李建军 +6 位作者 盖红星 牛南辉 邢艳辉 邓军 韩军 廉鹏 沈光地 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2005年第3期181-183,共3页
对可见光半导体光电子材料Ga0. 5In0. 5P、(AlXGa1-X)0. 5In0. 5P的MOCVD生长进行了研究。使用X射线双晶衍射和PL谱测量结合的手段,研究了生长速度和生长温度对材料质量的影响。根据测试结果优化了(Al)GaInP材料的生长速度和生长温度。... 对可见光半导体光电子材料Ga0. 5In0. 5P、(AlXGa1-X)0. 5In0. 5P的MOCVD生长进行了研究。使用X射线双晶衍射和PL谱测量结合的手段,研究了生长速度和生长温度对材料质量的影响。根据测试结果优化了(Al)GaInP材料的生长速度和生长温度。为研制出高性能的650nm半导体激光器打下良好的材料基础。 展开更多
关键词 金属有机化合物汽相淀积 ALGAINP GAINP
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TiO_2薄膜的MOCVD法制备及其退火条件的研究 被引量：2
6
作者 王栋 王民 +3 位作者 许效红 侯云 王弘 韩辉 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2002年第6期476-478,共3页
用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)法在n-Si(100)单晶衬底上制备了TiO2薄膜;利用X-射线衍射技术研究了不同条件下退火的TiO2薄膜的结晶性;通过测量C-V曲线和BT实验分别研究了TiO2/Si系统的固定电荷密度和薄膜中的可动电荷密度。实验结果... 用金属有机化合物气相淀积(MOCVD)法在n-Si(100)单晶衬底上制备了TiO2薄膜;利用X-射线衍射技术研究了不同条件下退火的TiO2薄膜的结晶性;通过测量C-V曲线和BT实验分别研究了TiO2/Si系统的固定电荷密度和薄膜中的可动电荷密度。实验结果表明,只有在一定的退火温度下薄膜才有较好的结晶性。在退火温度为850°C、退火时间为30min时,可得到完全为金红石相的TiO2薄膜,其固定电荷密度的数量级为1011/cm2,可动电荷密度在(3～4)×1011/cm2,电荷极性为正。 展开更多
关键词 TIO2薄膜 mocvd法 制备 退火条件 金属有机化合物气相淀积 X-射线衍射 BT实验 二氧化钛 栅极绝缘介质 MOS
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镁流量对MOCVD生长的P型GaN薄膜特性的影响 被引量：2
7
作者 牛南辉 王怀兵 +5 位作者 刘建平 刘乃鑫 刑燕辉 韩军 邓军 沈光地 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期375-378,共4页
利用MOCVD生长了不同Mg流量的P型GaN样品。研究了Mg流量对MOCVD生长的P型GaN薄膜的电学特性、表面形貌及晶体质量的影响。结果表明利用MOCVD制备高质量的P型GaN薄膜,Mg流量应处于一个合适的范围,Mg流量过低,薄膜的空穴浓度低,电学特性不... 利用MOCVD生长了不同Mg流量的P型GaN样品。研究了Mg流量对MOCVD生长的P型GaN薄膜的电学特性、表面形貌及晶体质量的影响。结果表明利用MOCVD制备高质量的P型GaN薄膜,Mg流量应处于一个合适的范围,Mg流量过低,薄膜的空穴浓度低,电学特性不好;Mg流量过高,则会产生大量的缺陷,晶体质量与表面形貌变差,Mg的活化率也降低,并且自补偿效应更加严重,最终使得空穴浓度降低,电学特性变差。将优化的条件应用于蓝光发光管的外延生长,并制备了器件,在20mA的注入电流下,输出功率为6.5mW,正向压降3V,反向击穿电压为20V。 展开更多
关键词 氮化镓 掺杂 金属有机物化学气相淀积
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基于模糊预测的MOCVD温度控制方法 被引量：2
8
作者 过润秋 赵恒 杜凯 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期268-272,共5页
为解决金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD)设备温度控制的非线性、时变性以及大滞后等问题,给出了一种用模糊控制和预测控制相结合的复合控制方法.该模糊预测控制在模糊控制的基础上加入预测环节,通过增加相位超前减少时间滞后所带来的... 为解决金属有机化合物化学气相淀积(MOCVD)设备温度控制的非线性、时变性以及大滞后等问题,给出了一种用模糊控制和预测控制相结合的复合控制方法.该模糊预测控制在模糊控制的基础上加入预测环节,通过增加相位超前减少时间滞后所带来的影响,准确预测温度变化趋势.与传统的控制方法相比较,具有算法简单,鲁棒性好的特点.仿真和试验表明,该方法有着较高的稳态精度和动态特性,在整个温度控制范围基本误差可达到1℃‰,有效改善了MOCVD系统温度的控制性能,对实际温度控制具有较好的指导意义. 展开更多
关键词 金属有机化合物化学气相淀积 模糊预测控制 温度控制 控制算法
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垂直式MOCVD中生长参数对GaN材料生长的影响 被引量：2
9
作者 冯兰胜 过润秋 张进成 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期178-182,共5页
为了更好地研究GaN材料生长过程,笔者对一种垂直喷淋式金属有机物化学气相淀积系统生长GaN材料过程中反应物的传递和反应过程进行了模拟.模拟结果表明,反应室压力和进入反应室的气流速度对GaN的生长速率和厚度均匀性均有影响.随着反应... 为了更好地研究GaN材料生长过程,笔者对一种垂直喷淋式金属有机物化学气相淀积系统生长GaN材料过程中反应物的传递和反应过程进行了模拟.模拟结果表明,反应室压力和进入反应室的气流速度对GaN的生长速率和厚度均匀性均有影响.随着反应气体进入反应室的速度升高,反应室内预反应会增强,GaN生长速率升高,同时GaN厚度的不均匀性也会升高;在同样的进气速率下,反应室压强减小,可在一定范围内提高GaN生长速率,但同时增加衬底中央区域厚度,导致厚度不均匀增加. 展开更多
关键词 GAN 金属有机物化学气相淀积 生长速率 反应动力学
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生长压力对MOCVD GaN材料晶体质量的影响 被引量：1
10
作者 彭大青 李忠辉 +4 位作者 李亮 孙永强 李哲洋 董逊 张东国 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期107-110,共4页
使用氮化物MOCVD外延生长系统,采用传统的两步生长法在76.2 mm c面蓝宝石衬底上生长了不同压力的GaN薄膜样品。研究发现提高高温GaN的生长压力,初期的三维生长时间增长,有利于提高GaN薄膜的晶体质量。同时采用XRD、PL谱和湿化学腐蚀方... 使用氮化物MOCVD外延生长系统,采用传统的两步生长法在76.2 mm c面蓝宝石衬底上生长了不同压力的GaN薄膜样品。研究发现提高高温GaN的生长压力,初期的三维生长时间增长,有利于提高GaN薄膜的晶体质量。同时采用XRD、PL谱和湿化学腐蚀方法研究了样品的位错特性,结果表明高压生长的样品能够降低位错密度,起到改善GaN晶体质量的作用。 展开更多
关键词 金属有机化合物化学气相淀积 氮化镓 生长压力 位错
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RAS在线监测AlGaAs的MOCVD生长(英文) 被引量：1
11
作者 徐华伟 张金龙 +2 位作者 宁永强 曾玉刚 张星 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期1297-1302,共6页
通过瞬态反射各向异性谱和瞬态反射谱在线监测和研究了AlxGa1-xAs的生长过程,利用金属有机化合物汽相淀积技术在GaAs(001)衬底上生长了多层AlxGa1-xAs结构。选择最适合在线监测生长过程的探测光能量,在此探测光能量处所得到的反射各向... 通过瞬态反射各向异性谱和瞬态反射谱在线监测和研究了AlxGa1-xAs的生长过程,利用金属有机化合物汽相淀积技术在GaAs(001)衬底上生长了多层AlxGa1-xAs结构。选择最适合在线监测生长过程的探测光能量,在此探测光能量处所得到的反射各向异性谱和反射谱的信号在生长过程中有很明显的振荡行为产生。研究发现,通过瞬态反射各向异性谱可以很好地分辨出由表面引起的光学各向异性和由界面处引起的光学各向异性,能够得到界面处形成缺陷的信息,并且发现了反射各向异性谱和反射谱的信号随着铝组分的不同而发生有规律的变化。 展开更多
关键词 外延生长 金属有机化合物汽相淀积 反射各向异性谱
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MOCVD AlGaAs/GaAs HBT材料生长中基区、发射区结偏位的分析与控制 被引量：1
12
作者 王向武 李肖 +2 位作者 张岚 黄子乾 潘彬 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期546-548,共3页
分析了MOCVDAlGaAs/GaAsHBT外延材料生长中基区、发射区异质结界面与P N结界面产生偏离的原因 ,计算了外延生长参数对结偏离的影响 ,得到了对于C、Mg及Zn作为P型掺杂剂时 ,使得结偏位为 0时所需生长的GaAsspace层厚度 ,它们分别为 1～ 1... 分析了MOCVDAlGaAs/GaAsHBT外延材料生长中基区、发射区异质结界面与P N结界面产生偏离的原因 ,计算了外延生长参数对结偏离的影响 ,得到了对于C、Mg及Zn作为P型掺杂剂时 ,使得结偏位为 0时所需生长的GaAsspace层厚度 ,它们分别为 1～ 1.5nm、3～ 4nm及 12～ 15nm。计算与器件研制结果基本相符。 展开更多
关键词 异质结双极晶体管 金属有机化合物气相淀积 结偏位
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MOCVD生长高Al组分AlGaN材料研究 被引量：1
13
作者 刘波 袁凤坡 +3 位作者 尹甲运 刘英斌 冯震 冯志宏 《微纳电子技术》 CAS 2008年第11期639-642,共4页
报道了用MOCVD在蓝宝石衬底上生长日盲型AlGaN基紫外探测器用的高质量AlN、AlGaN材料。通过优化AlN、AlGaN生长的工艺条件,如生长温度、生长压力及Ⅴ/Ⅲ比等,得到了器件级高质量的AlN、AlGaN外延材料。AlN外延膜X射线双晶衍射ω(002)面... 报道了用MOCVD在蓝宝石衬底上生长日盲型AlGaN基紫外探测器用的高质量AlN、AlGaN材料。通过优化AlN、AlGaN生长的工艺条件,如生长温度、生长压力及Ⅴ/Ⅲ比等,得到了器件级高质量的AlN、AlGaN外延材料。AlN外延膜X射线双晶衍射ω(002)面扫描曲线半高宽为97",ω(102)面扫描曲线半高宽为870",Al0.6Ga0.4N外延膜双晶衍射ω(002)面扫描曲线半高宽为240";使用原子力显微镜(AFM)对两种样品5μm×5μm区域的表面平整度进行了表征,AlN外延膜的粗糙度(Rms)为8.484nm,Al0.6Ga0.4N外延膜的粗糙度为1.104nm;透射光谱测试显示AlN和Al0.6Ga0.4N吸收带边分别为205nm和266nm,且都非常陡峭。 展开更多
关键词 ALGAN 金属有机化学气相淀积 X射线衍射 原子力显微镜 透射光谱
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Si掺杂对MOCVD生长的n型Al_(0.5)Ga_(0.5)N的影响
14
作者 李亮 李忠辉 +4 位作者 董逊 周建军 孔月婵 姜文海 陈辰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期136-139,共4页
采用AlN缓冲层技术在蓝宝石衬底上通过MOCVD方法成功制备出0.5μm的Si掺杂Al0.5Ga0.5N外延薄膜,并对其电学、光学与结构特性进行了研究。Hall测量表明,在室温下n型Al0.5Ga0.5N中的载流子浓度和迁移率分别为1.2×1019cm-3和12cm2/V.... 采用AlN缓冲层技术在蓝宝石衬底上通过MOCVD方法成功制备出0.5μm的Si掺杂Al0.5Ga0.5N外延薄膜,并对其电学、光学与结构特性进行了研究。Hall测量表明,在室温下n型Al0.5Ga0.5N中的载流子浓度和迁移率分别为1.2×1019cm-3和12cm2/V.s。载流子浓度随Si掺杂量的增加而增大。利用XRD和Raman等测量方法研究了Si掺杂Al0.5Ga0.5N薄膜晶格常数c和Raman散射谱随SiH4流量的变化。随着SiH4流量的增大,Al0.5Ga0.5N薄膜的晶格常数c变小同时E2声子峰发生红移,这表明掺Si后Al0.5Ga0.5N薄膜中的压应力得到了一定程度的弛豫。 展开更多
关键词 ALGAN Si掺杂 金属有机化学气相淀积 蓝宝石衬底 外延薄膜
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应用原子层外延技术分析Turbo-Disk MOCVD外延生长模式
15
作者 王浩 廖常俊 +7 位作者 范广涵 刘颂豪 郑树文 李述体 郭志友 孙慧卿 陈贵楚 陈炼辉 《液晶与显示》 CAS CSCD 2004年第2期128-133,共6页
应用原子层外延与分子层外延的理论研究了Turbo DiskMOCVD外延生长过程 ,发现生长主要发生在衬底表面的台阶处 ,当通过控制生长参数达到优质外延时 ,实际上是一种亚原子外延过程 。
关键词 原子层外延法 分子层外延法 金属有机化学气相淀积 参数调整 外延设备 ALE反应装置
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MOCVD生长Mn掺杂GaN薄膜的结构与磁学性能研究
16
作者 崔旭高 张荣 +4 位作者 陶志阔 李鑫 修向前 谢自力 郑有炓 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期129-132,共4页
用MOCVD技术在[0001]取向的蓝宝石衬底上生长出Mn掺杂的GaN薄膜。测试结果表明,Mn掺杂浓度小于2.7%时没有第二相物质出现。Raman谱结果表明,由于Mn离子的介入,替换了Ga位的阳离子,从而使得A1(LO)模的振动峰向低频方向移动。ESR结果表明... 用MOCVD技术在[0001]取向的蓝宝石衬底上生长出Mn掺杂的GaN薄膜。测试结果表明,Mn掺杂浓度小于2.7%时没有第二相物质出现。Raman谱结果表明,由于Mn离子的介入,替换了Ga位的阳离子,从而使得A1(LO)模的振动峰向低频方向移动。ESR结果表明,二价的Mn离子替换了三价的Ga离子,尽管如此,薄膜还是仅仅表现出顺磁性。通过Brillouin函数拟合以及ESR结果综合考虑可得,Mn在GaN晶格中的存在状态是孤立的二价顺磁性离子。 展开更多
关键词 锰掺杂氮化稼 金属有机化学气相淀积 磁性
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MOCVD外延生长AlGaAs组份的在线监测
17
作者 王鹏程 徐华伟 +1 位作者 张金龙 宁永强 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第9期985-990,共6页
利用反射各向异性谱(RAS)和反射谱在线监测了AlxGa1-xAs样品的金属有机化合物汽相淀积(MOCVD)外延生长过程。通过在线监测得到的RAS和反射谱可以敏感地反映出AlxGa1-xAs外延层组份发生的变化,从而优化外延生长工艺。实验表明,反射谱中... 利用反射各向异性谱(RAS)和反射谱在线监测了AlxGa1-xAs样品的金属有机化合物汽相淀积(MOCVD)外延生长过程。通过在线监测得到的RAS和反射谱可以敏感地反映出AlxGa1-xAs外延层组份发生的变化,从而优化外延生长工艺。实验表明,反射谱中的振荡周期可以在线计算组份和生长速率,利用反射谱中的振荡的第一个最小值与Al组份的线性关系,可以确定渐变组份初始值。通过在线计算得到的生长速率和组份与扫描电镜(SEM)和高分辨X射线衍射(HRXRD)测试得到的结果基本吻合。 展开更多
关键词 Ⅲ-Ⅴ族半导体化合物 外延生长 金属有机化合物汽相淀积 反射各向异性谱
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MOCVD在位监测技术及其在VCSEL研制中的应用
18
作者 俞波 邓军 +7 位作者 韩军 盖红星 牛南辉 形艳辉 廉鹏 郭霞 渠宏伟 沈光地 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期535-538,共4页
使用MOCVD技术生长了 980nmVCSEL ,在GaAs/AlGaAsDBR对的生长过程中通过相干反射率测量方法实现了在位监测和实时校正生长。白光反射谱测量结果表明通过上述手段准确控制了外延层的光学厚度。外延生长结束后 ,制备了 980nmVCSEL ,器件... 使用MOCVD技术生长了 980nmVCSEL ,在GaAs/AlGaAsDBR对的生长过程中通过相干反射率测量方法实现了在位监测和实时校正生长。白光反射谱测量结果表明通过上述手段准确控制了外延层的光学厚度。外延生长结束后 ,制备了 980nmVCSEL ,器件在室温下连续工作 ,输出功率为 7.1mW ,激射波长为 974nm ,斜率效率为 0 .4 6 2mW/mA。 展开更多
关键词 金属有机化合物汽相淀积 垂直腔面发射激光器 分布式Bragg反射
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GaN系半导体材料生长的MOCVD控制系统设计与实现 被引量：1
19
作者 赵恒 杜凯 《陕西理工学院学报（自然科学版）》 2005年第3期28-32,共5页
针对MOCVD系统工艺及控制要求,设计了MOCVD控制系统。采用PLC作为核心控制器,负责各类输入输出信号的控制,进行数据处理,控制半导体材料生长。同时采用W inCC组态软件设计上位监控系统。经过近一年运行,MOCVD控制系统运行状况良好,控制... 针对MOCVD系统工艺及控制要求,设计了MOCVD控制系统。采用PLC作为核心控制器,负责各类输入输出信号的控制,进行数据处理,控制半导体材料生长。同时采用W inCC组态软件设计上位监控系统。经过近一年运行,MOCVD控制系统运行状况良好,控制系统具有高可靠性、抗干扰能力强、控制精度高等特点,满足系统控制要求,保证了材料生长顺利进行。 展开更多
关键词 金属有机化合物化学气相淀积 可编程控制器 渐变控制 温度控制
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MOCVD技术及其源材料
20
作者 段树坤 《低温与特气》 CAS 1984年第2期26-35,共10页
外延生长技术是制备半导体材科，特别是半导体器件的重要方法之一，用外延方法可以制作某些结构复杂的半导体器件。半导体材料和器件这种需要促使多种外延技术得到了发展和应用。其中包括汽相外延(VPE)、液相外延(LPE)和分子束外延(MBE... 外延生长技术是制备半导体材科，特别是半导体器件的重要方法之一，用外延方法可以制作某些结构复杂的半导体器件。半导体材料和器件这种需要促使多种外延技术得到了发展和应用。其中包括汽相外延(VPE)、液相外延(LPE)和分子束外延(MBE)。汽相外延生长中又可依据原料的不同分为氯化物工艺、氢化物工艺和MOCVD工艺(金属有机化合物化学汽相淀积)。 展开更多
关键词 mocvd技术 金属有机化合物 mocvd工艺 半导体器件 外延生长技术 汽相外延生长 化学汽相淀积 半导体材料 分子束外延 外延技术 液相外延 氯化物 氢化物
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